IQ Aligner®NT曝光設定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能：自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）

大間隙對準

跳動控制對準

IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，FR,，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

如果您需要確認準確的產品的信息,，請聯系我們,。如果需要鍵合機，請看官網信息,。 EVG光刻機關注未來市場趨勢 - 例如光子學 ,、光學3D傳感- 并為這些應用開發(fā)新的方案和調整現有的解決方案。中國澳門光刻機優(yōu)惠價格

EVG6200 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL）

EVG6200 NT技術數據：

曝光源

汞光源/紫外線LED光源

先進的對準功能

手動對準/原位對準驗證

自動對準

動態(tài)對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

EVG6200 NT產能：

全自動：第/一批生產量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對準方式：

上側對準：≤±0.5 μm

底側對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±3.0 μm

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，FR，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲,，翹曲,，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術：SmartNIL MEMS光刻機推薦產品可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用，包括高級封裝,，化合物半導體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：

智能過程控制和數據分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能：

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

模塊數：

工藝模塊：2

烘烤/冷卻模塊：**多10個

工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

分配選項：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

IQ Aligner®NT技術數據：

產能：

全自動：首/次生產量印刷：每小時200片

全自動：吞吐量對準：每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，晶圓邊緣處理

智能過程控制和數據分析功能（框架SW平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

對準方式：

頂部對準：≤±0,25 μm

底側對準：≤±0.5 μm

紅外對準：≤±2,0 μm /取決于基材 EVG同樣為客戶提供量產型掩模對準系統(tǒng),。

集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合,。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”，在這里將經過預處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結構化的經過處理的晶圓,。目前可以預定的型號為：HERCULES。請訪問官網獲取更多的信息,。

EVG鍵合機掩模對準系列產品,，使用的是**/先進的工程工藝。MEMS光刻機供應商家

EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度,，尺寸,，形狀的晶圓和基片。中國澳門光刻機優(yōu)惠價格

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度,，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率,。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢，因為不需要預熱或冷卻,。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設置,。此外，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術消除了對汞燈經常需要的額外設施（廢氣,，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性,。中國澳門光刻機優(yōu)惠價格

岱美儀器技術服務（上海）有限公司一直專注于磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目,，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體,、光通訊生產及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務,，國際貿易,、轉口貿易，商務信息咨詢服務,。 【依法須經批準的項目,，經相關部門批準后方可開展經營活動】，是一家儀器儀表的企業(yè),，擁有自己**的技術體系,。公司目前擁有專業(yè)的技術員工，為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,，為客戶提供高質的產品服務,，深受員工與客戶好評。誠實,、守信是對企業(yè)的經營要求,，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,，半導體,，光通訊生產，測試儀器的批發(fā),。公司憑著雄厚的技術力量,、飽滿的工作態(tài)度,、扎實的工作作風、良好的職業(yè)道德,，樹立了良好的磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)形象,，贏得了社會各界的信任和認可。