UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線,，包括不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機,，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù),。高 效,，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,，高度均勻的圖案層和**少的殘留層,，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量,。EVG的SmartNI技術(shù)達到了納米壓印的長期預(yù)期，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能,，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù),。

EVG先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇,。IQAligner納米壓印供應(yīng)商家

    它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā),、原型設(shè)計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料,。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn),，先進的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進的光學(xué)材料,，需要充分地研究化學(xué),、機械與光學(xué)特性，以及已被證實的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴展性,。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗證的大規(guī)模生產(chǎn)中,，以**小的形狀因子達到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能,。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善,，確保晶圓級光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性,。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強雙方的專業(yè)技能,，從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場的要求,。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計與原型制造的速度,，為雙方的客戶保駕護航,。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時間研發(fā)產(chǎn)品的需求,，同時保障比較高的保密性,。內(nèi)蒙古納米壓印應(yīng)用高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,，易于擴展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。

EVG ® 620 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 620 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

SmartNIL

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范圍

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：

軟NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

關(guān)于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計商和制造商，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件,。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像,。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式,。

WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中,。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野,。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖,。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰，無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像,。

      WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),，企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標(biāo)是,，憑借其獨特的技術(shù)和專業(yè)知識,，其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件，以實現(xiàn)****的制造可擴展性和視覺性能,，并為眾多應(yīng)用提供多功能性,。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn),。

EVG610特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG770是用于步進重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,，可用于進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化,。襯底納米壓印有哪些應(yīng)用

EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。IQAligner納米壓印供應(yīng)商家

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,，可分配的訪問權(quán)限,，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持,；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部,；SmartNIL ®：支持

IQAligner納米壓印供應(yīng)商家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄,，半導(dǎo)體,，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等,，價格合理,，品質(zhì)有保證,。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念,，秉持誠信為本的理念,，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下,，持續(xù)創(chuàng)新,，不斷鑄造***服務(wù)體驗,，為客戶成功提供堅實有力的支持,。