此外,，EVG光刻機不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點,，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗,，這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ),。只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。只有接近客戶,，才能得知客戶**真實的需求，這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一,。EVG6200 NT光刻機高性價比選擇

EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機,，用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機模塊。

IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。

EVG40 NT自動測量系統(tǒng),。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要,。在WLO制造中，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗證,，以及許多其他應(yīng)用,。 半導(dǎo)體設(shè)備光刻機優(yōu)惠價格EVG101是光刻膠處理，EVG105是光刻膠烘焙機,，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng)。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項：

預(yù)對準(zhǔn)：機械

系統(tǒng)控制參數(shù)：

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,，診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

EVG®610 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■   晶圓規(guī)格

：100 mm / 150 mm / 200 mm

■   頂/底部對準(zhǔn)精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm

■   用于雙面對準(zhǔn)高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡

■   軟件,，硬件,，真空和接近式曝光

■   自動楔形補償

■   鍵合對準(zhǔn)和NIL可選

■   支持**/新的UV-LED技術(shù)

EVG®620 NT / EVG®6200 NT

掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（自動化和半自動化）

■   晶圓產(chǎn)品規(guī)格

：150 mm / 200 mm

■   接近式楔形錯誤補償

■   多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時間少于5分鐘

■   初次印刷高達180 wph / 自動對準(zhǔn)模式為140 wph

■   可選**的抗震型花崗巖平臺

■   動態(tài)對準(zhǔn)實時補償偏移

■   支持**/新的UV-LED技術(shù) HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對多種尺寸的晶圓進行易碎，薄或翹曲的晶圓處理,。

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)：

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺）

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能：

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

模塊數(shù)：

工藝模塊：2

烘烤/冷卻模塊：**多10個

工業(yè)自動化功能：Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口

分配選項：

各種光刻膠分配泵,，可覆蓋高達52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR）

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波

EVG610 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)，支持的晶圓尺寸：100 mm / 150 mm / 200 mm,。半導(dǎo)體設(shè)備光刻機優(yōu)惠價格

岱美是EVG光刻機在中國的代理商,，提供本地化的質(zhì)量服務(wù)。EVG6200 NT光刻機高性價比選擇

EVG鍵合機掩模對準(zhǔn)系列產(chǎn)品,，使用**/先進的工程技術(shù),。

用戶對接近式對準(zhǔn)器的主要需求由幾個關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對準(zhǔn)精度,，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙,，以及對應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn)。此外,，整個晶圓表面的高光強度和均勻性是設(shè)計和不斷增強EVG掩模對準(zhǔn)器產(chǎn)品組合時需要考慮的其他關(guān)鍵參數(shù),。創(chuàng)新推動了我們的日常業(yè)務(wù)的發(fā)展和提升我們的理念，使我們能夠跳出思維框架,，創(chuàng)造更先進的系統(tǒng)。 EVG6200 NT光刻機高性價比選擇

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，交通便利,，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè),。公司是一家有限責(zé)任公司企業(yè),，以誠信務(wù)實的創(chuàng)業(yè)精神,、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍,，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品,。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠滿意為標(biāo)準(zhǔn),；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),，提供***的磁記錄，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來,，一直堅持走正規(guī)化,、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會各界的普遍認可與大力支持,。