EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。EVG620NT納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,，具有較低的力和保形壓印,，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn),，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學(xué)設(shè)備,，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備,，納米光子學(xué)和等離激元學(xué),。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

甘肅納米壓印美元報價EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員,。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合,。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”,，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回,。

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個**控制的Z軸,，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL,，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻,。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法,，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識,，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求,。

*分辨率取決于過程和模板 SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。EVG7200納米壓印推薦產(chǎn)品

EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),，可進(jìn)行有效的母版制作,。EVG620NT納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

儀器儀表是用以檢出、測量,、觀察,、計算各種物理量、物質(zhì)成分,、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備,。真空檢漏儀、壓力表、測長儀,、顯微鏡,、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,，得益于機械,、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營狀況的好轉(zhuǎn),，我國儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好,。儀器儀表在工業(yè)生產(chǎn)過程中扮演著重要的角色，用到各種各樣的儀器儀表,，如磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)等為工業(yè)的檢驗,、測量和計量提供技術(shù)支撐。中國儀器儀表行業(yè)目前正處于高速發(fā)展階段,，需要與之相適應(yīng)的磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】產(chǎn)品營銷模式相互配合,。儀器儀表在工業(yè)發(fā)展中具有重要作用，這也使得儀器儀表得到快讀發(fā)展,。各行各業(yè)對儀器儀表的市場需求也在不斷提升,，銷售企業(yè)正在發(fā)展中尋求技術(shù)創(chuàng)新和質(zhì)量提升,。儀器儀表的質(zhì)量、性能關(guān)系到工業(yè)安全,，必須重視,。EVG620NT納米壓印現(xiàn)場服務(wù)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型的公司,。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展,，讓匠心彌散在每個細(xì)節(jié),，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司注重以質(zhì)量為中心,，以服務(wù)為理念,，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊,、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先,、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,，全力打造公司的重點競爭力。