EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,,使用**/先進的工程技術(shù),。
用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對準精度,,掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,,以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準。此外,,整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念,使我們能夠跳出思維框架,,創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 HERCULES對準精度:上側(cè)對準:≤±0.5 μm;底側(cè)對準:≤±1,0 μm,;紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基材,。甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用
IQ Aligner特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /
8''
由于外部晶圓楔形測量,實現(xiàn)了非接觸式接近模式
增強的振動隔離,,有效減少誤差
各種對準功能提高了過程靈活性
跳動控制對準功能,,提高了效率
多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理
高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗
手動基板裝載能力
遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
IQ Aligner附加功能:
紅外對準–透射和/或反射
IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù):
楔形補償:全自動軟件控制
非接觸式
先進的對準功能:自動對準,;大間隙對準,;跳動控制對準;動態(tài)對準 西藏光刻機技術(shù)服務(wù)整個晶圓表面高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷提高EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。
IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù):
產(chǎn)能:
全自動:首/次生產(chǎn)量印刷:每小時200片
全自動:吞吐量對準:每小時160片晶圓
工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,,彎曲,翹曲,,晶圓邊緣處理
智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架SW平臺)
用于過程和機器控制的集成分析功能
并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能
設(shè)備和過程性能跟/蹤功能
智能處理功能
事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤
晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米
對準方式:
頂部對準:≤±0,25 μm
底側(cè)對準:≤±0.5 μm
紅外對準:≤±2,0 μm /取決于基材
EVG®610 掩模對準系統(tǒng)
■ 晶圓規(guī)格
:100 mm / 150 mm / 200 mm
■ 頂/底部對準精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm
■ 用于雙面對準高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡
■ 軟件,硬件,,真空和接近式曝光
■ 自動楔形補償
■ 鍵合對準和NIL可選
■ 支持**/新的UV-LED技術(shù)
EVG®620 NT / EVG®6200 NT
掩模對準系統(tǒng)(自動化和半自動化)
■ 晶圓產(chǎn)品規(guī)格
:150 mm / 200 mm
■ 接近式楔形錯誤補償
■ 多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時間少于5分鐘
■ 初次印刷高達180 wph / 自動對準模式為140 wph
■ 可選**的抗震型花崗巖平臺
■ 動態(tài)對準實時補償偏移
■ 支持**/新的UV-LED技術(shù) EVG的CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗,,并提高光刻膠涂層的均勻性。
EVG ® 150特征:晶圓尺寸可達300毫米
多達6個過程模塊
可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆
多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載
可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層,,噴涂,,NanoCoat?,顯影,,烘烤/冷卻/蒸氣/上等
EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,,當涉及到極端地形的保形涂層
可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,長寬比**/高為1:10,,垂直側(cè)壁
廣/泛的支持材料
烘烤模塊溫度高達250°C
Megasonic技術(shù)用于清潔,,聲波化學處理和顯影,,可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘
EVG101是光刻膠處理,EVG105是光刻膠烘焙機,,EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。中芯國際光刻機用途是什么
只有接近客戶,,才能得知客戶**真實的需求,,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用
集成化光刻系統(tǒng)
HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,,完善了EVG光刻產(chǎn)品系列,。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,,光刻膠涂層,,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務(wù)”,,在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中,,然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為:HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息,。
甘肅光刻機化合物半導體應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊,,各種專業(yè)設(shè)備齊全,。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗,熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。我公司擁有強大的技術(shù)實力,多年來一直專注于磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準的項目,,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新,打造高指標產(chǎn)品和服務(wù),。自公司成立以來,,一直秉承“以質(zhì)量求生存,以信譽求發(fā)展”的經(jīng)營理念,,始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā),從而使公司不斷發(fā)展壯大,。