掩模對準系統(tǒng)：EVG的發(fā)明,，例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統(tǒng),，開創(chuàng)了頂面和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例,，并設(shè)定了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器產(chǎn)品來增強這些**光刻技術(shù)，從而在這些領(lǐng)域做出了貢獻,。

EVG的掩模對準系統(tǒng)可容納尺寸**/大,，尺寸和形狀以及厚度**/大為300 mm的晶片和基板，旨在為高級應(yīng)用提供先進的自動化程度和研發(fā)靈活性的復(fù)雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經(jīng)過現(xiàn)場驗證,，并已安裝在全球的生產(chǎn)設(shè)施中,，以支持眾多應(yīng)用，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS制造,。 可以使用用于壓印光刻的工具,，例如紫外光納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷。上海光刻機微流控應(yīng)用

EVG6200 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL）

EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

曝光源

汞光源/紫外線LED光源

先進的對準功能

手動對準/原位對準驗證

自動對準

動態(tài)對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

EVG6200 NT產(chǎn)能：

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底側(cè)對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±3.0 μm

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL 上海光刻機微流控應(yīng)用IQ Aligner NT 光刻機系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項

預(yù)對準：光學(xué)/機械

ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

此外，EVG光刻機不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求,。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點，包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗,，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化,。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。只有接近客戶，才能得知客戶**真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。岱美是EVG光刻機在中國的代理商，提供本地化的質(zhì)量服務(wù),。

這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,，這不僅需要高度的靈活性，而且需要可控和可重復(fù)的處理,。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,，并將這些知識技能整合到EVG100系列中，可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持,。

光刻膠處理設(shè)備有：EVG101光刻膠處理,，EVG105光刻膠烘焙機，EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng),；EVG150 光刻膠處理自動化系統(tǒng),。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù)，請聯(lián)系我們,，我們會給您提供**/新的資料,。或者訪問我們的官網(wǎng)獲取相關(guān)信息,。

HERCULES光刻機系統(tǒng)：全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力,。晶圓光刻機LED應(yīng)用

EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。上海光刻機微流控應(yīng)用

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加,?！?“*從今年年初開始，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),，以進行大批量生產(chǎn),。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位，同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機會,?！?

      業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標的計劃，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口,。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,，下一代智能手機中正在設(shè)計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,，指紋傳感器,，虹膜掃描儀，激光二極管發(fā)射器，激光測距儀和生物傳感器,?？傮w而言，光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,，復(fù)合年增長率超過11％*,。 上海光刻機微流控應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家專業(yè)的磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】公司,。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等,。公司以用心服務(wù)為重點價值,，希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力，將磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】等業(yè)務(wù)進行到底。誠實,、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),。