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淄博半導(dǎo)體晶圓

來源: 發(fā)布時間:2022-03-21

    所述動力腔26內(nèi)設(shè)有可控制所述升降塊15間歇性往返升降,,來達到連續(xù)切割狀態(tài)的動力機構(gòu)103,所述切割腔27靠上側(cè)位置設(shè)有兩個左右對稱,且能用來冷卻所述切割片50的海綿52,,所述切割腔27的靠上側(cè)位置左右兩側(cè)連通設(shè)有冷卻水腔14,是冷卻水腔14的上側(cè)連通設(shè)有傳動腔55,,所述傳動腔55內(nèi)設(shè)有可控制所述海綿52在所述切割片50上升時抵接所述切割片50,,達到冷卻效果的傳動機構(gòu)104,所述傳動機構(gòu)104與所述動力機構(gòu)103聯(lián)動運轉(zhuǎn),。另外,,在一個實施例中,所述步進機構(gòu)101包括固設(shè)在所述滑塊47底面上的步進塊37,,所述步進塊37位于所述從動腔62內(nèi),,所述步進塊37的底面固設(shè)有***齒牙38,所述從動腔62的后壁上轉(zhuǎn)動設(shè)有兩個左右對稱的旋轉(zhuǎn)軸36,,所述旋轉(zhuǎn)軸36的外周上固設(shè)有***連桿32,,所述從動腔62的后壁上鉸接設(shè)有兩個左右對稱的第二連桿30,所述第二連桿30與所述***連桿32之間鉸接設(shè)有三叉連桿31,,所述三叉連桿31另一側(cè)鉸接設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸36,,兩個所述旋轉(zhuǎn)軸36的頂面上固設(shè)有一個橫條33,所述橫條33的頂面上固設(shè)有第二齒牙34,,所述第二齒牙34可與所述***齒牙38嚙合,,通過所述旋轉(zhuǎn)軸36的旋轉(zhuǎn),可使所述***連桿32帶動所述三叉連桿31繞圓弧方向左右晃動,。怎么選擇質(zhì)量好的半導(dǎo)體晶圓,?淄博半導(dǎo)體晶圓

    f1為超聲波或兆聲波的頻率。根據(jù)公式(10)和(11),,內(nèi)爆周期數(shù)ni和內(nèi)爆時間τi可以被計算出來,。表1為內(nèi)爆周期數(shù)ni、內(nèi)爆時間τi和(δt–δt)的關(guān)系,,假設(shè)ti=3000℃,,δt=℃,t0=20℃,,f1=500khz,,f1=1mhz,及f1=2mhz,。表1圖6a至圖6c揭示了在聲波晶圓清洗工藝中**終發(fā)生微噴射且工藝參數(shù)符合公式(1)-(11),。參考圖6a所示,電功率(p)連續(xù)供應(yīng)至聲波裝置以在清洗液中產(chǎn)生氣穴振蕩,。隨著氣穴振蕩的周期數(shù)n增加,,如圖6b所示氣體或蒸汽的溫度也隨之增加,因此氣泡表面更多的分子會被蒸發(fā)至氣泡6082內(nèi)部,導(dǎo)致氣泡6082的尺寸隨著時間的推移而增加,,如圖6c所示,。**終,在壓縮過程中氣泡6082內(nèi)部的溫度將達到內(nèi)爆溫度ti(通常ti高達幾千攝氏度),,猛烈的微噴射6080發(fā)生,,如圖6c所示。因此,,為了避免在清洗期間損傷晶圓的圖案結(jié)構(gòu),,必須保持穩(wěn)定的氣穴振蕩,避免氣泡內(nèi)爆和發(fā)生微噴射,。圖7a至圖7e揭示了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的聲波晶圓清洗工藝,。圖7a揭示了間歇供給聲波裝置以在清洗液中產(chǎn)生氣穴振蕩的電源輸出的波形。圖7b揭示了對應(yīng)每個氣穴振蕩周期的溫度曲線,。圖7c揭示了在每個氣穴振蕩周期期間,,氣泡的尺寸在τ1時間段內(nèi)增加及在τ2時間段內(nèi)電源切斷后氣泡尺寸減小。遼寧半導(dǎo)體晶圓國產(chǎn)國內(nèi)半導(dǎo)體晶圓廠家哪家好,?

    上述步驟7210至7240可以重復(fù)操作以此來縮小內(nèi)爆時間τi的范圍,。在知道內(nèi)爆時間τi后,τ1可以在安全系數(shù)下設(shè)置為小于τi的值,。以下段落用于敘述本實驗的一實例,。假設(shè)圖案結(jié)構(gòu)為55nm的多晶硅柵線,超聲波的頻率為1mhz,,使用prosys制造的超聲波或兆聲波裝置,,采用間隙振蕩模式(在pct/cn2008/073471中披露)操作以在晶圓內(nèi)和晶圓間獲得更均勻能量分布。以下表2總結(jié)了其他試驗參數(shù)以及**終的圖案損傷數(shù)據(jù):表2在一個試驗中,,當τ1=2ms(或周期數(shù)為2000)時,,前面提到的聲波清洗工藝在55nm的特征尺寸下,對圖案結(jié)構(gòu)造成的損傷高達1216個點,。當τ1=(或周期數(shù)為100)時,,聲波清洗工藝對相同的圖案結(jié)構(gòu)造成的損傷為0。所以τi為,。通過縮小τ1的范圍來做更多的試驗可進一步縮小τi的范圍,。在上述實驗中,周期數(shù)取決于超聲波或兆聲波的功率密度和頻率,。功率密度越大,,則周期數(shù)越小,;頻率越低,,則周期數(shù)越小,。從以上實驗結(jié)果可以預(yù)測出無損傷的周期數(shù)應(yīng)該小于2000,假設(shè)超聲波或兆聲波的功率密度大于,,頻率小于或等于1mhz。如果頻率增大到大于1mhz或功率密度小于,,那么可以預(yù)測周期數(shù)將會增加,。知道時間τ1后,τ2也可以基于與上述相似的doe方法來獲得,。確定時間τ1,。

    一些氣泡內(nèi)爆繼續(xù)發(fā)生,,然后,,在時間段τ2內(nèi),關(guān)閉聲波功率,,氣泡的溫度從tn冷卻至初始溫度t0,。ti被確定為通孔和/或槽的圖案結(jié)構(gòu)內(nèi)的氣泡內(nèi)爆的溫度閾值,,該溫度閾值觸發(fā)***個氣泡內(nèi)爆,。由于熱傳遞在圖案結(jié)構(gòu)內(nèi)是不完全均勻的,溫度達到ti后,,越來越多的氣泡內(nèi)爆將不斷發(fā)生。當內(nèi)爆溫度t增大時,,氣泡內(nèi)爆強度將變的越來越強,。然而,,氣泡內(nèi)爆應(yīng)控制在會導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷的內(nèi)爆強度以下。通過調(diào)整時間△τ可以將溫度tn控制在溫度td之下來控制氣泡內(nèi)爆,,其中tn是超/兆聲波對清洗液連續(xù)作用n個周期的氣泡**高溫度值,,td是累積一定量的氣泡內(nèi)爆的溫度,該累積一定量的氣泡內(nèi)爆具有導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷的**度(能量),。在該清洗工藝中,,通過控制***個氣泡內(nèi)爆開始后的時間△τ來實現(xiàn)對氣泡內(nèi)爆強度的控制,,從而達到所需的清洗性能和效率,且防止內(nèi)爆強度太高而導(dǎo)致圖案結(jié)構(gòu)損傷,。為了提高顆粒去除效率(pre),,在如圖22a至22b所示的超或兆聲波清洗過程中,需要有可控的非穩(wěn)態(tài)的氣穴振蕩,??煽氐姆欠€(wěn)態(tài)的氣穴振蕩是通過設(shè)置聲波電源在時間間隔小于τ1內(nèi)功率為p1,設(shè)置聲波電源在時間間隔大于τ2內(nèi)功率為p2,,重復(fù)上述步驟直到晶圓被清洗干凈,,其**率p2等于0或遠小于功率p1。半導(dǎo)體晶圓定制價格,?

    在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,,光阻層的涂敷、曝光和成像對元器件的圖案制造來說是必要的工藝步驟,。在圖案化的***(即在光阻層的涂敷,、成像,、離子植入和蝕刻之后)進行下一工藝步驟之前,,光阻層材料的殘留物需徹底除去。至今在半導(dǎo)體制造工業(yè)中一般使用兩步法(干法灰化和濕蝕刻)除去這層光阻層膜,。第一步利用干法灰化除去光阻層(PR)的大部分,;第二步利用緩蝕劑組合物濕蝕刻/清洗工藝除去且清洗掉剩余的光阻層,其步驟一般為清洗液清洗/漂洗/去離子水漂洗,。在這個過程中只能除去殘留的聚合物光阻層和無機物,,而不能攻擊損害金屬層如鋁層。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明旨在提供了一種用于半導(dǎo)體晶圓等離子蝕刻殘留物的清洗液,。本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種用于半導(dǎo)體晶圓等離子蝕刻殘留物的清洗液,,其是由如下重量份數(shù)的原料組成:有機溶劑44-50份、氟化物8-15份,、氯化物10-12份,、甲基丙烯酸甲酯4-8份、有機胺5-10份,、氨基酸12-15份,、胍類12-18份、苯并三氮唑4-7份,、有機羧酸18-20份,、硫脲22-25份和水60-72份。所述有機溶劑為選自亞砜,、砜,、咪唑烷酮,、吡咯烷酮、咪唑啉酮,、酰胺和醚中的一種或多種,。所述氟化物為氟化氫、或氟化氫與堿形成的鹽,。半導(dǎo)體晶圓推薦貨源.?東莞半導(dǎo)體晶圓價格優(yōu)惠

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