EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,，使用**/先進的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對準精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 HERCULES對準精度：上側(cè)對準：≤±0.5 μm；底側(cè)對準：≤±1,0 μm,；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材,。甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實現(xiàn)了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,，有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗

手動基板裝載能力

遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準–透射和/或反射

IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù)：

楔形補償：全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能：自動對準,；大間隙對準,；跳動控制對準；動態(tài)對準 西藏光刻機技術(shù)服務(wù)整個晶圓表面高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷提高EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。

IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

產(chǎn)能：

全自動：首/次生產(chǎn)量印刷：每小時200片

全自動：吞吐量對準：每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，晶圓邊緣處理

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架SW平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達300毫米

對準方式：

頂部對準：≤±0,25 μm

底側(cè)對準：≤±0.5 μm

紅外對準：≤±2,0 μm /取決于基材

EVG®610 掩模對準系統(tǒng)

■   晶圓規(guī)格

：100 mm / 150 mm / 200 mm

■   頂/底部對準精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm

■   用于雙面對準高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡

■   軟件，硬件,，真空和接近式曝光

■   自動楔形補償

■   鍵合對準和NIL可選

■   支持**/新的UV-LED技術(shù)

EVG®620 NT / EVG®6200 NT

掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）

■   晶圓產(chǎn)品規(guī)格

：150 mm / 200 mm

■   接近式楔形錯誤補償

■   多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時間少于5分鐘

■   初次印刷高達180 wph / 自動對準模式為140 wph

■   可選**的抗震型花崗巖平臺

■   動態(tài)對準實時補償偏移

■   支持**/新的UV-LED技術(shù) EVG的CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗,，并提高光刻膠涂層的均勻性。

EVG ® 150特征：晶圓尺寸可達300毫米

多達6個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層,，噴涂,，NanoCoat?，顯影,，烘烤/冷卻/蒸氣/上等

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,，當涉及到極端地形的保形涂層

可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層，長寬比**/高為1:10,，垂直側(cè)壁

廣/泛的支持材料

烘烤模塊溫度高達250°C

Megasonic技術(shù)用于清潔,，聲波化學處理和顯影,，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘

EVG101是光刻膠處理，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。中芯國際光刻機用途是什么

只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求,，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用

集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列,。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,，光刻膠涂層,，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中,，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為：HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息,。

甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,，各種專業(yè)設(shè)備齊全,。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,，致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。我公司擁有強大的技術(shù)實力，多年來一直專注于磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標產(chǎn)品和服務(wù),。自公司成立以來,，一直秉承“以質(zhì)量求生存，以信譽求發(fā)展”的經(jīng)營理念,，始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,，為客戶提供良好的磁記錄，半導體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)，從而使公司不斷發(fā)展壯大,。