EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù):
加熱器尺寸:150毫米 ,,200毫米
比較大基板尺寸:150毫米,,200毫米
**小基板尺寸:單芯片,100毫米
比較大接觸力:10,、20,、60 kN
比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C
夾盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器:EVG ® 610,,EVG ® 620,,EVG ® 6200
200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,,的Smart View ® NT
真空:
標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴
可選:0.00001 mbar
EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,,適用于第3代基材。納米壓印可以試用嗎
EVG ® 6200 NT特征:
頂部和底部對準(zhǔn)能力
高精度對準(zhǔn)臺
自動楔形補(bǔ)償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,,可分配的訪問權(quán)限,,不同的用戶界面語言)
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版
EVG ® 6200 NT附加功能:
鍵對準(zhǔn)
紅外對準(zhǔn)
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200 mm
柔軟的UV-NIL:75至200毫米
SmartNIL ®:**多至150mm
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL
®
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
對準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米
自動分離:柔紫外線NIL:不支持,;SmartNIL
®:支持
工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部,;SmartNIL ®:支持
EVG7200納米壓印用于生物芯片高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,,易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。
EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)
特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),,可滿足比較高要求
EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印,。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容,。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),,提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝,。
如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司,。
據(jù)外媒報(bào)道,,美國威斯康星大學(xué)麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能,、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的制造工藝,,還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,,并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場,。研究人員稱,這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管,。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管,。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題,。EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng),。
HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)
■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)
■全自動壓印和受控的低力分離,,可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),,可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配,,壓印和脫模過程中的實(shí)時圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
納米壓印設(shè)備哪個好,?預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。納米壓印可以試用嗎
EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設(shè)備供應(yīng)商,。納米壓印可以試用嗎
EVG ® 720自動SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
自動全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,,設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)
EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu),。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu),,具有****的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,,例如衍射光學(xué)元件( DOEs),。
*分辨率取決于過程和模板
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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是一家磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司,,是一家集研發(fā),、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司,。公司自創(chuàng)立以來,,投身于磁記錄,半導(dǎo)體,,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā),是儀器儀表的主力軍,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,,為用戶帶來良好體驗(yàn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,,以敏銳的市場洞察力,,實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏。