EVG ® 120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當(dāng)潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的,，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng),。

新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì),，并帶有新開發(fā)的化學(xué)柜,，可用于外部存儲(chǔ)化學(xué)品，同時(shí)提供更高的通量能力,，針對(duì)大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化,，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn),，擁有成本卻非常低。

EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年,，能夠深入了解他們的獨(dú)特需求,。中國香港光刻機(jī)高級(jí)封裝應(yīng)用

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征：

生產(chǎn)平臺(tái)以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì)；

多功能平臺(tái)支持各種形狀,，尺寸,，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動(dòng)處理；

高達(dá)52,000 cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征,；

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層；

納流®涂布,，并通過結(jié)構(gòu)的保護(hù),；

自動(dòng)面膜處理和存儲(chǔ)；

光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒,；

使用橋接工具系統(tǒng)對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理；

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng),；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）。 甘肅ABM光刻機(jī)EVG光刻機(jī)設(shè)備,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具。

EVG ® 150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)

EVG ® 150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米,。

EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺(tái),，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性,。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray 技術(shù)進(jìn)行均勻涂覆，而傳統(tǒng)的旋涂技術(shù)則受到限制,。

EVG ® 150特征：

晶圓尺寸可達(dá)300毫米

多達(dá)六個(gè)過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達(dá)二十個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆

多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征：

晶圓尺寸可達(dá)300毫米,；

自動(dòng)旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過手動(dòng)晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影,；

利用成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,，快速輕松地將過程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn)；

注射器分配系統(tǒng),，用于利用小體積的光刻膠,，包括高粘度光刻膠；

占地面積小,，同時(shí)保持較高的人身和流程安全性,；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）,。

選項(xiàng)功能：

使用OmniSpray®涂層技術(shù)對(duì)高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層；

蠟和環(huán)氧涂層,，用于后續(xù)粘合工藝,；

玻璃旋涂（SOG）涂層。

可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。

EVG ® 150特征：晶圓尺寸可達(dá)300毫米

多達(dá)6個(gè)過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達(dá)20個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆

多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層，噴涂,，NanoCoat?,，顯影，烘烤/冷卻/蒸氣/上等

EV集團(tuán)專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,，當(dāng)涉及到極端地形的保形涂層

可選的NanoSpray?模塊實(shí)現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,，長(zhǎng)寬比**/高為1:10，垂直側(cè)壁

廣/泛的支持材料

烘烤模塊溫度高達(dá)250°C

Megasonic技術(shù)用于清潔,，聲波化學(xué)處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時(shí)間從數(shù)小時(shí)縮短至數(shù)分鐘

HERCULES光刻機(jī)系統(tǒng)：全自動(dòng)光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計(jì)，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力,。甘肅功率器件光刻機(jī)

EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（自動(dòng)化和半自動(dòng)化）支持的晶圓尺寸 ：150 mm / 200 mm。中國香港光刻機(jī)高級(jí)封裝應(yīng)用

EVG ® 620 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動(dòng)/自動(dòng)）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在**小化的占位面積,，支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在**小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn),。擁有操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持,，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 中國香港光刻機(jī)高級(jí)封裝應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型的公司,。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié),，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年,，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì),、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍,，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮,、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,。