EVG120特征2：
先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產量,；
工藝技術卓/越和開發(fā)服務：
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]
用于過程和機器控制的集成分析功能
設備和過程性能跟/蹤功能,；
并行/排隊任務處理功能,；
智能處理功能；
發(fā)生和警報分析,；
智能維護管理和跟/蹤,；
技術數(shù)據(jù)：
可用模塊；
旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā),；
烤/冷,；
晶圓處理選項：
單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉；
彎曲/翹曲/薄晶圓處理,。
新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。IQ Aligner光刻機代理價格
EVG620 NT技術數(shù)據(jù)：
曝光源：
汞光源/紫外線LED光源
先進的對準功能：
手動對準/原位對準驗證
自動對準
動態(tài)對準/自動邊緣對準
對準偏移校正算法
EVG620 NT產量:
全自動：第/一批生產量：每小時180片
全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓
晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米
對準方式：
上側對準：≤±0.5 μm
底側對準：≤±1,0 μm
紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材
鍵對準：≤±2,0 μm
NIL對準：≤±3.0 μm
曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補償：全自動軟件控制
曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制：
操作系統(tǒng)：Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR
實時遠程訪問，診斷和故障排除
工業(yè)自動化功能：
盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲,，翹曲，邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術：SmartNIL ® 江西光刻機服務為先HERCULES可以配置成處理彎曲,，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。
EVG ® 150特征2：
先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產量
處理厚或超薄,，易碎,，彎曲或小直徑的晶圓
用于旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會
EFEM（設備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）
工藝技術卓/越和開發(fā)服務：
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]
用于過程和機器控制的集成分析功能
設備和過程性能跟/蹤功能
并行/排隊任務處理功能
智能處理功能
發(fā)生和警報分析
智能維護管理和跟/蹤
曝光光學：提供不同配置的曝光光學系統(tǒng),，旨在實現(xiàn)任何應用的**/大靈活性,。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150，200和300 mm基片進行了優(yōu)化,，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,，例如i-，g-和h-線濾光片,，甚至還有深紫外線,。 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng)，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準,。
EVG620 NT或完全容納的EVG620
NT Gen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如,，對薄而厚的光刻膠進行曝光,，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
EVG620 NT特征：
晶圓/基板尺寸從小到150 mm /
6''
系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性
易碎,，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,，更換時間短
帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列 HERCULES以**小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢。中科院光刻機用途是什么
了解客戶需求和有效的全球支持,，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎,。IQ Aligner光刻機代理價格
EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)
主要應用：研發(fā)和小規(guī)模生產中的單晶圓光刻膠加工
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝，與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,，并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應用,。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術，在互連技術的3D結構晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層,。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,，同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這**地節(jié)省了用戶的成本,。
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岱美儀器技術服務（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑。公司業(yè)務分為磁記錄,，半導體，光通訊生產,，測試儀器的批發(fā)等,，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產品和服務,。公司從事儀器儀表多年,，有著創(chuàng)新的設計、強大的技術,，還有一批**的專業(yè)化的隊伍,，確保為客戶提供良好的產品及服務。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊,、服務為榮,、創(chuàng)意為先、技術為實”的經(jīng)營理念,，全力打造公司的重點競爭力,。