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“納米制造”路線圖強(qiáng)調(diào)了未來(lái)納米表面制造的發(fā)展,。問(wèn)卷調(diào)查探尋了納米表面制備所面臨的機(jī)遇,。調(diào)查中提出的問(wèn)題旨在獲取納米表面特征的相關(guān)信息：這種納米表面結(jié)構(gòu)可以是形貌化、薄膜化的改良表面區(qū)域，也可以是具有相位調(diào)制或一定晶粒尺寸的涂層,。這類結(jié)構(gòu)構(gòu)建于眾多固體材料表面，如金屬,、陶瓷,、玻璃、半導(dǎo)體和聚合物等,?？偨Y(jié)了調(diào)查結(jié)果與發(fā)現(xiàn)，并闡明了未來(lái)納米表面制造的前景,。納米表面可產(chǎn)生自材料的消解,、沉積、改性或形成過(guò)程,。這導(dǎo)致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學(xué),、物理和生物特性（比如催化作用、磁性質(zhì),、電性質(zhì),、光學(xué)性質(zhì)或抗細(xì)菌性）。在納米科學(xué)許多已有的和新興的子領(lǐng)域中,，表面工程已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從基礎(chǔ)科學(xué)向現(xiàn)實(shí)應(yīng)用...

ICP（感應(yīng)耦合等離子）刻蝕GaN是物料濺射和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的復(fù)雜過(guò)程,。刻蝕GaN主要使用到氯氣和三氯化硼,，刻蝕過(guò)程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂,，此為物理濺射，產(chǎn)生活性的Ga和N原子,，氮原子相互結(jié)合容易析出氮?dú)?，Ga原子和Cl離子生成容易揮發(fā)的GaCl2或者GaCl3。光刻（Photolithography)是一種圖形轉(zhuǎn)移的方法,，在微納加工當(dāng)中不可或缺的技術(shù),。光刻是一個(gè)比較大的概念，其實(shí)它是有多步工序所組成的,。1.清洗：清洗襯底表面的有機(jī)物,。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面。3.曝光,。將光刻版與襯底對(duì)準(zhǔn),，在紫外光下曝光一定的時(shí)間。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時(shí)間,，...

微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米,、微米和納米量級(jí)元件以及由這些元件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)、加工、組裝,、系統(tǒng)集成與應(yīng)用技術(shù),，涉及領(lǐng)域廣、多學(xué)科交叉融合,，其較主要的發(fā)展方向是微納器件與系統(tǒng)（MEMS）,。微納器件與系統(tǒng)是在集成電路制作上發(fā)展的系列**技術(shù)，研制微型傳感器,、微型執(zhí)行器等器件和系統(tǒng),，具有微型化、批量化,、成本低的鮮明特點(diǎn),，微納加工技術(shù)對(duì)現(xiàn)代的生活、生產(chǎn)產(chǎn)生了巨大的促進(jìn)作用,，并催生了一批新興產(chǎn)業(yè),。在Si片上形成具有垂直側(cè)壁的高深寬比溝槽結(jié)構(gòu)是制備先進(jìn)MEMS器件的關(guān)鍵工藝，其各向異性刻蝕要求非常嚴(yán)格,。高深寬比的干法刻蝕技術(shù)以其刻蝕速率快、各向異性較強(qiáng),、污染少等優(yōu)點(diǎn)脫穎而出,，成為MEMS器件加工...

微納制造技術(shù)一般是指微米、納米級(jí)的材料,、設(shè)計(jì),、制造、測(cè)量控制和產(chǎn)品的研發(fā),、加工,、制造以及應(yīng)用技術(shù)。微納制造技術(shù)是繼IT,、生物技術(shù)之后,，21世紀(jì)較具發(fā)展?jié)摿Φ难芯款I(lǐng)域和新興產(chǎn)業(yè)之一。微納制造技術(shù)較早是由加工精度研究的角度延伸出來(lái)的,。伴隨著科技進(jìn)步和制造業(yè)的快速發(fā)展,，人們對(duì)加工精度的要求越來(lái)越高，傳統(tǒng)加工方式的加工精度越來(lái)越難以滿足諸多領(lǐng)域的應(yīng)用和研究需求,。這一需求促使人們投入到更高精度加工技術(shù)的研發(fā)上,。從較初的毫米級(jí)（10-3m）到微米級(jí)（10-6m）和納米級(jí)（10-9m），人類的制造水平逐步由宏觀尺度向微觀尺度邁進(jìn),，“微納制造技術(shù)”的概念也應(yīng)運(yùn)而生,。微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：微型化。甘肅微納加工服務(wù)...

高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)可以通過(guò)電子束直寫或激光直寫制作，這類光刻技術(shù),，像“寫字”一樣,，通過(guò)控制聚焦電子束（光束）移動(dòng)書寫圖案進(jìn)行曝光，具有比較高的曝光精度,，但這兩種方法制作效率極低,，尤其在大面積制作方面捉襟見(jiàn)肘，目前直寫光刻技術(shù)*適用于小面積的微納結(jié)構(gòu)制作,。近年來(lái),，三維浮雕微納結(jié)構(gòu)的需求越來(lái)越大，如閃耀光柵,、菲涅爾透鏡,、多臺(tái)階微光學(xué)元件等。據(jù)悉,，某公司新上市的手機(jī)產(chǎn)品中人臉識(shí)別模塊就采用了多臺(tái)階微光學(xué)元件,，以及當(dāng)下如火如荼的無(wú)人駕駛技術(shù)中激光雷達(dá)光學(xué)系統(tǒng)也用到了復(fù)雜的微光學(xué)元件。這類精密的微納結(jié)構(gòu)光學(xué)元件需采用灰度光刻技術(shù)進(jìn)行制作,。直寫技術(shù),，通過(guò)在光束移動(dòng)過(guò)程中進(jìn)行相應(yīng)的曝光能量調(diào)節(jié)，可以實(shí)現(xiàn)良好的...

Mems加工工藝和微納加工大體上都是一樣的,，只是表述不一樣而已,，MEMS即是微機(jī)械電子系統(tǒng)，大多時(shí)候等同于微納系統(tǒng)是根據(jù)產(chǎn)品需要,，在各類襯底（硅襯底,，玻璃襯底，石英襯底,，藍(lán)寶石襯底等等）制作微米級(jí)微型結(jié)構(gòu)的加工工藝,。微納傳感器加工工藝制作的微型結(jié)構(gòu)主要是作為各類傳感器和執(zhí)行器等，其中更加器件原理需要而制作的可動(dòng)結(jié)構(gòu)（齒輪,，懸臂梁,，空腔，橋結(jié)構(gòu)等等）以及各種功能材料,，本質(zhì)上是將環(huán)境中的各種特征參數(shù)（溫度,，壓力，氣體,，流量等等）變化通過(guò)微型結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為各種電信號(hào)（電壓,，電阻，電流等等）的差異,，以實(shí)現(xiàn)小型化高靈敏的傳感器和執(zhí)行器,。濕法刻蝕較普遍,、也是成本較低的刻蝕方法。深圳MEMS微納加工代工通過(guò)光刻...

平臺(tái)目前已配備各類微納加工和表征測(cè)試設(shè)備50余臺(tái)套,，擁有一條相對(duì)完整的微納加工工藝線,，可制成2-6英寸樣品，涵蓋了圖形發(fā)生,、薄膜制備,、材料刻蝕、表征測(cè)試等常見(jiàn)的工藝段,，可以進(jìn)行常見(jiàn)微納米結(jié)構(gòu)和器件的加工,，極限線寬達(dá)到600納米，材料種類包括硅基,、化合物半導(dǎo)體等多種類型材料,，可以有力支撐多學(xué)科領(lǐng)域的半導(dǎo)體器件加工以及微納米結(jié)構(gòu)的表征測(cè)試需求。微納加工平臺(tái)支持基礎(chǔ)信息器件與系統(tǒng)等多領(lǐng)域,、交叉學(xué)科,，開(kāi)展前沿信息科學(xué)研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)。作為開(kāi)放共享服務(wù)平臺(tái),，支撐的研究領(lǐng)域包括新型器件,、柔性電子器件、微流體,、發(fā)光芯片,、化合物半導(dǎo)體、微機(jī)電器件與系統(tǒng)（MEMS）等,。以高效、創(chuàng)新,、穩(wěn)定,、合作共贏的合作理念，歡迎...

獲得或保持率先競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的優(yōu)勢(shì)將維持強(qiáng)勁的經(jīng)濟(jì),、提供動(dòng)力以滿足社會(huì)需求,，而微納制造技術(shù)能力正在成為這其中的關(guān)鍵使能因素。微納制造技術(shù)可以幫助企業(yè),、產(chǎn)業(yè)形成競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),。得益于私營(yíng)部門和公共部門之間的合作，它們的快速發(fā)展提升了許多不同應(yīng)用領(lǐng)域的歐洲公司的市場(chǎng)份額,，促進(jìn)了協(xié)作研究,。需要強(qiáng)調(diào)的，產(chǎn)業(yè)界和學(xué)術(shù)界的合作在增加公司的市場(chǎng)實(shí)力上發(fā)揮了重要作用,；這種合作使得那些阻礙創(chuàng)新,、新技術(shù)與高水平的教育需求等進(jìn)展的問(wèn)題的解決變得更為容易。濕法刻蝕較普遍、也是成本較低的刻蝕方法,。云南半導(dǎo)體微納加工服務(wù)微納加工工藝基本分為表面加工體加工兩大塊,，基本流程如下：表面加工基本流程如下：首先：沉積系繩層材料；第二步：光刻定...

微納制造技術(shù)是指尺度為毫米,、微米和納米量級(jí)的零件,，以及由這些零件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、加工,、組裝,、集成與應(yīng)用技術(shù)。傳統(tǒng)“宏”機(jī)械制造技術(shù)已不能滿足這些“微”機(jī)械和“微”系統(tǒng)的高精度制造和裝配加工要求,，必須研究和應(yīng)用微納制造的技術(shù)與方法,。微納制造技術(shù)是微傳感器、微執(zhí)行器,、微結(jié)構(gòu)和功能微納系統(tǒng)制造的基本手段和重要基礎(chǔ),。不同的表面微納結(jié)構(gòu)可以呈現(xiàn)出相應(yīng)的功能，隨著科技的發(fā)展,，不同功能的微納結(jié)構(gòu)及器件將會(huì)得到更多的應(yīng)用,。目前表面功能微納結(jié)構(gòu)及器件，諸如超材料,、超表面等充滿“神奇”力量的結(jié)構(gòu)或器件,，的發(fā)展仍受到微納加工技術(shù)的限制。因此,，研究功能微納結(jié)構(gòu)及器件需要從微納結(jié)構(gòu)的加工技術(shù)方面進(jìn)行普遍深入的研...

微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米,、微米和納米量級(jí)元件以及由這些元件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)、加工,、組裝,、系統(tǒng)集成與應(yīng)用技術(shù)。微納加工按技術(shù)分類,，主要分為平面工藝,、探針工藝、模型工藝,。主要介紹微納加工的平面工藝,，平面工藝主要可分為薄膜工藝、圖形化工藝（光刻）,、刻蝕工藝,。光刻是微納加工技術(shù)中較關(guān)鍵的工藝步驟，光刻的工藝水平?jīng)Q定產(chǎn)品的制程水平和性能水平,。光刻的原理是在基底表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠,，再用光線（一般是紫外光,、深紫外光、極紫外光）透過(guò)光刻板照射在基底表面,，被光線照射到的光刻膠會(huì)發(fā)生反應(yīng),。此后用顯影液洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實(shí)現(xiàn)了圖形從光刻板到基底的轉(zhuǎn)移,。微納加工包括光刻,、磁控...

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如,，可以用平整的玻璃板,，涂覆上金屬鉻薄膜，通過(guò)類似照相制版的方法制備而成,。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備,，其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程，包括金屬各層沉積,、涂膠,、電子束光刻、顯影,、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程,。由于模板像素超多，用掃描式光刻機(jī)制作掩模板的速度相當(dāng)慢,，造價(jià)十分昂貴,。曝光光刻是圖形形成的中心工藝過(guò)程，可分為正膠工藝和負(fù)膠工藝,，采用相同掩模板制作時(shí),，二者可獲得互補(bǔ)的圖形結(jié)構(gòu)。另外,，按照不同工作距離可分為接近式曝光,、近貼式曝光（接觸曝光）和投射式光學(xué)曝光；按照曝光系統(tǒng)的工作光源又可分為紫外線曝光,、X射線與及紫外線曝光、...

無(wú)論是大批量還是小規(guī)模生產(chǎn)定制產(chǎn)品,，都需要開(kāi)發(fā)新一代的模塊化,、知識(shí)密集的、可升級(jí)的和可快速配置的生產(chǎn)系統(tǒng),。而這將用到那些新近涌現(xiàn)出來(lái)的微納技術(shù)研究成果以及新的工業(yè)生產(chǎn)理論體系,。給出了微納制造系統(tǒng)與平臺(tái)的發(fā)展前景。未來(lái)幾年微納制造系統(tǒng)和平臺(tái)的發(fā)展前景包括以下幾個(gè)方面：（1）微納制造系統(tǒng)的設(shè)計(jì),、建模和仿真,；（2）智能的,、可升級(jí)的和適應(yīng)性強(qiáng)的微納制造系統(tǒng)（工藝、設(shè)備和工具集成）,；（3）新型靈活的,、模塊化的和網(wǎng)絡(luò)化的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，以構(gòu)筑基于制造的知識(shí),。光刻膠是微納加工中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,。吉林光電器件微納加工工廠21世紀(jì)，人們?nèi)詴?huì)不斷追求條件更好且可負(fù)擔(dān)的醫(yī)療保健服務(wù),、更高的生活品質(zhì)和質(zhì)量更好的日...

在微納加工過(guò)程中,，薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質(zhì)薄膜,、合金薄膜,、化合物等。熱蒸發(fā)是在高真空下,，利用電阻加熱至材料的熔化溫度,，使其蒸發(fā)至基底表面形成薄膜，而電子束蒸發(fā)為使用電子束加熱,；磁控濺射在高真空,，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣被電離為Ar離子高能量轟擊靶材,，使靶材發(fā)生濺射并沉積于基底,；磁控濺射方法沉積的薄膜純度高、致密性好,，熱蒸發(fā)主要用于沉積低熔點(diǎn)金屬薄膜或者厚膜,；化學(xué)氣相沉積（CVD）是典型的化學(xué)方法而等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）是物理與化學(xué)相結(jié)合的混合方法，CVD和PECVD主要用于...

在光刻圖案化工藝中,，首先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜,。接著在復(fù)雜的曝光裝置中，光線通過(guò)一個(gè)具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上,。曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化,，在隨后的化學(xué)顯影過(guò)程中被去除。較后掩模的圖案就被轉(zhuǎn)移到了光刻膠膜上,。而在隨后的蝕刻 或離子注入工藝中,，會(huì)對(duì)沒(méi)有光刻膠保護(hù)的硅片部分進(jìn)行刻蝕，較后洗去剩余光刻膠,。這時(shí)光刻膠的圖案就被轉(zhuǎn)移到下層的薄膜上,，這種薄膜圖案化的過(guò)程經(jīng)過(guò)多次迭代,，聯(lián)同其他多個(gè)物理過(guò)程，便產(chǎn)生集成電路,。微納加工涉及領(lǐng)域廣,、多學(xué)科交叉融合，其較主要的發(fā)展方向是微納器件與系統(tǒng)（MEMS）,。廣州真空鍍膜微納加工近年來(lái),，激光技術(shù)的飛速發(fā)展使的激光蝕刻技術(shù)孕育而生，類似于激光直寫技...

基于光刻工藝的微納加工技術(shù)主要包含以下過(guò)程：掩模（mask）制備,、圖形形成及轉(zhuǎn)移（涂膠,、曝光、顯影）,、薄膜沉積、刻蝕,、外延生長(zhǎng),、氧化和摻雜等。在基片表面涂覆一層某種光敏介質(zhì)的薄膜（抗蝕膠）,，曝光系統(tǒng)把掩模板的圖形投射在（抗蝕膠）薄膜上,，光（光子）的曝光過(guò)程是通過(guò)光化學(xué)作用使抗蝕膠發(fā)生光化學(xué)作用，形成微細(xì)圖形的潛像,，再通過(guò)顯影過(guò)程使剩余的抗蝕膠層轉(zhuǎn)變成具有微細(xì)圖形的窗口,，后續(xù)基于抗蝕膠圖案進(jìn)行鍍膜、刻蝕等可進(jìn)一步制作所需微納結(jié)構(gòu)或器件,。我造技術(shù)的研究從其誕生之初就一直牢據(jù)行國(guó)的微納制造技術(shù)的研究與世界先進(jìn)水平業(yè)的杰出位置,。北京光電器件微納加工平臺(tái)微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米、微米和納米量級(jí)元件以及...

在微納加工過(guò)程中,，薄膜的形成方法主要為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā),、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質(zhì)薄膜,、合金薄膜,、化合物等,。熱蒸發(fā)是在高真空下,，利用電阻加熱至材料的熔化溫度，使其蒸發(fā)至基底表面形成薄膜,，而電子束蒸發(fā)為使用電子束加熱,；磁控濺射在高真空，在電場(chǎng)的作用下,，Ar氣被電離為Ar離子高能量轟擊靶材,，使靶材發(fā)生濺射并沉積于基底,；磁控濺射方法沉積的薄膜純度高,、致密性好，熱蒸發(fā)主要用于沉積低熔點(diǎn)金屬薄膜或者厚膜,；化學(xué)氣相沉積（CVD）是典型的化學(xué)方法而等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）是物理與化學(xué)相結(jié)合的混合方法,，CVD和PECVD主要用于...

眾所周知，微納米技術(shù)是我國(guó)貫徹落實(shí)“中國(guó)制造2025”和“中國(guó)創(chuàng)新2030”的重要舉措與中心技術(shù)需求,，是促進(jìn)制造業(yè)高級(jí)化,、綠色化、智能化的重要基礎(chǔ),?；谖矬w微米、納米尺度獨(dú)特的物理和化學(xué)特性,，研制新材料,、新工藝、新器件的微納制造技術(shù),，已經(jīng)成為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中心技術(shù),，必將對(duì)21世紀(jì)的航空、航天,、信息科學(xué),、生命科學(xué)和健康保健、汽車工業(yè),、仿生機(jī)器人,、交通、家具生活等領(lǐng)域產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響,。推進(jìn)微納制造技術(shù)產(chǎn)業(yè)化落地,，探討產(chǎn)業(yè)化路徑，遴選優(yōu)良產(chǎn)業(yè)化示范項(xiàng)目,。微納加工中,，材料濕法腐蝕是一個(gè)常用的工藝方法。廣州鍍膜微納加工技術(shù)目前微納制造領(lǐng)域較常用的一種微細(xì)加工技術(shù)是LIGA,。這項(xiàng)技術(shù)由于可加工尺寸小,、精度高...

通過(guò)在聚合物表面構(gòu)造微納米尺度結(jié)構(gòu)及其陣列,，可以得到聚合物微納結(jié)構(gòu)制件，不同種類的微納結(jié)構(gòu)賦予聚合物制件許多特殊的功能,。如具有微槽流道的微流控生物芯片,；具有微納透鏡陣列的光學(xué)元件，如導(dǎo)光板,、偏光板等,；具有仿生微結(jié)構(gòu)的疏水薄膜以及具有高深寬比V槽結(jié)構(gòu)的微結(jié)構(gòu)換熱器等。上述微結(jié)構(gòu)制件在生物醫(yī)學(xué)分析,、藥物開(kāi)發(fā),、無(wú)痛給藥、微反應(yīng)過(guò)程,、LCD顯示器關(guān)鍵光學(xué)材料,、高效換熱等場(chǎng)合發(fā)揮了重要的作用。隨著聚合物成型方法的不斷成熟與發(fā)展,，聚合物微結(jié)構(gòu)器件的種類和應(yīng)用范圍也隨之豐富與擴(kuò)大,。新一代微納制造系統(tǒng)應(yīng)滿足的要求：能生產(chǎn)多種多樣高度復(fù)雜的微納產(chǎn)品。湖南光電器件微納加工服務(wù)價(jià)格硅材料在MEMS器件當(dāng)中是很重要的...

微納測(cè)試與表征技術(shù)是微納加工技術(shù)的基礎(chǔ)與前提,，它包括在微納器件的設(shè)計(jì),、制造和系統(tǒng)集成過(guò)程中，對(duì)各種參量進(jìn)行微米/納米檢測(cè)的技術(shù),。微米測(cè)量主要服務(wù)于精密制造和微加工技術(shù),，目標(biāo)是獲得微米級(jí)測(cè)量精度，或表征微結(jié)構(gòu)的幾何,、機(jī)械及力學(xué)特性,；納米測(cè)量則主要服務(wù)于材料工程和納米科學(xué)，特別是納米材料,，目標(biāo)是獲得材料的結(jié)構(gòu),、地貌和成分的信息。在半導(dǎo)體領(lǐng)域人們所關(guān)心的與尺寸測(cè)量有關(guān)的參數(shù)主要包括：特征尺寸或線寬,、重合度,、薄膜的厚度和表面的糙度等等。未來(lái),，微納測(cè)試與表征技術(shù)正朝著從二維到三維,、從表面到內(nèi)部、從靜態(tài)到動(dòng)態(tài),、從單參量到多參量耦合,、從封裝前到封裝后的方向發(fā)展。探索新的測(cè)量原理、測(cè)試方法和表征技術(shù),，發(fā)展微納...

微納制造包括微制造和納制造兩個(gè)方面,。(1)微制造有兩種不同的微制造工藝方式，一種是基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù),、LIGA技術(shù)、鍵合技術(shù),、封裝技術(shù)等,，這些工藝技術(shù)方法較為成熟，但普遍存在加工材料單一,、加工設(shè)備昂貴等問(wèn)題,，且只能加工結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的二維或準(zhǔn)三維微機(jī)械零件，無(wú)法進(jìn)行復(fù)雜的三維微機(jī)械零件的加工,；另一種是機(jī)械微加工,，是指采用機(jī)械加工、特種加工及其他成形技術(shù)等傳統(tǒng)加工技術(shù)形成的微加工技術(shù),，可進(jìn)行三維復(fù)雜曲面零件的加工,，加工材料不受限制，包括微細(xì)磨削,、微細(xì)車削,、微細(xì)銑削、微細(xì)鉆削,、微沖壓,、微成形等。(2)納制造納制造是指具有特定功能的納米尺度的結(jié)構(gòu),、器件和系統(tǒng)的制造技術(shù),，包括納米壓印技術(shù)、刻劃技術(shù)...

在微電子與光電子集成中,，薄膜的形成方法主要有兩大類,，及沉積和外延生長(zhǎng)。沉積技術(shù)分為物理沉積,、化學(xué)沉積和混合方法沉積,。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法,；化學(xué)氣相沉積是典型的化學(xué)方法,；等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是物理與化學(xué)方法相結(jié)合的混合方法。薄膜沉積過(guò)程,，通常生成的是非晶膜和多晶膜,，沉積部位和晶態(tài)結(jié)構(gòu)都是隨機(jī)的，而沒(méi)有固定的晶態(tài)結(jié)構(gòu)。外延生長(zhǎng)實(shí)質(zhì)上是材料科學(xué)的薄膜加工方法,，其含義是：在一個(gè)單晶的襯底上,，定向地生長(zhǎng)出與基底晶態(tài)結(jié)構(gòu)相同或相似的晶態(tài)薄層。其他薄膜成膜方法,，如電化學(xué)沉積,、脈沖激光沉積法、溶膠凝膠法,、自組裝法等,，也都普遍用于微納制作工藝中。微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：多樣化...

21世紀(jì),，人們?nèi)詴?huì)不斷追求條件更好且可負(fù)擔(dān)的醫(yī)療保健服務(wù),、更高的生活品質(zhì)和質(zhì)量更好的日用消費(fèi)品，并竭力應(yīng)對(duì)由能源成本上漲和資源枯竭所帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)等“巨大挑戰(zhàn)”,。它們也是采用創(chuàng)新體系的商品擴(kuò)大市場(chǎng)的推動(dòng)力,。微納制造技術(shù)過(guò)去和現(xiàn)在一直都被認(rèn)為在解決上述挑戰(zhàn)方面大有用武之地。環(huán)境——采用更少的能源與原材料,。從短期來(lái)看,，微納制造技術(shù)不會(huì)對(duì)環(huán)境和能源成本產(chǎn)生重大的影響。受到當(dāng)前加工技術(shù)的限制,，這些技術(shù)在早期的發(fā)展階段往往會(huì)有較高的能源成本,。與此同時(shí)，微納制造一旦成熟,，將會(huì)消耗更少的能源與資源,，就此而言，微納制造無(wú)疑是一項(xiàng)令人振奮的技術(shù),。例如,，與去除邊角料獲得較終產(chǎn)品不同的是，微納制造采用的積層法將會(huì)使得廢...

微納制造技術(shù)的發(fā)展,，同樣涉及到科研體系問(wèn)題,。嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)，科研分為三個(gè)領(lǐng)域,，一個(gè)是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域,，一個(gè)是工程化應(yīng)用領(lǐng)域，一個(gè)是市場(chǎng)推廣領(lǐng)域,。在發(fā)達(dá)國(guó)家的科研機(jī)制中,。幾乎所有的基礎(chǔ)研究領(lǐng)域都是由國(guó)家或機(jī)構(gòu)直接或間接支持的。這種基礎(chǔ)研究較看重的是對(duì)于國(guó)家,、民生或**的長(zhǎng)遠(yuǎn)意義．而不是短期內(nèi)的投入與產(chǎn)出,。因而致力于基礎(chǔ)研究的機(jī)構(gòu)或者人員,。根本不用考慮研究的所謂“市場(chǎng)化”問(wèn)題。而只是進(jìn)行基礎(chǔ),、理論的研究,。另一方面。工程化應(yīng)用領(lǐng)域由專門的機(jī)構(gòu)或職能部門負(fù)責(zé),，這些部門從應(yīng)用領(lǐng)域,、生產(chǎn)領(lǐng)域、制造領(lǐng)域抽調(diào)**,、學(xué)者及相關(guān)專業(yè)人員,，對(duì)基礎(chǔ)研究的市場(chǎng)應(yīng)用前景進(jìn)行分析，并提出可行性建議,，末尾由市場(chǎng)或企業(yè)來(lái)進(jìn)行工程化...

眾所周知，微納米技術(shù)是我國(guó)貫徹落實(shí)“中國(guó)制造2025”和“中國(guó)創(chuàng)新2030”的重要舉措與中心技術(shù)需求,，是促進(jìn)制造業(yè)高級(jí)化,、綠色化、智能化的重要基礎(chǔ),?；谖矬w微米、納米尺度獨(dú)特的物理和化學(xué)特性,，研制新材料,、新工藝、新器件的微納制造技術(shù),，已經(jīng)成為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中心技術(shù),，必將對(duì)21世紀(jì)的航空、航天,、信息科學(xué),、生命科學(xué)和健康保健、汽車工業(yè),、仿生機(jī)器人,、交通、家具生活等領(lǐng)域產(chǎn)生深遠(yuǎn)的影響,。推進(jìn)微納制造技術(shù)產(chǎn)業(yè)化落地,，探討產(chǎn)業(yè)化路徑，遴選優(yōu)良產(chǎn)業(yè)化示范項(xiàng)目,。微納加工平臺(tái)主要提供微納加工技術(shù)工藝,。北京功率器件微納加工價(jià)格微納加工當(dāng)中，GaN材料的刻蝕一般采用光刻膠來(lái)做掩膜,，但是刻蝕GaN和光刻膠,，選擇比接近...

在過(guò)去的幾年中,，全球各地的研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)已開(kāi)始集中研究微觀和納米尺度現(xiàn)象、器件和系統(tǒng),。雖然這一領(lǐng)域的研究產(chǎn)生了微納制造方面的先進(jìn)知識(shí),，但比較顯然，這些知識(shí)的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用將是增強(qiáng)這些技術(shù)未來(lái)增長(zhǎng)的關(guān)鍵,。雖然在這些領(lǐng)域的大規(guī)模生產(chǎn)方面已經(jīng)取得了進(jìn)步,，但微納制造技術(shù)的主要生產(chǎn)環(huán)境仍然是停留在實(shí)驗(yàn)室中，在企業(yè)的大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中難得一見(jiàn),。這就導(dǎo)致企業(yè)在是否采用這些技術(shù)方面猶豫不決,，擔(dān)心它們可能引入未知因素，影響制造鏈的性能與質(zhì)量,。就這一點(diǎn)而言,，投資于基礎(chǔ)設(shè)施的發(fā)展，如更高的模塊化,、靈活性和可擴(kuò)展性可能會(huì)有助于生產(chǎn)成本的減少,，對(duì)于新生產(chǎn)平臺(tái)成功推廣至關(guān)重要。這將有助于吸引產(chǎn)業(yè)界的積極參與,，與率先的研究實(shí)驗(yàn)室一...

微納加工技術(shù)的特點(diǎn)：（1）微電子化：采用MEMS工藝,，可以把不同功能、不同敏感方向或致動(dòng)方向的多個(gè)傳感器或執(zhí)行器集成于一體,，或形成微傳感陣列,、微執(zhí)行器陣列甚至把多種功能的器件集成在一起，形成復(fù)雜的微系統(tǒng),。微傳感器,、微執(zhí)行器和微電子器件的集成可制造出可靠性、穩(wěn)定性比較高的微電子機(jī)械系統(tǒng),。（2）MEMS技術(shù)適合批量生產(chǎn)：用硅微加工工藝在同一硅片上同時(shí)可制造出成百上千微型機(jī)電裝置或完整的MEMS,，批量生產(chǎn)可較大降低生產(chǎn)成本。（3）多學(xué)科交叉：MEMS涉及電子,、機(jī)械,、材料、制造,、信息與自動(dòng)控制,、物理、化學(xué)和生物等多學(xué)科,，并集約當(dāng)今科學(xué)發(fā)展的許多成果,。微納加工平臺(tái)，主要是兩個(gè)方面：微納加工,、微納檢測(cè),。江...

獲得或保持率先競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的優(yōu)勢(shì)將維持強(qiáng)勁的經(jīng)濟(jì),、提供動(dòng)力以滿足社會(huì)需求，而微納制造技術(shù)能力正在成為這其中的關(guān)鍵使能因素,。微納制造技術(shù)可以幫助企業(yè),、產(chǎn)業(yè)形成競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。得益于私營(yíng)部門和公共部門之間的合作,，它們的快速發(fā)展提升了許多不同應(yīng)用領(lǐng)域的歐洲公司的市場(chǎng)份額,，促進(jìn)了協(xié)作研究。需要強(qiáng)調(diào)的,，產(chǎn)業(yè)界和學(xué)術(shù)界的合作在增加公司的市場(chǎng)實(shí)力上發(fā)揮了重要作用,；這種合作使得那些阻礙創(chuàng)新、新技術(shù)與高水平的教育需求等進(jìn)展的問(wèn)題的解決變得更為容易,。我造技術(shù)的研究從其誕生之初就一直牢據(jù)行國(guó)的微納制造技術(shù)的研究與世界先進(jìn)水平業(yè)的杰出位置,。河南刻蝕微納加工外協(xié)當(dāng)前納米制造技術(shù)在環(huán)境友好方面有望大展身手的一些領(lǐng)域：1、照明：對(duì)于...

微納加工中,，材料濕法腐蝕是一個(gè)常用的工藝方法,。材料的濕法化學(xué)刻蝕，包括刻蝕劑到達(dá)材料表面和反應(yīng)產(chǎn)物離開(kāi)表面的傳輸過(guò)程,，也包括表面本身的反應(yīng)。半導(dǎo)體技術(shù)中的許多刻蝕工藝是在相當(dāng)緩慢并受速率控制的情況下進(jìn)行的,，這是因?yàn)楦采w在表面上有一污染層,。污染層厚度常有幾微米，如果化學(xué)反應(yīng)有氣體逸出,，則此層就可能破裂,。濕法刻蝕工藝常常有反應(yīng)物產(chǎn)生，這種產(chǎn)物受溶液的溶解速率的限制,。為了使刻蝕速率提高,，常常使溶液攪動(dòng)，因?yàn)閿噭?dòng)增強(qiáng)了外擴(kuò)散效應(yīng),。多晶和非晶材料的刻蝕是各向異性的,。然而，結(jié)晶材料的刻蝕可能是各向同性,，也可能是各向異性的,，它取決于反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的性質(zhì)。晶體材料的各向同性刻蝕常被稱作拋光刻蝕,，因?yàn)樗鼈儺a(chǎn)生平滑的...

“納米制造”路線圖強(qiáng)調(diào)了未來(lái)納米表面制造的發(fā)展,。問(wèn)卷調(diào)查探尋了納米表面制備所面臨的機(jī)遇。調(diào)查中提出的問(wèn)題旨在獲取納米表面特征的相關(guān)信息：這種納米表面結(jié)構(gòu)可以是形貌化,、薄膜化的改良表面區(qū)域,，也可以是具有相位調(diào)制或一定晶粒尺寸的涂層,。這類結(jié)構(gòu)構(gòu)建于眾多固體材料表面，如金屬,、陶瓷,、玻璃、半導(dǎo)體和聚合物等,?？偨Y(jié)了調(diào)查結(jié)果與發(fā)現(xiàn)，并闡明了未來(lái)納米表面制造的前景,。納米表面可產(chǎn)生自材料的消解,、沉積、改性或形成過(guò)程,。這導(dǎo)致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學(xué),、物理和生物特性（比如催化作用、磁性質(zhì),、電性質(zhì),、光學(xué)性質(zhì)或抗細(xì)菌性）。在納米科學(xué)許多已有的和新興的子領(lǐng)域中,，表面工程已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從基礎(chǔ)科學(xué)向現(xiàn)實(shí)應(yīng)用...

微納測(cè)試與表征技術(shù)是微納加工技術(shù)的基礎(chǔ)與前提,，它包括在微納器件的設(shè)計(jì)、制造和系統(tǒng)集成過(guò)程中,，對(duì)各種參量進(jìn)行微米/納米檢測(cè)的技術(shù),。微米測(cè)量主要服務(wù)于精密制造和微加工技術(shù)，目標(biāo)是獲得微米級(jí)測(cè)量精度,，或表征微結(jié)構(gòu)的幾何,、機(jī)械及力學(xué)特性；納米測(cè)量則主要服務(wù)于材料工程和納米科學(xué),，特別是納米材料,，目標(biāo)是獲得材料的結(jié)構(gòu)、地貌和成分的信息,。在半導(dǎo)體領(lǐng)域人們所關(guān)心的與尺寸測(cè)量有關(guān)的參數(shù)主要包括：特征尺寸或線寬,、重合度、薄膜的厚度和表面的糙度等等,。未來(lái),，微納測(cè)試與表征技術(shù)正朝著從二維到三維、從表面到內(nèi)部,、從靜態(tài)到動(dòng)態(tài),、從單參量到多參量耦合、從封裝前到封裝后的方向發(fā)展,。探索新的測(cè)量原理,、測(cè)試方法和表征技術(shù),，發(fā)展微納...