EVG6200 NT特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性
在第/一次光刻模式下的吞吐量高達(dá)180 WPH,,在自動(dòng)對準(zhǔn)模式下的吞吐量高達(dá)140 WPH
易碎,,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,,更換時(shí)間短
帶有間隔墊片的自動(dòng)無接觸楔形補(bǔ)償序列
自動(dòng)原點(diǎn)功能,,用于對準(zhǔn)鍵的精確居中
具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對準(zhǔn)功能
支持**/新的UV-LED技術(shù)
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能
可以從半自動(dòng)版本升級到全自動(dòng)版本
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,,可分配的訪問權(quán)限,,不同的用戶界面語言)
先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版 岱美是EVG光刻機(jī)在中國的代理商,提供本地化的質(zhì)量服務(wù),。四川光刻機(jī)美元價(jià)格
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征:
晶圓尺寸可達(dá)300毫米,;
自動(dòng)旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過手動(dòng)晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影;
利用成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,,快速輕松地將過程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn),;
注射器分配系統(tǒng),用于利用小體積的光刻膠,,包括高粘度光刻膠,;
占地面積小,同時(shí)保持較高的人身和流程安全性,;
多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言),。
選項(xiàng)功能:
使用OmniSpray®涂層技術(shù)對高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層,;
蠟和環(huán)氧涂層,用于后續(xù)粘合工藝,;
玻璃旋涂(SOG)涂層,。
四川光刻機(jī)美元價(jià)格EVG101光刻膠處理機(jī)可支持**/大300 mm的晶圓。
EVG ® 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng):
各種光刻膠分配泵,,可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度
液體底漆/預(yù)濕/洗盤
去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)
恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)
電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能
可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸
超音波
附加模塊選項(xiàng)
預(yù)對準(zhǔn):光學(xué)/機(jī)械
ID讀取器:條形碼,,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣
系統(tǒng)控制:
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器
靈活的流程定義/易于拖放的程序編程
并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,,診斷和故障排除
多語言用戶GUI和支持:CN,,DE,F(xiàn)R,,IT,,JP,KR
EVG620 NT或完全容納的EVG620
NT Gen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動(dòng)隔離功能,,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,,例如,對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,,對深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工。此外,,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù),。
EVG620 NT特征:
晶圓/基板尺寸從小到150 mm /
6''
系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性
易碎,,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時(shí)間短
帶有間隔墊片的自動(dòng)無接觸楔形補(bǔ)償序列 EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對準(zhǔn)系統(tǒng),,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。
IQ Aligner®
■ 晶圓規(guī)格高達(dá)200 mm / 300 mm
■ 某一時(shí)間內(nèi)
(第/一次印刷/對準(zhǔn))> 90 wph / 80 wph
■ 頂/底部對準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm
■ 接近過程100/%無觸點(diǎn)
■ 可選Ergoload 磁盤,SMIF或者FOUP
■ 精/準(zhǔn)的跳動(dòng)補(bǔ)償,,實(shí)現(xiàn)**/佳的重疊對準(zhǔn)
■ 手動(dòng)裝載晶圓的功能
■ IR對準(zhǔn)能力–透射或者反射
IQ Aligner® NT
■ 零輔助橋接工具-雙基片,,支持200mm和300mm規(guī)格
■ 無以倫比的吞吐量(第/一次印刷/對準(zhǔn)) > 200 wph / 160 wph
■ 頂/底部對準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 250 nm / ± 500 nm
■ 接近過程100/%無觸點(diǎn)
■ 暗場對準(zhǔn)能力/ 全場清/除掩模(FCMM)
■ 精/準(zhǔn)的跳動(dòng)補(bǔ)償,實(shí)現(xiàn)**/佳的重疊對準(zhǔn)
■ 智能過程控制和性能分析框架軟件平臺 HERCULES 全電動(dòng)頂部和底部分離場顯微鏡支持實(shí)時(shí),、大間隙,、晶圓平面或紅外對準(zhǔn),在可編程位置自動(dòng)定位,。四川光刻機(jī)美元價(jià)格
我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng),。四川光刻機(jī)美元價(jià)格
EVG ® 610曝光源:
汞光源/紫外線LED光源
楔形補(bǔ)償
全自動(dòng)軟件控制
晶圓直徑(基板尺寸)
高達(dá)100/150/200毫米
曝光設(shè)定:
真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式
曝光選項(xiàng):
間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:
手動(dòng)對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證
手動(dòng)交叉校正
大間隙對準(zhǔn)
EVG ® 610光刻機(jī)系統(tǒng)控制:
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持:CN,DE,,F(xiàn)R,,IT,JP,,KR
實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,,診斷和故障排除
使用的納米壓印光刻技術(shù)為“無紫外線” 四川光刻機(jī)美元價(jià)格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是一家磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),,國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】的公司,是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì),、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的磁記錄,,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),,測試儀器的批發(fā),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn),。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,始終關(guān)注客戶,,創(chuàng)新科技,,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。