EVG620 NT技術數(shù)據(jù)：

曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

自動對準

動態(tài)對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

EVG620 NT產(chǎn)量:

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm

底側(cè)對準：≤±1,0 μm

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

鍵對準：≤±2,0 μm

NIL對準：≤±3.0 μm

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術：SmartNIL ® 可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用，包括高級封裝,，化合物半導體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。晶圓光刻機美元報價

EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品，使用**/先進的工程技術,。

用戶對接近式對準器的主要需求由幾個關鍵參數(shù)決定,。亞微米對準精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標準,。此外，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設計和不斷增強EVG掩模對準器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務的發(fā)展和提升我們的理念,，使我們能夠跳出思維框架，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng),。 貴州HERCULES光刻機新型的EVG120帶有通用和全自動光刻膠處理工具,，能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基片。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,，掩模對準器是**/具成本效益的技術，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術標準相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持,。**重要的是，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi),，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評,。

HERCULES®

■   全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設計，用于掩模和曝光,，集成了預處理和后處理能力

■   高產(chǎn)量的晶圓加工

■   **多8個濕法處理模塊以及多達24個額外烘烤,，冷卻和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技術進行對準和曝光

■   **的柜內(nèi)化學處理

■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

EVG光刻機可選項有：

手動和自動處理

我們所有的自動化系統(tǒng)還支持手動基片和掩模加載功能，以便進行過程評估,。此外,，該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲，翹曲,，變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片,。各種晶圓卡盤設計毫無任何妥協(xié)，帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力,。我們的掩模對準器配有機械或非接觸式光學預對準器,，以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量。Load＆Go選項可在自動化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動,。 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻。

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術數(shù)據(jù)：

對準方式：

上側(cè)對準：≤±0.5 μm,；

底側(cè)對準：≤±1,0 μm,；

紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

先進的對準功能：

手動對準；

自動對準,；

動態(tài)對準,。

對準偏移校正：

自動交叉校正/手動交叉校正；

大間隙對準,。

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除 EVG所有光刻設備平臺均為300mm,。中國澳門光刻機代理價格

可以使用用于壓印光刻的工具，例如紫外光納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。晶圓光刻機美元報價

我們的研發(fā)實力。

EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年,，讓我們深入了解他們的獨特需求,。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術和**/大的靈活性，使大學,、研究機構和技術開發(fā)合作伙伴能夠參與多個研究項目和應用項目,。此外，研發(fā)設備與EVG的**技術平臺無縫集成,，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導向,，研發(fā)才具有價值,，也是我們不斷前進的動力。 晶圓光刻機美元報價

岱美儀器技術服務（上海）有限公司一直專注于磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄,、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進出口,、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】,，是一家儀器儀表的企業(yè)，擁有自己**的技術體系,。目前我公司在職員工以90后為主,，是一個有活力有能力有創(chuàng)新精神的團隊。公司以誠信為本，業(yè)務領域涵蓋磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),，我們本著對客戶負責,，對員工負責，更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度,，爭取做到讓每位客戶滿意,。一直以來公司堅持以客戶為中心、磁記錄,，半導體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)市場為導向,，重信譽,，保質(zhì)量，想客戶之所想,，急用戶之所急,，全力以赴滿足客戶的一切需要。