微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，這里介紹一下閥門(mén)控制器-主控制器（Valve Controller Introduction）1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸,。1，開(kāi)放/關(guān)閉速度LCD顯示,；2,，當(dāng)閥門(mén)或泵錯(cuò)誤時(shí)，燈點(diǎn)亮：3,，自動(dòng)關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流,；4，有閥門(mén)開(kāi)關(guān)位置的信號(hào)輸出信號(hào),；5,，鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作；6,，無(wú)噪音,，功耗低；7,，歷史管理-打開(kāi)/關(guān)閉/泵關(guān)閉等,；8，UPS功能（1秒）,，微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,，有中國(guó)臺(tái)灣Micron,、UMC、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),，可替代HVA閘閥、VAT閘閥,。金屬材料高壓閘閥主要有：碳鋼閥門(mén),、合金鋼閥門(mén)、不銹鋼閥門(mén),、鑄鐵閥門(mén),、鈦合金閥門(mén)、銅合金閥門(mén)等,。閘閥法蘭閘閥

微泰,，高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥,。其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng),、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸,、法蘭類(lèi)型：CF、連接方式：焊接波紋管,、閥門(mén)密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM,、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec,、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar,、閘門(mén)的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar,、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：250,000次,、閥體溫度≤ 200 °,、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C,、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化),、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron,、UMC,、AKT、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽ｉl閥法蘭閘閥真空閘閥由一個(gè)滑動(dòng)門(mén)或板組成,，可以移動(dòng)以阻止或允許通過(guò)真空閥體,，從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve,。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu),，通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境,。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程,。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,，保持一致的真空壓力,。可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制,。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用,。控制系統(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力,。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）,、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）,、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）,、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）,、Diffusion（擴(kuò)散）,、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥,、VA T閘閥,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries,、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供,。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn),，首先介紹一下起三重保護(hù)的保護(hù)環(huán)機(jī)能，采用鋁質(zhì)材料減少重量,，并提高保護(hù)環(huán)的內(nèi)部粗糙度,，防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì),，保護(hù)環(huán)逐步收窄,，提升流速，防止粉塵黏附,。采用三元系O型圈,，保證保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定（保證30萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)）。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,。可替代HVA閘閥,、VAT閘閥,。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司,。高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動(dòng),，安裝時(shí)有方向性。它的結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度大于閘閥,，同時(shí)流體阻力大,。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有氣動(dòng)多位置閘閥（氣動(dòng)多定位閘閥,、多定位插板閥,、Pneumatic Multi Position）、氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥,，蝶閥,，Butterfly Valve，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve,，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve）,，鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護(hù)閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶(hù)指定的值,，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。閘閥法蘭閘閥

真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè),，包括半導(dǎo)體制造,、研發(fā)、分析類(lèi)儀器和真空鍍膜,。閘閥法蘭閘閥

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案,，真空插板閥品牌—微泰?？刂葡到y(tǒng)閥門(mén)是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群,、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備中的主要閥門(mén)?？刂葡到y(tǒng)閥門(mén)起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,，通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開(kāi)啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門(mén)分為三類(lèi)：控制系統(tǒng)閘閥,、蝶閥、多定位閘閥,?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥,、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作,。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC,、AKT,、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,、日本Micron,、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。閘閥法蘭閘閥