EVG6200 NT特征：

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高達(dá)180 WPH,，在自動對準(zhǔn)模式下的吞吐量高達(dá)140 WPH

易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

自動原點功能,，用于對準(zhǔn)鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準(zhǔn)功能

支持**/新的UV-LED技術(shù)

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用,，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體,，功率器件,，LED，傳感器和MEMS,。晶片光刻機美元報價

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的技術(shù)數(shù)據(jù)：

可用模塊：旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度；

液體底漆/預(yù)濕/洗盤,；

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）,；

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)。

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能,，提高效率

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能：智能處理功能,；事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)300毫米

湖北晶圓片光刻機我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

EVG620 NT特征2：

自動原點功能,，用于對準(zhǔn)鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準(zhǔn)功能

支持**/新的UV-LED技術(shù)

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性

EVG620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻（NIL）

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù)：

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm,；

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm,；

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基材

先進的對準(zhǔn)功能：

手動對準(zhǔn)；

自動對準(zhǔn),；

動態(tài)對準(zhǔn),。

對準(zhǔn)偏移校正：

自動交叉校正/手動交叉校正；

大間隙對準(zhǔn),。

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制,；非接觸式

曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN，DE,，F(xiàn)R,，IT，JP,，KR

實時遠(yuǎn)程訪問,，診斷和故障排除 EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻(xiàn)，以提高**重要的光刻技術(shù)的水平,。

EVG也提供量產(chǎn)型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng),。對于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形，掩模對準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù)，與其他解決方案相比,，每層可節(jié)省30％以上的成本,，這對用戶來說是至關(guān)重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,，并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持,。**重要的是，大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,，表面形貌和非平面基片的圖形,。在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，得到了他們的無數(shù)好評,。在全球范圍內(nèi)，我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機系統(tǒng),，并得到了他們的無數(shù)好評,。上海光刻機高性價比選擇

EVG光刻機關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學(xué) 、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,。晶片光刻機美元報價

我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。

我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集,，例如UV-納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗證軟件,，以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理,，實現(xiàn)現(xiàn)場升級,。此外，所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù),。如果您需要納米壓印設(shè)備,，請訪問我們的官網(wǎng)，或者直接聯(lián)系我們,。 晶片光刻機美元報價

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，交通便利,，環(huán)境優(yōu)美,，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè),，一直“以人為本,，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā),，價格合理,，品質(zhì)有保證，深受廣大客戶的歡迎,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,，打造高指標(biāo)的服務(wù)，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展,。