非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅,。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅,。

非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨(dú)特的，必須有精確的厚度測量,。 測量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化,。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時(shí)測量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù),， 并且“一鍵”出結(jié)果,。

F40-UV范圍：4nm-40μm，波長：190-1100nm,。聯(lián)電膜厚儀學(xué)校會用嗎

F40 系列

包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)BG-Microscope (作為背景基準(zhǔn))

額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計(jì)劃

如果需要了解更多的信息,，請?jiān)L問我們官網(wǎng)或者聯(lián)系我們。 安徽襯底膜厚儀可測量的層數(shù): 通常能夠測量薄膜堆內(nèi)的三層**薄膜,。 在某些情況下,，能夠測量到十幾層。

    F20系列是世界上****的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，只需按下一個(gè)按鈕,，不到一秒鐘即可同時(shí)測量厚度和折射率,。設(shè)置也非常簡單,只需把設(shè)備連接到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)USB端口,并連接樣品平臺就可以了。F20系列不同型號的選擇,，主要取決于您需要測量的薄膜厚度（確定所需的波長范圍）,。型號厚度范圍*波長范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測試儀通過分析薄膜的反射光譜來測量薄膜的厚度，通過非可見光的測量,，可以測量薄至1nm或厚至13mm的薄膜,。測量結(jié)果可在幾秒鐘顯示：薄膜厚度、顏色,、折射率甚至是表面粗糙度,。1.有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.比較大樣品薄膜厚度的測量范圍是：3nm～25um3.精度高于、氧化物,、氮化物,；、Polyimides,；3.光電鍍膜應(yīng)用:硬化膜,、抗反射膜、濾波片,。1.光源有壽命,，不用時(shí)請關(guān)閉2.光纖易損，不要彎折,，不要頻繁插拔3.精密儀器,。

F50 系列自動化薄膜測繪Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測繪兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測繪薄膜厚度。一個(gè)電動R-Theta 平臺可接受標(biāo)準(zhǔn)和客制化夾盤,，樣品直徑可達(dá)450毫米,。(耐用的平臺在我們的量產(chǎn)系統(tǒng)能夠執(zhí)行數(shù)百萬次的量測!)

測繪圖案可以是極座標(biāo)、矩形或線性的,，您也可以創(chuàng)造自己的測繪方法,，并且不受測量點(diǎn)數(shù)量的限制。內(nèi)建數(shù)十種預(yù)定義的測繪圖案,。

不同的 F50 儀器是根據(jù)波長范圍來加以區(qū)分的,。 標(biāo)準(zhǔn)的 F50是很受歡迎的產(chǎn)品。 一般較短的波長 (例如,， F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,，而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜,。 FSM拉曼的應(yīng)用：局部應(yīng)力,； 局部化學(xué)成分；局部損傷。

FSM 8018 VITE測試系列設(shè)備

VITE技術(shù)介紹：

VITE是傅里葉頻域技術(shù),，利用近紅外光源的相位剪切技術(shù)（Phase shear technology）

設(shè)備介紹

適用于所有可讓近紅外線通過的材料：硅,、藍(lán)寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石  英,、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶,、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸,、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導(dǎo)體材料的厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度,、側(cè)壁角度...

適用于所有可讓紅外線通過的材料 硅,、藍(lán)寶石、砷化鎵,、磷化銦,、碳化硅、玻璃,、石 英,、聚合物等。廣東半導(dǎo)體設(shè)備膜厚儀

厚度范圍: 測量從 1nm 到 13mm 的厚度,。 測量 70nm 到 10um 薄膜的折射率,。聯(lián)電膜厚儀學(xué)校會用嗎

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體,，以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜,。 

測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層,，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中,，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,，折射率，和消光系數(shù),。有趣的事,，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型,，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì),，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量,。 聯(lián)電膜厚儀學(xué)校會用嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)，各種專業(yè)設(shè)備齊全,。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能，致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。我公司擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力,，多年來一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù),。自公司成立以來,，一直秉承“以質(zhì)量求生存，以信譽(yù)求發(fā)展”的經(jīng)營理念,，始終堅(jiān)持以客戶的需求和滿意為重點(diǎn),，為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，從而使公司不斷發(fā)展壯大,。