面板廠為補(bǔ)償較低的開(kāi)口率,，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高,。若運(yùn)用NIL制程,，可確保適當(dāng)?shù)拈_(kāi)口率，降低用電量,。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜,。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,，需要經(jīng)過(guò)數(shù)十次的曝光制程,。不僅制程時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)過(guò)多次曝光后,，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙,，無(wú)法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,，可一次形成55吋,、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板,。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù),。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時(shí)程，偏光膜企業(yè)的營(yíng)收可能減少,。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò),。步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。全域納米壓印推薦廠家
NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的相當(dāng)有成本效益的方法,，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),，幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作,。另外,，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。
新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 重慶半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng),。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印
氣動(dòng)壓花選項(xiàng)
軟件控制的流程執(zhí)行
EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)
加熱器尺寸：150毫米，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米,，200毫米
**小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米
比較大接觸力：10,、20、60,、100 kN
比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C,；可選：550°C
粘合卡盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620,，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200,，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng),。
EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米
對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)
HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓,，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員,。HERCULES
NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合,。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中,，然后將經(jīng)過(guò)完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回,。 SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。
IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡,。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng),。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí),。EV Group專有的卡盤(pán)設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力,。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制,。
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī),，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。MEMS納米壓印售后服務(wù)
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商。全域納米壓印推薦廠家
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案,，可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過(guò)程和模板）
■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),，可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類(lèi)型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配,，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
全域納米壓印推薦廠家
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位,，交通便利，環(huán)境優(yōu)美,，是一家其他型企業(yè),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，一直“以人為本,，服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營(yíng)理念;“誠(chéng)守信譽(yù),，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則,，致力于提供高質(zhì)量的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測(cè)試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠(chéng)的服務(wù)、創(chuàng)新的理念,、***的產(chǎn)品,，為彼此贏得全新的未來(lái)！