集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,，將EVG已建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的清潔,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓,。目前可以預定的型號為：HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息。

HERCULES光刻機系統(tǒng)：全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),，模塊化設計,，用于掩模和曝光，集成了預處理和后處理能力,。北京光刻機一級代理

EVG光刻機簡介

EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng),，可以在頂部和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準,。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領(lǐng)域做出貢獻,，以增強**重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對準目標是容納高達300 mm的不同的尺寸,，形狀和厚度的晶圓和基片,，同時為高級應用提供高科技含量的有效解決方案，并為研發(fā)提供充分的靈活可選性,。EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場驗證,，安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中，可在眾多應用場景中找到,，包括高級封裝,，化合物半導體,，功率器件，LED,，傳感器和MEMS,。 襯底光刻機優(yōu)惠價格HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢。

EVG ® 610曝光源：

汞光源/紫外線LED光源

楔形補償

全自動軟件控制

晶圓直徑（基板尺寸）

高達100/150/200毫米

曝光設定：

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

手動交叉校正

大間隙對準

EVG ® 610光刻機系統(tǒng)控制：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE,，F(xiàn)R，IT,，JP,，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

使用的納米壓印光刻技術(shù)為“無紫外線”

EVG620 NT特征2：

自動原點功能,，用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

支持**/新的UV-LED技術(shù)

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

EVG620 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻（NIL） EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻,，以提高**重要的光刻技術(shù)的水平,。

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實：“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加?！?“*從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng)，以進行大批量生產(chǎn),。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位,，同時創(chuàng)造了新興應用程序中有大量新機會?！?

      業(yè)界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領(lǐng)域業(yè)務目標的計劃,，以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,，下一代智能手機中正在設計十多種傳感器,。其中包括3D感測相機，指紋傳感器,，虹膜掃描儀,，激光二極管發(fā)射器，激光測距儀和生物傳感器,?？傮w而言，光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,，復合年增長率超過11％*,。 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個底部對準系統(tǒng)，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標準。奧地利光刻機要多少錢

EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng),。北京光刻機一級代理

EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在**小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,，在**小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本，提供了**/先進的掩模對準技術(shù),。它是光學雙面光刻的理想工具,，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準,。擁有操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。 北京光刻機一級代理

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