EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,，可分配的訪問(wèn)權(quán)限,，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線(xiàn)LED光源

對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm,；SmartNIL ®：≤±3微米

自動(dòng)分離：柔紫外線(xiàn)NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。廣西納米壓印芯片堆疊應(yīng)用

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專(zhuān)有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站

EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)：

加熱器尺寸：150毫米 ,，200毫米

比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：?jiǎn)涡酒?00毫米

比較大接觸力：10,、20,、60 kN

比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C

夾盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610,，EVG ® 620,，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300,，的Smart View ® NT

真空：

標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

大面積納米壓印免稅價(jià)格EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。

EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案

納米壓印光刻的介紹：

EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商,。EVG開(kāi)拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,，掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專(zhuān)有SmartNIL技術(shù)通過(guò)多年的研究,，開(kāi)發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,，以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿(mǎn)足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果,。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步,。

       通過(guò)中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線(xiàn)基礎(chǔ)設(shè)施,，WaveOptics將超越其客戶(hù)對(duì)下個(gè)季度的預(yù)期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌,。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能,，商用波導(dǎo)來(lái)幫助客戶(hù)將AR顯示器推向市場(chǎng)的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專(zhuān)業(yè)知識(shí),，到2019年,，AR終端用戶(hù)產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場(chǎng)，這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位,。 EVG ? 7200是自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng),。

    具體說(shuō)來(lái)就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng),，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷）,，以確保跨各組件的通道性能的一致性,。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的,。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,，并導(dǎo)致性能下降,。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué),、德克薩斯大學(xué),、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù),。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,，從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò),。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版,。貴州納米壓印服務(wù)為先

IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng),。廣西納米壓印芯片堆疊應(yīng)用

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專(zhuān)有的且經(jīng)過(guò)大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展,，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器,，線(xiàn)柵偏振器,，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,，至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì),、高 效的方法,，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度,。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí),。

廣西納米壓印芯片堆疊應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表,，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等,，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),，為客戶(hù)提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司注重以質(zhì)量為中心,，以服務(wù)為理念,，秉持誠(chéng)信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌,。在社會(huì)各界的鼎力支持下,，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗(yàn),，為客戶(hù)成功提供堅(jiān)實(shí)有力的支持,。