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EVG?610BA鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于蕞大200mm晶圓尺寸的晶圓間對(duì)準(zhǔn),。EVGroup的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可通過底側(cè)顯微鏡提供手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)。EVG的鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生...

封裝技術(shù)對(duì)微機(jī)電系統(tǒng) (micro-electro-mechanical system,MEMS) 器件尺寸及功能的影響巨大,，已成為 MEMS技術(shù)發(fā)展和實(shí)用化的關(guān)鍵技術(shù)［1］,。實(shí)現(xiàn)封裝的技術(shù)手段很多，其中較關(guān)鍵的工藝步驟就是鍵合工藝,。隨著 MEMS 技術(shù)的發(fā)展...

鍵合機(jī)特征高真空,，對(duì)準(zhǔn)，共價(jià)鍵合 在高真空環(huán)境（<5·10-8mbar）中進(jìn)行處理 原位亞微米面對(duì)面對(duì)準(zhǔn)精度 高真空MEMS和光學(xué)器件封裝原位表面和原生氧化物去除 優(yōu)異的表面性能 導(dǎo)電鍵合 室溫過程 多種材料組合,，包括金屬（鋁） 無(wú)應(yīng)力鍵合界面 高鍵合強(qiáng)度 用...

EVGroup開發(fā)了MLE?（無(wú)掩模曝光）技術(shù),，通過消除與掩模相關(guān)的困難和成本，滿足了HVM世界中設(shè)計(jì)靈活性和蕞小開發(fā)周期的關(guān)鍵要求,。MLE?解決了多功能（但緩慢）的開發(fā)設(shè)備與快速（但不靈活）的生產(chǎn)之間的干擾,。它提供了可擴(kuò)展的解決方案，可同時(shí)進(jìn)行裸片和晶圓級(jí)設(shè)...

EVG?820層壓系統(tǒng) 將任何類型的干膠膜（膠帶）自動(dòng)無(wú)應(yīng)力層壓到晶圓上 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG820層壓站用于將任何類型的干膠膜自動(dòng),，無(wú)應(yīng)力地層壓到載體晶片上,。這項(xiàng)獨(dú)特的層壓技術(shù)可對(duì)卷筒上的膠帶進(jìn)行打孔，然后將其對(duì)齊并層壓到晶圓上,。該材料通常是雙面膠帶,。利用...

EVG?520IS晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng)：?jiǎn)吻换螂p腔晶圓鍵合系統(tǒng)，用于小批量生產(chǎn),。EVG520IS單腔單元可半自動(dòng)操作ZUI大200mm的晶圓,，適用于小批量生產(chǎn)應(yīng)用,。EVG520IS根據(jù)客戶反饋和EVGroup的持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新進(jìn)行了重新設(shè)計(jì)，具有EVGroup專有的對(duì)稱...

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封裝Bump測(cè)量視場(chǎng)：72*96（um）物鏡：干涉50X檢測(cè)位置：樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D顯示,；線粗糙度分析：Ra,Ry,，Rz，…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)...

強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件美國(guó)硅谷研發(fā),、中英文自由切換光機(jī)電一體化軟硬件集成三維分析處理迅速,，結(jié)果實(shí)時(shí)更新縮放、定位,、平移,、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理自主設(shè)定測(cè)量閾值，三維處理自動(dòng)標(biāo)注測(cè)量模式可根據(jù)需求自由切換三維圖像支持高清打印菜單式參數(shù)設(shè)置,，一鍵式操作,，人機(jī)界面?zhèn)€性...

輪廓儀的和新團(tuán)隊(duì)夏勇博士，江蘇省雙創(chuàng)人才15年ADE,，KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)、項(xiàng)目管理經(jīng)驗(yàn)SuperSightInc.CEO/共同創(chuàng)始人,，太陽(yáng)能在線檢測(cè)設(shè)備唐壽鴻博士,，國(guó)家千人****25年ADE，KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)...

1）白光輪廓儀的典型應(yīng)用：對(duì)各種產(chǎn)品,，不見和材料表面的平面度,，粗糙度，波溫度,，面型輪廓,，表面缺陷，磨損情況,，腐蝕情況,，孔隙間隙，臺(tái)階高度,，完全變形情況,，加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。2）共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源,、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤,、帶有壓電...

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度,，平面度，平行度,，臺(tái)階高度,，錐角等）幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體,，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光...

關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,，至于測(cè)量零件的表面輪廓，要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,，如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來代替的,。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,，而輪廓儀都在2um...

1.5.系統(tǒng)培訓(xùn)的注意事項(xiàng)如何使用電子書閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊(cè),；數(shù)據(jù)采集功能的講解：通訊端口,、連接計(jì)算器、等待時(shí)間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置,；實(shí)際演示一一講解,；如何做好備份和恢復(fù)備份資料；當(dāng)場(chǎng)演示各種報(bào)表的操作并進(jìn)行操作解說,；數(shù)據(jù)庫(kù)文件應(yīng)定時(shí)作備份,，大變動(dòng)時(shí)...

輪廓儀的物鏡知多少?白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度,，平面度，平行度,，臺(tái)階高度,，錐角等）幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑,，特征區(qū)域的面積和集體,，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光...

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封裝Bump測(cè)量視場(chǎng)：72*96（um）物鏡：干涉50X檢測(cè)位置：樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D顯示；線粗糙度分析：Ra,Ry,，Rz,，…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)...

輪廓儀的物鏡知多少？白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,，以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,，典型結(jié)果包括：表面形貌（粗糙度，平面度,，平行度,，臺(tái)階高度，錐角等）幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸,，曲率半徑,，特征區(qū)域的面積和集體,，特征圖形的位置和數(shù)量等）白光...

輪廓的角度處理:角度處理：兩直線夾角、直線與Y軸夾角,、直線與X軸夾角點(diǎn)線處理：兩直線交點(diǎn),、交點(diǎn)到直線距離、交點(diǎn)到交點(diǎn)距離,、交點(diǎn)到圓心距離,、交點(diǎn)到點(diǎn)距離圓處理：圓心距離、圓心到直線的距離,、交點(diǎn)到圓心的距離,、直線到切點(diǎn)的距離線處理：直線度、凸度,、LG凸度,、對(duì)數(shù)曲線...

輪廓儀的主要客戶群體300mm集成電路技術(shù)封裝生產(chǎn)線檢測(cè)集成電路工藝技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室高效太陽(yáng)能電池技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化MEMS技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化新型顯示技術(shù)研發(fā),、產(chǎn)業(yè)化超高精密表面工程技術(shù)輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測(cè)量?jī)x器,，儀器傳感器相對(duì)被測(cè)工件表而作勻速滑行...

輪廓儀，能描繪工件表面波度與粗糙度,，并給出其數(shù)值的儀器,，采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測(cè)試儀是對(duì)物體的輪廓,、二維尺寸,、二維位移進(jìn)行測(cè)試與檢驗(yàn)的儀器,，作為精密測(cè)量?jī)x器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范,。（來自網(wǎng)絡(luò)）先進(jìn)的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測(cè)技...

蕞大視場(chǎng)Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野，其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時(shí)切換多個(gè)物鏡的需要,，更進(jìn)一步減少總體成本,。手動(dòng)式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡，能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測(cè)量應(yīng)用,。索取技術(shù)資料索取報(bào)價(jià)性能規(guī)格厚度范圍,W...

白光干涉輪廓儀對(duì)比激光共聚焦輪廓儀白光干涉3D顯微鏡：干涉面成像,，多層垂直掃描蕞好高度測(cè)量精度：<1nm高度精度不受物鏡影響性價(jià)比好。激光共聚焦3D顯微鏡：點(diǎn)掃描合成面成像,，多層垂直掃描Keyence（日本）蕞好高度測(cè)量精度：～10nm高度精度由物鏡決定,，1u...

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用封裝Bump測(cè)量視場(chǎng)：72*96（um）物鏡：干涉50X檢測(cè)位置：樣品局部面減薄表面粗糙度分析封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D顯示；線粗糙度分析：Ra,Ry,，Rz,，…器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高M(jìn)EMS器件多層結(jié)構(gòu)...

UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng),，大面積壓印機(jī)以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng),。除了柔軟的UV-NIL,，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種...

EVG?720自動(dòng)SmartNIL?UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVGs專有SmartNIL?技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí),，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu),。具有SmartNIL技術(shù)...

EVGroup企業(yè)技術(shù)總監(jiān)ThomasGlinsner博士證實(shí)：“我們看到支持晶圓級(jí)光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加?！薄癑IN從今年年初開始,，我們就向大型WLO制造商交付了多個(gè)用于透鏡成型和堆疊以及計(jì)量的系統(tǒng)，以進(jìn)行大批量生產(chǎn),。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)...

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等,。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折,，無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu),。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸...

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu),。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),，...

EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)含有：EVG610,；EVG620NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；EVG6200NT半自動(dòng)/全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQAligner自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),；IQAlignerNT自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)；【EVG?610掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)】EVG?610是一個(gè)緊湊...

EVG?610曝光源：汞光源/紫外線LED光源,；楔形補(bǔ)償全自動(dòng)軟件控制,；晶圓直徑（基板尺寸）高達(dá)100/150/200毫米；曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式,；曝光選項(xiàng)：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光,；先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證手動(dòng)交叉校正...

EVG620NT技術(shù)數(shù)據(jù)：曝光源：汞光源/紫外線LED光源先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能：手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對(duì)準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)偏移校正算法EVG620NT產(chǎn)量:全自動(dòng)：弟一批生產(chǎn)量：每小時(shí)180片全自動(dòng)：吞吐量對(duì)準(zhǔn)：每小時(shí)140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：...