我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換,。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,，以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動(dòng)到自動(dòng)基片處理,，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)升級(jí),。此外，所有掩模對(duì)準(zhǔn)器都支持EVG專(zhuān)有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備,，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)我們的官網(wǎng)，或者直接聯(lián)系我們,。 EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,，能夠深入了解他們的獨(dú)特需求。安徽光刻機(jī)代理價(jià)格

EVG770自動(dòng)UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板，里面完全裝有微透鏡模具,，每個(gè)模具都采用分步重復(fù)的方法從一個(gè)透鏡模板中復(fù)制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開(kāi)始，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級(jí)相機(jī)模塊,。

IQ Aligner自動(dòng)UV-NIL納米壓印系統(tǒng)，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù),。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合,。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專(zhuān)業(yè)知識(shí),。

EVG40 NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測(cè)量，計(jì)量對(duì)于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要,。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測(cè)量和透鏡疊層對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證，以及許多其他應(yīng)用,。 寧夏光刻機(jī)推薦廠家EVG光刻機(jī)設(shè)備,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具,。

EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620 NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；EVG6200 NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQ Aligner 自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQ Aligner NT自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；

【EVG ® 610掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)】EVG

® 610是一個(gè)緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達(dá)200毫米的晶片,。

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空,，硬,，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對(duì)準(zhǔn)功能,。此外,，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶(hù)需求的變化，轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘,。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

EVG鍵合機(jī)掩模對(duì)準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用**/先進(jìn)的工程技術(shù),。

用戶(hù)對(duì)接近式對(duì)準(zhǔn)器的主要需求由幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對(duì)準(zhǔn)精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對(duì)應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn)。此外,，整個(gè)晶圓表面的高光強(qiáng)度和均勻性是設(shè)計(jì)和不斷增強(qiáng)EVG掩模對(duì)準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時(shí)需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動(dòng)了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進(jìn)的系統(tǒng),。 EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標(biāo)準(zhǔn),。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個(gè)高容量的平臺(tái)整合整個(gè)光刻工藝流在一個(gè)系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持,。

HERCULES基于模塊化平臺(tái),，將EVG建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚,，彎曲度高,，矩形，小直徑的晶圓,，甚至可以處理設(shè)備托盤(pán),。精密的頂側(cè)和底側(cè)對(duì)準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用。出色的對(duì)準(zhǔn)臺(tái)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對(duì)準(zhǔn)和曝光結(jié)果,。

HERCULES光刻機(jī)系統(tǒng)：全自動(dòng)光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計(jì)，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力。天津低溫光刻機(jī)

HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理,。安徽光刻機(jī)代理價(jià)格

我們的研發(fā)實(shí)力。

EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,，讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求,。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和**/大的靈活性，使大學(xué),、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目,。此外，研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,，這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈,。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,，研發(fā)才具有價(jià)值,，也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。 安徽光刻機(jī)代理價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營(yíng)品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù),，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,，該公司其他型的公司。是一家有限責(zé)任公司企業(yè),，隨著市場(chǎng)的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,，與多家企業(yè)合作研究,，在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過(guò)不斷改進(jìn)，追求新型,，在強(qiáng)化內(nèi)部管理,，完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時(shí)，良好的質(zhì)量,、合理的價(jià)格,、完善的服務(wù)，在業(yè)界受到寬泛好評(píng),。以滿足顧客要求為己任,；以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn)；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),，提供***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念，打造高指標(biāo)的服務(wù),，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展,。