掘進(jìn)機(jī)常見(jiàn)故障分析及處理方法
懸臂式掘進(jìn)機(jī)與全斷面掘進(jìn)機(jī)的區(qū)別
正確使用采煤機(jī)截齒及其重要性
掘進(jìn)機(jī)截齒:礦山開(kāi)采的鋒銳利器
掘進(jìn)機(jī)的多樣類型與廣闊市場(chǎng)前景
怎么樣對(duì)掘進(jìn)機(jī)截割減速機(jī)進(jìn)行潤(rùn)滑呢?
哪些因素會(huì)影響懸臂式掘進(jìn)機(jī)配件的性能,?
懸臂式掘進(jìn)機(jī)常見(jiàn)型號(hào)
懸臂式掘進(jìn)機(jī)的相關(guān)介紹及發(fā)展現(xiàn)狀
掘錨機(jī)配件的檢修及維護(hù)
EVG320技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
200,、100-300毫米
清潔系統(tǒng)
開(kāi)室,旋轉(zhuǎn)器和清潔臂
腔室:由PP或PFA制成(可選)
清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),,其他清潔介質(zhì)(可選)
旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(選件),,由不含金屬離子的清潔材料制成
旋轉(zhuǎn):蕞高3000rpm(5秒內(nèi))
超音速噴嘴
頻率:1MHz(3MHz選件)
輸出功率:30-60W
去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘
有效清潔區(qū)域:?4.0mm
材質(zhì):聚四氟乙烯
兆聲區(qū)域傳感器
可選的
頻率:1MHz(3MHz選件)
輸出功率:蕞大2.5W/cm2有效面積(蕞大輸出200W)
去離子水流量:蕞高1.5升/分鐘
有效的清潔區(qū)域:三角形,確保每次旋轉(zhuǎn)時(shí)整個(gè)晶片的輻射均勻性
材質(zhì):不銹鋼和藍(lán)寶石
刷的參數(shù):
材質(zhì):PVA
可編程參數(shù):刷子和晶圓速度(rpm)
可調(diào)參數(shù)(刷壓縮,,介質(zhì)分配)
自動(dòng)化晶圓處理系統(tǒng)
掃描區(qū)域兼容晶圓處理機(jī)器人領(lǐng)域EVG320,,使24小時(shí)自動(dòng)化盒對(duì)盒或FOUP到FOUP操作,達(dá)到蕞高吞吐量,。與晶圓接觸的表面不會(huì)引起任何金屬離子污染,。
可選功能:ISO3mini-environment(根據(jù)ISO14644) EVG服務(wù):高真空對(duì)準(zhǔn)鍵合,、集體D2W鍵合、臨時(shí)鍵合和熱,、混合鍵合,、機(jī)械或者激光剖離、黏合劑鍵合,。EVG610鍵合機(jī)免稅價(jià)格
EVG的晶圓鍵合機(jī)鍵合室配有通用鍵合蓋,,可快速排空,快速加熱和冷卻,。通過(guò)控制溫度,,壓力,時(shí)間和氣體,,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過(guò)程,。也可以通過(guò)添加電源來(lái)執(zhí)行陽(yáng)極鍵合。對(duì)于UV固化黏合劑,,可選的鍵合室蓋具有UV源,。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行。頂部和底部晶片的**溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),,從而實(shí)現(xiàn)無(wú)應(yīng)力黏合和出色的溫度均勻性,。在不需要重新配置硬件的情況下,可以在真空下執(zhí)行SOI / SDB(硅的直接鍵合)預(yù)鍵合,。
以上的鍵合機(jī)由岱美儀器供應(yīng)并提供技術(shù)支持,。 低溫鍵合機(jī)用途是什么EVG鍵合機(jī)使用直接(實(shí)時(shí))或間接對(duì)準(zhǔn)方法,能夠支持大量不同的對(duì)準(zhǔn)技術(shù),。
BONDSCALE與EVG的行業(yè)基準(zhǔn)GEMINIFBXT自動(dòng)熔融系統(tǒng)一起出售,,每個(gè)平臺(tái)針對(duì)不同的應(yīng)用。雖然BONDSCALE將主要專注于工程化的基板鍵合和層轉(zhuǎn)移處理,,但GEMINIFBXT將支持要求更高對(duì)準(zhǔn)精度的應(yīng)用,,例如存儲(chǔ)器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),,背面照明的CMOS圖像傳感器堆疊以及管芯分區(qū),。
特征:
在單個(gè)平臺(tái)上的200mm和300mm基板上的全自動(dòng)熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用
通過(guò)等離子活化的直接晶圓鍵合,可實(shí)現(xiàn)不同材料,,高質(zhì)量工程襯底以及薄硅層轉(zhuǎn)移應(yīng)用的異質(zhì)集成
支持邏輯縮放,,3D集成(例如M3),3DVLSI(包括背面電源分配),,N&P堆棧,,內(nèi)存邏輯,集群功能堆棧以及超越CMOS的采用的層轉(zhuǎn)移工藝和工程襯底
BONDSCALE?自動(dòng)化生產(chǎn)熔融系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸):200、300毫米
蕞高數(shù)量或過(guò)程模塊8通量
每小時(shí)蕞多40個(gè)晶圓
處理系統(tǒng)
4個(gè)裝載口
特征:
多達(dá)八個(gè)預(yù)處理模塊,,例如清潔模塊,,LowTemp?等離子活化模塊,對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證模塊和解鍵合模塊
XT框架概念通過(guò)EFEM(設(shè)備前端模塊)實(shí)現(xiàn)蕞高吞吐量
光學(xué)邊緣對(duì)準(zhǔn)模塊:Xmax/Ymax=18μm3σ
EVG?850LT的LowTemp?等離子激/活模塊 2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體:N2和O2以及2種其他工藝氣體:高純度氣體(99.999%),,稀有氣體(Ar,,He,Ne等)和形成氣體(N2,,Ar含量蕞/高為4%的氣體)2) 通用質(zhì)量流量控制器:蕞多可對(duì)4種工藝氣體進(jìn)行自校準(zhǔn),,可對(duì)配方進(jìn)行編程,流速蕞/高可達(dá)到20.000sccm 真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件),,高頻RF發(fā)生器和匹配單元 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),,超音速噴嘴,超音速面積傳感器,,噴嘴,,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成 清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),NH4OH和H2O2(蕞/大),。2%濃度(可選) 旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(選件),,由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉(zhuǎn):蕞/高3000rpm(5s) 清潔臂:蕞多5條介質(zhì)線(1個(gè)超音速系統(tǒng)使用2條線) 可選功能 ISO3mini-environment(根據(jù)ISO14644) LowTemp?等離子活化室 紅外檢查站EVG 晶圓鍵合機(jī)上的鍵合過(guò)程是怎么樣的呢?
EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片,。該工具支持所有常見(jiàn)的晶圓鍵合工藝,如陽(yáng)極,,玻璃料,焊料,,共晶,,瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),,讓用戶能快速,,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘,。這種多功能性非常適合大學(xué),,研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn)。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM(量產(chǎn))工具上是相同的,,例如GEMINI,,鍵合程序很容易轉(zhuǎn)移,這樣可以輕松擴(kuò)大生產(chǎn)量,。以上應(yīng)用工藝也讓MEMS器件,RF濾波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS圖像傳感器)的生產(chǎn)迅速增長(zhǎng),。河北鍵合機(jī)技術(shù)支持
EVG的GEMINI FB XT集成熔融鍵合系統(tǒng),,擴(kuò)展了現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn),,并擁有更高的生產(chǎn)率,更高的對(duì)準(zhǔn)和涂敷精度,。EVG610鍵合機(jī)免稅價(jià)格
ComBond自動(dòng)化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng),,高真空晶圓鍵合平臺(tái)促進(jìn)“任何物上的任何東西”的共價(jià)鍵合特色技術(shù)數(shù)據(jù),EVGComBond高真空晶圓鍵合平臺(tái)標(biāo)志著EVG獨(dú)特的晶圓鍵合設(shè)備和技術(shù)產(chǎn)品組合中的一個(gè)新里程碑,,可滿足市場(chǎng)對(duì)更復(fù)雜的集成工藝的需求ComBond支持的應(yīng)用領(lǐng)域包括先進(jìn)的工程襯底,,堆疊的太陽(yáng)能電池和功率器件到**MEMS封裝,高性能邏輯和“beyondCMOS”器件ComBond系統(tǒng)的模塊化集群設(shè)計(jì)提供了高度靈活的平臺(tái),,可以針對(duì)研發(fā)和高通量,,大批量制造環(huán)境中的各種苛刻的客戶需求量身定制ComBond促進(jìn)了具有不同晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)(CTE)的異質(zhì)材料的鍵合,并通過(guò)其獨(dú)特的氧化物去除工藝促進(jìn)了導(dǎo)電鍵界面的形成ComBond高真空技術(shù)還可以實(shí)現(xiàn)鋁等金屬的低溫鍵合,,這些金屬在周圍環(huán)境中會(huì)迅速重新氧化,。對(duì)于所有材料組合,都可以實(shí)現(xiàn)無(wú)空隙和無(wú)顆粒的鍵合界面以及出色的鍵合強(qiáng)度,。EVG610鍵合機(jī)免稅價(jià)格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司一直專注于磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】,,是一家儀器儀表的企業(yè),擁有自己**的技術(shù)體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工,,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺(tái)與成長(zhǎng)空間,為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),深受員工與客戶好評(píng),。誠(chéng)實(shí),、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求,也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的磁記錄,,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),,測(cè)試儀器的批發(fā),。一直以來(lái)公司堅(jiān)持以客戶為中心、磁記錄,,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)市場(chǎng)為導(dǎo)向,,重信譽(yù),,保質(zhì)量,想客戶之所想,,急用戶之所急,,全力以赴滿足客戶的一切需要。