EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項

預(yù)對準：光學(xué)/機械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。EVG620 NT光刻機

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實現(xiàn)了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,，有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗

手動基板裝載能力

遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準–透射和/或反射

IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù)：

楔形補償：全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準,；跳動控制對準；動態(tài)對準 青海光刻機優(yōu)惠價格EVG光刻機設(shè)備,，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,，并輔以其用于從上到下側(cè)對準驗證的計量工具。

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620 NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng),；EVG6200 NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng),；IQ Aligner NT自動掩模對準系統(tǒng),；

【EVG ® 610掩模對準系統(tǒng)】EVG

® 610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng)，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片,。

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝,，例如真空，硬,，軟和接近曝光模式,，并可選擇背面對準功能。此外,，該系統(tǒng)還提供其他功能,，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,，可滿足用戶需求的變化,，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求,，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用,。

EVG620 NT特征2：

自動原點功能，用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

支持**/新的UV-LED技術(shù)

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

EVG620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL） EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻,，以提高**重要的光刻技術(shù)的水平。

我們的研發(fā)實力,。

EVG已經(jīng)與研究機構(gòu)合作超過35年,，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和**/大的靈活性,，使大學(xué)、研究機構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應(yīng)用項目,。此外,，研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境,。以客戶的需求為導(dǎo)向，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力,。 IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。海南光刻機傳感器應(yīng)用

EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有：Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口,。EVG620 NT光刻機

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征：

生產(chǎn)平臺以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢；

多功能平臺支持各種形狀,，尺寸,，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理；

高達52,000 cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征,；

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性,；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層；

納流®涂布,，并通過結(jié)構(gòu)的保護,；

自動面膜處理和存儲；

光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒,；

使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進行易碎,，薄或翹曲的晶圓處理；

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng),；

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）,。 EVG620 NT光刻機

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),，是儀器儀表的主力軍,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,，始終關(guān)注客戶，創(chuàng)新科技,，竭誠為客戶提供良好的服務(wù),。