據(jù)外媒報(bào)道,，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法,。不僅**簡(jiǎn)化了低成本高性能,、無(wú)線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝,，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問(wèn)題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng),。研究人員稱，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管,。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,，MOSFET尺寸也在不斷變小,，然而這也引發(fā)了一些問(wèn)題。SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn),。EVG7200納米壓印供應(yīng)商家

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,，這是大批量生產(chǎn)的基石,，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能,，該工具可以升級(jí)為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位,。

*根據(jù)ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,，固化時(shí)間**快

優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過(guò)程和模板 HERCULES NIL納米壓印有哪些品牌EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

納米壓印應(yīng)用一：鏡片成型

晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造得到EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持,。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來(lái)的工作印模,，通過(guò)軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,，可以輕松地適應(yīng)各種材料組合,，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制的優(yōu)先,。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步,。

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料,，以及適用于大眾化市場(chǎng)的晶圓級(jí)光學(xué)元件,。（奧地利）與WINDACH（德國(guó)），2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球**的為微機(jī)電系統(tǒng),、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級(jí)光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位,。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料,，在工業(yè),，汽車，消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場(chǎng)開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備,，例如生物特征身份認(rèn)證,，面部識(shí)別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部,，奧地利Florian）以及DELO在德國(guó)Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期,。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,，旨在通過(guò)合作來(lái)縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,，例如分步重復(fù)母版,，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術(shù),，晶圓鍵合與必要的測(cè)量設(shè)備,。EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問(wèn)權(quán)限,，不同的用戶界面語(yǔ)言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。步進(jìn)重復(fù)納米壓印用于生物芯片

EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),，大面積壓印機(jī),，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。EVG7200納米壓印供應(yīng)商家

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù),。

注：*分辨率取決于過(guò)程和模板

如果需要詳細(xì)的信息,，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG7200納米壓印供應(yīng)商家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),，技術(shù)力量雄厚,。公司致力于為客戶提供安全,、質(zhì)量有保證的良好產(chǎn)品及服務(wù)，是一家有限責(zé)任公司企業(yè),。以滿足顧客要求為己任,；以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn)；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),，提供***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠(chéng)的服務(wù)、創(chuàng)新的理念,、***的產(chǎn)品,，為彼此贏得全新的未來(lái)！