EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機,，用于制作主圖章,。母模是晶圓大小的模板，里面完全裝有微透鏡模具,，每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制,。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,，提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,，具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機模塊。

IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),，用于UV微透鏡成型,。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡（WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素）的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,，可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。

EVG40 NT自動測量系統(tǒng),。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,，計量對于驗證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,，EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸（CD）測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗證,，以及許多其他應(yīng)用。 EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻,，以提高**重要的光刻技術(shù)的水平,。半導(dǎo)體光刻機特點

光刻膠處理系統(tǒng)

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計旨在提供**廣/泛的工藝變革,，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,，顯影，烘烤和冷卻模塊,，以滿足個性化生產(chǎn)需求,。這些系統(tǒng)可處理各種材料，例如正性和負性光刻膠,，聚酰亞胺,，薄光刻膠層的雙面涂層，高粘度光刻膠和邊緣保護涂層,。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,，直徑從2寸到300 mm，矩形,，正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,，而無需或只需很短的加工時間,。

重慶ABM光刻機EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是適用于高達300 mm的不同的厚度,，尺寸，形狀的晶圓和基片,。

IQ Aligner®NT自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

特色：IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner NT是用于大批量應(yīng)用的生產(chǎn)力**/高,，技術(shù)**/先進的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。該系統(tǒng)具有**/先進的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,，可完全滿足大批量制造（HVM）的需求,。與EVG的上一代IQ

Aligner系統(tǒng)相比，它的吞吐量提高了2倍,，對準(zhǔn)精度提高了2倍,，是所有掩模對準(zhǔn)器中**/高的吞吐量。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應(yīng)用**苛刻的要求,，同時與競爭性系統(tǒng)相比,，其掩模成本降低了30％，而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準(zhǔn)工具所支持的**/高吞吐量,。

光刻機軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計,，注重用戶友好性，并可輕松引導(dǎo)操作員完成每個流程步驟,。多語言支持,，單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù)，可以簡化用戶的日常操作,。所有EVG系統(tǒng)都可以遠程通信,。因此，我們的服務(wù)包括通過安全連接,，電話或電子郵件,，對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的，實時遠程診斷和排除故障,。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準(zhǔn)備為您提供支持,，這得益于我們分散的全球支持機構(gòu)，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). 可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用,，包括高級封裝,，化合物半導(dǎo)體，功率器件,，LED,，傳感器和MEMS。

EVG ® 620 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（半自動/自動）

特色：EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準(zhǔn)技術(shù)在**小化的占位面積,，支持高達150毫米晶圓尺寸,。

技術(shù)數(shù)據(jù)：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在**小的占位面積上結(jié)合了先進的對準(zhǔn)功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,，提供了**/先進的掩模對準(zhǔn)技術(shù),。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn),。擁有操作員友好型軟件,，**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。 EVG101是光刻膠處理,，EVG105是光刻膠烘焙機，EVG120,、EVG150是光刻膠處理自動化系統(tǒng),。EV Group光刻機當(dāng)?shù)貎r格

EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理，能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場升級,。半導(dǎo)體光刻機特點

EVG6200 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻（NIL）

EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù)：

曝光源

汞光源/紫外線LED光源

先進的對準(zhǔn)功能

手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗證

自動對準(zhǔn)

動態(tài)對準(zhǔn)/自動邊緣對準(zhǔn)

對準(zhǔn)偏移校正算法

EVG6200 NT產(chǎn)能：

全自動：第/一批生產(chǎn)量：每小時180片

全自動：吞吐量對準(zhǔn)：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對準(zhǔn)方式：

上側(cè)對準(zhǔn)：≤±0.5 μm

底側(cè)對準(zhǔn)：≤±1,0 μm

紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 μm /具體取決于基板材料

鍵對準(zhǔn)：≤±2,0 μm

NIL對準(zhǔn)：≤±3.0 μm

曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動軟件控制

曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng)：Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持：CN,，DE，F(xiàn)R,，IT,，JP，KR

實時遠程訪問,，診斷和故障排除

工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,，彎曲，翹曲,，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL 半導(dǎo)體光刻機特點

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等,，目前不斷進行創(chuàng)新和服務(wù)改進,，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司注重以質(zhì)量為中心,，以服務(wù)為理念,，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌,。在社會各界的鼎力支持下,，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗,，為客戶成功提供堅實有力的支持,。