EVG ® 150特征2：

先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量

處理厚或超薄,，易碎,，彎曲或小直徑的晶圓

用于旋涂和噴涂，顯影,，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領(lǐng)域提供了巨大的機會

EFEM（設備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）

工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務：

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能

并行/排隊任務處理功能

智能處理功能

發(fā)生和警報分析

智能維護管理和跟/蹤

EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經(jīng)驗,。云南光刻機高性價比選擇

IQ Aligner®NT曝光設定：硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

IQ Aligner®NT曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能：自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動（FCMM）

大間隙對準

跳動控制對準

IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,，請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,，請看官網(wǎng)信息,。 掩模對準光刻機競爭力怎么樣HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對多種尺寸的晶圓進行易碎，薄或翹曲的晶圓處理,。

IQ Aligner工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底側(cè)對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

產(chǎn)能

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時85片

全自動：吞吐量對準：每小時80片

       EV集團（EVG）是面向MEMS,，納米技術(shù)和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設備的**供應商，***宣布已收到其制造設備和服務的***組合產(chǎn)品組合的多個訂單,，這些產(chǎn)品和服務旨在滿足對晶圓的新興需求,，水平光學（WLO）和3D感應。市場**的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻（UV-NIL）步進器,，用于步進重復式主圖章制造,，用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動測量系統(tǒng)，用于對準驗證,。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持,。

      使用** 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對準技術(shù)在晶圓級制造微透鏡，衍射光學元件和其他光學組件可帶來諸多好處,。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,，以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場***,，擁有全球比較大的工具安裝基礎(chǔ),。 我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度,，并顯著提高/分辨率,，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率,。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置,。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,，因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松,、實際地完成曝光光譜設置。此外,，LED需要*在曝光期間供電,，并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施（廢氣，冷卻氣體）和更換燈的需要,。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標準相結(jié)合,，為全球服務基礎(chǔ)設施提供支持,。遼寧光刻機價格怎么樣

整個晶圓表面高光強度和均勻性是設計和不斷提高EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù)。云南光刻機高性價比選擇

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項

預對準：光學/機械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

分配選項：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

云南光刻機高性價比選擇

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型的公司,。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個細節(jié),，公司旗下磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司注重以質(zhì)量為中心,，以服務為理念,，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌,。岱美儀器技術(shù)服務秉承“客戶為尊,、服務為榮、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,，全力打造公司的重點競爭力,。