SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,，可實現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù),。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。廣東納米壓印優(yōu)惠價格

    據(jù)外媒報道,，美國威斯康星大學麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們,，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能,、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝,，還克服了許多使用標準技術(shù)制造設(shè)備時所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場,。研究人員稱，這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管,。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管,。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問題,。光學鏡頭納米壓印用于生物芯片分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版,。

    NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關(guān)重要,。通過攜手合作,，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性?！痹诖酥?，使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步,。不過,，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力,。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究,、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求,，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證,，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月,，EVG推出了HERCULES?NIL300mm,，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR,、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學器件以及3D傳感器,、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學和等離子電子學,。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?,。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù),，在100毫米范圍內(nèi),。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù),。操作員友好型軟件,，**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,，例如真空,，軟，硬和接近曝光模式,，以及背面對準選項,。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,，包括鍵對準和納米壓印光刻,。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。

SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點,。

為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能,，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位,。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,，固化時間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。山西納米壓印高性價比選擇

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。廣東納米壓印優(yōu)惠價格

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm,。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,，還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力,，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

廣東納米壓印優(yōu)惠價格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利,，環(huán)境優(yōu)美,，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責任公司企業(yè),，一直“以人為本,，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針,。以滿足顧客要求為己任,；以顧客永遠滿意為標準；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標,，提供***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念，打造高指標的服務(wù),，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展,。