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北京半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2020-02-22

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,,UV固化,,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn),。北京半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,,用于光學(xué)對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項

外部浮雕和冷卻站


EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù):

加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,,100毫米

比較大接觸力:10、20,、60 kN

比較高溫度:標準:350°C,;可選:550°C

夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標準:0.1毫巴


可選:0.00001 mbar


江西納米壓印美元報價EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,,可用于**小50 nm的特征尺寸,。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。


EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員,。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,,將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合,。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”,,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回,。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果:

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新,。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源:EVG與SwissLitho

AG合作(歐盟項目SNM)

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源:EVG

3.高縱橫比(7:1)的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,厚度約為10 nm

資料來源:EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源:EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源:EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源:EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源:EVG(歐盟Saphely項目)

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源:EVG **小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,,這對于實現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要,。

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),,幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。我們愿意與您共同進步。


HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn),。半導(dǎo)體納米壓印測樣

EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復(fù)制(制造)的***選擇。北京半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),,可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,,大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。 北京半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,,各種專業(yè)設(shè)備齊全,。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗,熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。公司以用心服務(wù)為重點價值,希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力,,將磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】等業(yè)務(wù)進行到底。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā)。