EVG ® 6200 NT掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米,。

技術數(shù)據(jù)：EVG6200 NT以其自動化靈活性和可靠性而著稱,，可在**小的占位面積上提供**/先進的掩模對準技術，并具有**/高的產(chǎn)能,，先進的對準功能和優(yōu)化的總擁有成本,。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)有半自動或自動配置,，并配有集成的振動隔離功能，可在廣/泛的應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,，例如薄和厚光刻膠的曝光,，深腔和類似地形的圖案，以及薄而易碎的材料（例如化合物半導體）的加工,。此外,，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。 EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場升級,。北京光刻機干涉測量應用

EVG120特征2：

先進且經(jīng)過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能,，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量；

工藝技術卓/越和開發(fā)服務：

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

用于過程和機器控制的集成分析功能

設備和過程性能跟/蹤功能；

并行/排隊任務處理功能,；

智能處理功能,；

發(fā)生和警報分析；

智能維護管理和跟/蹤,；

技術數(shù)據(jù)：

可用模塊,；

旋涂/ OmniSpray ® /開發(fā)；

烤/冷,；

晶圓處理選項：

單/雙EE /邊緣處理/晶圓翻轉(zhuǎn),；

彎曲/翹曲/薄晶圓處理。

福建原裝進口光刻機EVG光刻機的掩模對準器和工藝能力經(jīng)過客戶現(xiàn)場驗證,，安裝并集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,。

EVG的光刻機技術：EVG在光刻技術上的關鍵能力在于其掩模對準器的高產(chǎn)能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關知識,。EVG的所有光刻設備平臺均支持300毫米的晶圓,，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并配有用于從上到下的側(cè)面對準驗證的度量工具,。

EVG不斷展望未來的市場趨勢,，因此提供了針對特定應用的解決方案，尤其是在光學3D傳感和光子學市場中,，其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識-源自對各種光刻膠材料進行的廣/泛優(yōu)化研究,。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素。

EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在**小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸,。

技術數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在**小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進的掩模對準技術,。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準,。擁有操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持,，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 研發(fā)設備與EVG的**技術平臺無縫集成，這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈,。

集成化光刻系統(tǒng)

HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合,。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中，然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓,。目前可以預定的型號為：HERCULES,。請訪問官網(wǎng)獲取更多的信息。

EVG光刻機**/新的曝光光學增強功能是對LED燈的設置,。青海光刻機化合物半導體應用

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新的標準,。北京光刻機干涉測量應用

我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

我們的掩模對準系統(tǒng)設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉(zhuǎn)換,。此外,，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻,，熱壓印或微接觸印刷,。所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證軟件，以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性,。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理,，實現(xiàn)現(xiàn)場升級。此外,，所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術,。如果您需要納米壓印設備，請訪問我們的官網(wǎng),，或者直接聯(lián)系我們,。 北京光刻機干涉測量應用

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