EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù)，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關(guān)重要的,。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。**重要的是,，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評,?？梢栽贓VG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作,。青海光刻機(jī)化合物半導(dǎo)體應(yīng)用

EVG ® 150特征2：

先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量

處理厚或超薄，易碎,，彎曲或小直徑的晶圓

用于旋涂和噴涂,，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機(jī)會

EFEM（設(shè)備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）

工藝技術(shù)卓/越和開發(fā)服務(wù)：

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

并行/排隊(duì)任務(wù)處理功能

智能處理功能

發(fā)生和警報(bào)分析

智能維護(hù)管理和跟/蹤

安徽實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對準(zhǔn)系統(tǒng)，對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。

IQ Aligner®NT自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

特色：IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner NT是用于大批量應(yīng)用的生產(chǎn)力**/高，技術(shù)**/先進(jìn)的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。該系統(tǒng)具有**/先進(jìn)的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求。與EVG的上一代IQ

Aligner系統(tǒng)相比,，它的吞吐量提高了2倍,，對準(zhǔn)精度提高了2倍，是所有掩模對準(zhǔn)器中**/高的吞吐量,。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應(yīng)用**苛刻的要求,，同時(shí)與競爭性系統(tǒng)相比，其掩模成本降低了30％,，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準(zhǔn)工具所支持的**/高吞吐量,。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)

所述HERCULES ®是一個(gè)高容量的平臺整合整個(gè)光刻工藝流在一個(gè)系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持。

HERCULES基于模塊化平臺,，將EVG建立的光學(xué)掩模對準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理,。HERCULES安全地處理厚，彎曲度高,，矩形,，小直徑的晶圓，甚至可以處理設(shè)備托盤,。精密的頂側(cè)和底側(cè)對準(zhǔn)以及亞微米至超厚（**/大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應(yīng)用,。出色的對準(zhǔn)臺設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的高精度對準(zhǔn)和曝光結(jié)果。

IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,，支持200mm和300mm尺寸的晶圓,。

我們的研發(fā)實(shí)力。

EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年,，讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和**/大的靈活性，使大學(xué),、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目,。此外，研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈,。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導(dǎo)向,，研發(fā)才具有價(jià)值,，也是我們不斷前進(jìn)的動力。 了解客戶需求和有效的全球支持,，這是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ),。微流體光刻機(jī)可以試用嗎

EVG101光刻膠處理機(jī)可支持**/大300 mm的晶圓。青海光刻機(jī)化合物半導(dǎo)體應(yīng)用

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項(xiàng)

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項(xiàng)：

預(yù)對準(zhǔn)：機(jī)械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

青海光刻機(jī)化合物半導(dǎo)體應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路，既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,，始終關(guān)注客戶,，創(chuàng)新科技，竭誠為客戶提供良好的服務(wù),。