HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設(shè)計(jì),，用于掩模和曝光,，集成了預(yù)處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達(dá)24個額外烘烤，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術(shù)進(jìn)行對準(zhǔn)和曝光

■   **的柜內(nèi)化學(xué)處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機(jī)可選項(xiàng)有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能,，以便進(jìn)行過程評估,。此外，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,，翹曲,，變薄或非SEMI標(biāo)準(zhǔn)形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設(shè)計(jì)毫無任何妥協(xié),，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準(zhǔn)器配有機(jī)械或非接觸式光學(xué)預(yù)對準(zhǔn)器,，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量。Load＆Go選項(xiàng)可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動,。 IQ Aligner光刻機(jī)支持的晶圓尺寸高達(dá)200 mm / 300 mm,。上海HVM光刻機(jī)

IQ Aligner特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量，實(shí)現(xiàn)了非接觸式接近模式

增強(qiáng)的振動隔離,，有效減少誤差

各種對準(zhǔn)功能提高了過程靈活性

跳動控制對準(zhǔn)功能,，提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎，薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗(yàn)

手動基板裝載能力

遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

紅外對準(zhǔn)–透射和/或反射

IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù)：

楔形補(bǔ)償：全自動軟件控制

非接觸式

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：自動對準(zhǔn),；大間隙對準(zhǔn),；跳動控制對準(zhǔn)；動態(tài)對準(zhǔn) 北京EVG610光刻機(jī)EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。

EVG的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)含有：EVG610；EVG620 NT半自動/全自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),；EVG6200 NT半自動/全自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),；IQ Aligner 自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)；IQ Aligner NT自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),；

【EVG ® 610掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)】EVG

® 610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng),，可以處理小基板片和高達(dá)200毫米的晶片。

EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空,，硬，軟和接近曝光模式,，并可選擇背面對準(zhǔn)功能,。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能,，包括鍵合對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）,。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化,，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘,。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用,。

EVG620 NT特征2：

自動原點(diǎn)功能,，用于對準(zhǔn)鍵的精確居中

具有實(shí)時偏移校正功能的動態(tài)對準(zhǔn)功能

支持**/新的UV-LED技術(shù)

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

EVG620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻（NIL） EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是適用于高達(dá)300 mm的不同的厚度,，尺寸，形狀的晶圓和基片,。

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當(dāng)潔凈室空間有限,，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基板,。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì),，并帶有新開發(fā)的化學(xué)柜，可用于外部存儲化學(xué)品,，同時提供更高的通量能力,，針對大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化，并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,，這是其他任何工具所無法比擬的,，并保證了**/高的質(zhì)量各個應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)，擁有成本卻非常低,。

在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng)，并得到了他們的無數(shù)好評,。芯片光刻機(jī)技術(shù)原理

所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證的軟件,，可以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。上海HVM光刻機(jī)

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm,；

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm,；

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：

手動對準(zhǔn)；

自動對準(zhǔn),；

動態(tài)對準(zhǔn),。

對準(zhǔn)偏移校正：

自動交叉校正/手動交叉校正；

大間隙對準(zhǔn),。

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補(bǔ)償：全自動軟件控制,；非接觸式

曝光選項(xiàng)：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實(shí)時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除 上海HVM光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位，擁有一支專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能，致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌,。公司不僅*提供專業(yè)的磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】,，同時還建立了完善的售后服務(wù)體系，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù),。誠實(shí),、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則,。公司致力于打造***的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。