”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,，“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率,，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心,。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場**企業(yè),。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗,”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道,。“通過合作，我們將提供自己獨特的技術(shù),，將晶圓級工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中,，EVG也成為我們***產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù),。"晶圓級光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級光學(xué)器件解決方案為移動式消費電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備,。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時間,，結(jié)構(gòu)光,，生物特征身份認(rèn)證，面部識別,虹膜掃描,，光學(xué)指紋,，頻譜檢測，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像,。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明,，光地毯，平視顯示器,，車內(nèi)感應(yīng),，激光雷達(dá)，內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像,，眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人,。EVG的晶圓級光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到,。EVG ? 610也可以設(shè)計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),。青海納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR，3D傳感器,，光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個平臺上,，用于直徑比較大為300 mm的晶圓,。它是***個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),，以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

本地納米壓印有誰在用EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級光學(xué)（WLO）的制造,。

EVG610特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

EVG610附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

納米壓印設(shè)備哪個好,？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。

納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花,、加壓加熱,、印章、聚合物,、基板,、附加沖壓成型脫模。

將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上,，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài),。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步,。

EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,，例如真空，軟,，硬和接近曝光模式,，以及背面對準(zhǔn)選項。

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化,。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版,。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們,，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識,。我們愿意與您共同進(jìn)步。

**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,，這對于實現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要,。MEMS納米壓印有哪些應(yīng)用

EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。青海納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng),。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓,，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員,。HERCULES

NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合,。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”,，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回,。 青海納米壓印國內(nèi)用戶

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,，是一家磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體,、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā),、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù),，國際貿(mào)易,、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù),。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。公司自創(chuàng)立以來,，投身于磁記錄,，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn),，測試儀器的批發(fā),，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破,。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,，以敏銳的市場洞察力，實現(xiàn)與客戶的成長共贏,。