當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對(duì)稱(chēng)性很差時(shí),，如圖2,，樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然，也可能是由于非晶碳或無(wú)定形碳的存在,。需要對(duì)衍射峰進(jìn)行分峰處理,，得到各個(gè)子峰的峰位和積分強(qiáng)度值，如圖2所示,。分別計(jì)算各子峰的石墨化度,，再利用各子峰的積分強(qiáng)度為權(quán)重，歸一化樣品的石墨化度,。圖2石墨實(shí)驗(yàn)（藍(lán)色數(shù)據(jù)點(diǎn)）及分峰擬合圖譜（紅色：擬合圖譜，兩綠色為單峰擬合結(jié)果）石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融,、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性?xún)?yōu)異等特點(diǎn),，應(yīng)用于冶金,、化工、航空航天等行業(yè),。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎,、焙燒,、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一,。定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測(cè)定 微米大小X射線(xiàn)束局部分析。廣東進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料,。由于厚度比較薄,，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試,，X射線(xiàn)的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米,，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）,。另外,，如果衍射簡(jiǎn)單較高，那么X射線(xiàn)只能輻射到部分樣品,，無(wú)法利用整個(gè)樣品的體積,，衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問(wèn)題,。所謂掠入射是指使X射線(xiàn)以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上,，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線(xiàn)在薄膜中的光程,。這里有兩點(diǎn)說(shuō)明：GID需要硬件配置,；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜,。湖南進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢(xún)而有了UMC樣品臺(tái)的加持,，D8 DISCOVER更是成為了電動(dòng)位移和重量能力方面的同類(lèi)較好。

薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,，不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能,。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量,、殘余應(yīng)力,、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析,。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),，著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析,，從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜等。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線(xiàn)反射高分辨率X射線(xiàn)衍射倒易空間掃描,，由于具有出色的適應(yīng)能力,，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末,、從薄膜到固體塊狀物,。無(wú)論是新手用戶(hù)還是**用戶(hù)，都可簡(jiǎn)單快捷,、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改,。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具,、免準(zhǔn)直,，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證,。目前,，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE,。

獲得的TRIO光路簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類(lèi)型,。為便于用戶(hù)使用,，該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化電動(dòng)切換功能，可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換,。系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù),，即可在三個(gè)光路之間切換：用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細(xì)管、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環(huán)境條件或非環(huán)境條件下對(duì)所有樣品類(lèi)型進(jìn)行分析,，其中包括粉末,、塊狀材料、纖維,、片材和薄膜（非晶,、多晶和外延）。使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性,。通過(guò)積分2D圖像,，進(jìn)行1D掃描，來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀(guān)結(jié)構(gòu)分析,。

殘余應(yīng)力分析：：在DIFFRAC.LEPTOS中,，使用sin2psi法，用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量，對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析,。使用了2D檢測(cè)器的μXRD：使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性,。通過(guò)積分2D圖像，進(jìn)行1D掃描,，來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀(guān)結(jié)構(gòu)分析。定性相分析：候選材料鑒別（PMI）為常見(jiàn),，這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,，而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。高通量篩選（HTS）:在DIFFRAC.EVA中,，進(jìn)行半定量分析,，以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD：在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線(xiàn)并將其與測(cè)量同步,，然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果,。小角X射線(xiàn)散射（SAXS）：在DIFFRAC.SAXS中，對(duì)EIGER2R500K通過(guò)2D模式手機(jī)的NISTSRM80119nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析,。定性相分析和定量相分析,、結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修、微應(yīng)變和微晶尺寸分析,。深圳購(gòu)買(mǎi)XRD衍射儀哪里好

在DIFFRAC.EVA中,，對(duì)塑料薄膜進(jìn)行WAXS測(cè)量分析。然后塑料纖維的擇優(yōu)取向便顯而易見(jiàn)了,。廣東進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

汽車(chē)和航空航天：配備了UMC樣品臺(tái)的D8D的一大優(yōu)勢(shì)就是可以對(duì)大型機(jī)械零件進(jìn)行殘余應(yīng)力和結(jié)構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征,。半導(dǎo)體與微電子：從過(guò)程開(kāi)發(fā)到質(zhì)量控制，D8D可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征,。制藥業(yè)篩選：新結(jié)構(gòu)測(cè)定以及多晶篩選是藥物開(kāi)發(fā)的關(guān)鍵步驟,，對(duì)此，D8D具有高通量篩選功能,。儲(chǔ)能/電池：使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測(cè)試電池材料,，直接了當(dāng)?shù)墨@取不斷變化的儲(chǔ)能材料的晶體結(jié)構(gòu)和相組方面的信息。廣東進(jìn)口XRD衍射儀推薦咨詢(xún)

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