為了優(yōu)化工藝鏈,，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備,。作為一項(xiàng)特殊功能,，該工具可以升級(jí)為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制,。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度

全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時(shí)間**快

優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板 EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝,。湖南納米壓印競爭力怎么樣

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動(dòng)壓花選項(xiàng)

軟件控制的流程執(zhí)行

EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸：150毫米，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米,，200毫米

**小基板尺寸：單芯片,，100毫米

比較大接觸力：10、20,、60,、100 kN

比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610,，EVG ® 620,，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300,，的Smart View ® NT

真空：

標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar 晶片納米壓印競爭力怎么樣HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,，具有較低的力和保形壓印,，快速高功率曝光和平滑壓模分離。

IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡,。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng),。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí),。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制,。

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm,；SmartNIL ®：≤±3微米

自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

納米壓印設(shè)備哪個(gè)好,？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),，可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù),。

注：*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細(xì)的信息,，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 高 效,，強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。中國香港納米壓印競爭力怎么樣

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。湖南納米壓印競爭力怎么樣

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺(tái)

■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動(dòng)化的全場納米壓印解決方案,，適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),，具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印，UV固化,，脫模和工作印模制作

■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式

■適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)

湖南納米壓印競爭力怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,，既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,，以敏銳的市場洞察力，實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏,。