EVG ® 6200 NT掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 6200 NT掩模對準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,，可在**小的占位面積上提供**/先進(jìn)的掩模對準(zhǔn)技術(shù),，并具有**/高的產(chǎn)能，先進(jìn)的對準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總擁有成本,。操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)有半自動或自動配置,，并配有集成的振動隔離功能,，可在廣/泛的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果，例如薄和厚光刻膠的曝光,，深腔和類似地形的圖案,，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）的加工,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。 只有接近客戶,，才能得知客戶**真實(shí)的需求,，這是我們一直時(shí)刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。遼寧EVG620 NT光刻機(jī)

我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換,。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證軟件，以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理,，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場升級。此外,，所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備，請?jiān)L問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們,。 甘肅EVG610光刻機(jī)我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

IQ Aligner® 自動化掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

特色：EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達(dá)200毫米,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求。除了多種對準(zhǔn)功能外,，該系統(tǒng)還通過專門配置進(jìn)行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗(yàn)證,，可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標(biāo)準(zhǔn)的頂側(cè)或底側(cè)對準(zhǔn)與集成的IR對準(zhǔn)功能之間的混合匹配操作進(jìn)一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域,，尤其是在與工程或粘合基板對準(zhǔn)時(shí),。該系統(tǒng)還通過快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶片對準(zhǔn)跳動控制。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù)，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關(guān)重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。**重要的是，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評,。EVG101光刻膠處理機(jī)可支持**/大300 mm的晶圓,。

EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng)：

各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

附加模塊選項(xiàng)

預(yù)對準(zhǔn)：光學(xué)/機(jī)械

ID讀取器：條形碼,，字母數(shù)字,，數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢。中國澳門光刻機(jī)推薦廠家

EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場升級,。遼寧EVG620 NT光刻機(jī)

EVG鍵合機(jī)掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品，使用**/先進(jìn)的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準(zhǔn)器的主要需求由幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)決定,。亞微米對準(zhǔn)精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn),。此外，整個(gè)晶圓表面的高光強(qiáng)度和均勻性是設(shè)計(jì)和不斷增強(qiáng)EVG掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時(shí)需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進(jìn)的系統(tǒng),。 遼寧EVG620 NT光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】公司。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等,。公司不僅*提供專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】，同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系,，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，堅(jiān)持“質(zhì)量保證,、良好服務(wù),、顧客滿意”的質(zhì)量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴,。