EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻,。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,，線柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率,。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法,，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識,，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求,。

*分辨率取決于過程和模板 NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法。納米壓印代理商

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸,，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV）,，并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián),。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移,，刪除印章

湖北納米壓印可以試用嗎EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,，可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,，并在顯示器,，生物技術(shù)和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國家研究委 員會提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層,，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）

10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相

資料來源：EVG

納米壓印光刻（NIL）技術(shù)

EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應商,。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn),。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,，可用于生物MEMS，微流體,，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業(yè)應用,。

其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

詳細的參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美有限公司,。

EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng),，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學元件（DOE）至關(guān)重要,。重慶納米壓印優(yōu)惠價格

EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,，因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術(shù),。納米壓印代理商

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法,，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu),。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能,。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,，同時保留了可擴展性和易于維護的操作,。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間,。

新應用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān),。 納米壓印代理商

岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司是一家磁記錄、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司,，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務實、誠實可信的企業(yè),。公司自創(chuàng)立以來,，投身于磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍,。岱美儀器技術(shù)服務不斷開拓創(chuàng)新,，追求出色，以技術(shù)為先導,，以產(chǎn)品為平臺,，以應用為重點，以服務為保證,，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,，提供更優(yōu)服務。岱美儀器技術(shù)服務始終關(guān)注儀器儀表行業(yè),。滿足市場需求,，提高產(chǎn)品價值，是我們前行的力量,。