FSM 413 紅外干涉測量設(shè)備

關(guān)鍵詞：厚度測量，光學(xué)測厚,，非接觸式厚度測量,，硅片厚度，氮化硅厚度,，激光測厚,，近紅外光測厚，TSV, CD, Trench,，砷化鎵厚度,，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度,，聚合物厚度, 背磨厚度,，上下兩個(gè)測試頭。Michaelson干涉法,，翹曲變形,。    

如果您對該產(chǎn)品感興趣的話，可以給我留言,！

產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測量設(shè)備

·       產(chǎn)品型號：FSM 413EC, FSM 413MOT,，F(xiàn)SM 413SA DP，F(xiàn)SM413C2C, FSM 8108 VITE C2C

如果您需要更多的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器,。 一般較短波長 (例如， F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,，而較長波長可以測量更厚,、更不平整和更不透明的薄膜。氮化鎵膜厚儀參數(shù)

F10-ARc

獲得**精確的測量.自動(dòng)基準(zhǔn)功能**增加基準(zhǔn)間隔時(shí)間, 量測準(zhǔn)確性優(yōu)於其他光纖探頭反射測量系統(tǒng)5倍可選擇UPG - F10-AR - HC軟件升級 測量0.25-15μm硬涂層的厚度. 即使在防反射涂層存在時(shí)仍可測量硬涂層厚度我們***探頭設(shè)計(jì)可排除98％背面反射,當(dāng)鏡片比1.5mm 更厚時(shí), 可排除比例更高修正了硬膜層造成的局部反射扭曲現(xiàn)象,。

F10-ARc：200nm - 15μm** 380-1050nm

當(dāng)您需要技術(shù)支援致電我們的應(yīng)用工程師,，提供即時(shí)的24小時(shí)援助（週一至週五）網(wǎng)上的 “手把手” 

支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃 重慶膜厚儀摩擦學(xué)應(yīng)用可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。

自動(dòng)厚度測量系統(tǒng)幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測繪,。人工加載或機(jī)器人加載均可,。

在線厚度測量系統(tǒng)監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個(gè)測量位置得到,。

附件Filmetrics 提供各種附件以滿足您的應(yīng)用需要,。

F20 系列世界上****的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)只需按下一個(gè)按鈕，您在不到一秒鐘的同時(shí)測量厚度和折射率,。設(shè)置同樣簡單, 只需插上設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口, 并連接樣品平臺 , F20已在世界各地有成千上萬的應(yīng)用被使用. 事實(shí)上,，我們每天從我們的客戶學(xué)習(xí)更多的應(yīng)用.

選擇您的F20主要取決於您需要測量的薄膜的厚度（確定所需的波長范圍）

不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造，F(xiàn)ilmetrics 都能夠提供您所需要的...測量液晶層- 聚酰亞胺,、硬涂層,、液晶、間隙測量有機(jī)發(fā)光二極管層- 發(fā)光,、電注入,、緩沖墊、封裝對于空白樣品,，我們建議使用 F20 系列儀器,。 對于圖案片，F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應(yīng)用***使用,。

測量范例此案例中,，我們成功地測量了藍(lán)寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度,。與Filmetrics專有的ITO擴(kuò)散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器，可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時(shí)測量透射率和反射率以確定厚度,，折射率,，消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴(kuò)散,，這個(gè)擴(kuò)展的波長范圍是必要的,。 F50-EXR測厚范圍：20nm-250μm；波長：380-1700nm,。

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜,。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無吸收性 (k=0),， 而且非常接近化學(xué)計(jì)量 (就是說，硅：氧非常接近 1:2),。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范,，通常被用來做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度,。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,，因?yàn)楣瑁旱嚷释ǔ２皇?：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時(shí)測量。 更麻煩的是,，氧常常滲入薄膜,，生成一定程度的氮氧化硅，增大測量難度,。 但是幸運(yùn)的是,，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!只需按下一個(gè)按鈕，您在不到一秒鐘的同時(shí)測量厚度和折射率,。Filmetrics Profilm3D膜厚儀技術(shù)服務(wù)

重復(fù)性: 0.1 μm (1 sigma)單探頭* ,；0.8 μm (1 sigma)雙探頭*。氮化鎵膜厚儀參數(shù)

F60 系列生產(chǎn)環(huán)境的自動(dòng)測繪Filmetrics F60-t 系列就像我們的 F50產(chǎn)品一樣測繪薄膜厚度和折射率,，但它增加了許多用于生產(chǎn)環(huán)境的功能,。 這些功能包括凹槽自動(dòng)檢測、自動(dòng)基準(zhǔn)確定,、全封閉測量平臺,、預(yù)裝軟件的工業(yè)計(jì)算機(jī),，以及升級到全自動(dòng)化晶圓傳輸?shù)臋C(jī)型,。

不同的 F60-t 儀器根據(jù)波長范圍加以區(qū)分。 較短的波長 (例如,， F60-t-UV) 一般用于測量較薄的薄膜,，而較長的波長則可以用來測量更厚,、更不平整以及更不透明的薄膜。 

包含的內(nèi)容：集成平臺/光譜儀/光源裝置（不含平臺）4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈 氮化鎵膜厚儀參數(shù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),，各種專業(yè)設(shè)備齊全。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,，致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值,，希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力,，將磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。誠實(shí),、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。