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企業(yè)商機(jī)-納糯三維科技(上海)有限公司
  • 上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印
    上海進(jìn)口無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM),。文章中介紹了高精度3D打印,,并重點(diǎn)講解...

    2024-12-27
  • 江蘇微納機(jī)器人增材制造PPGT
    江蘇微納機(jī)器人增材制造PPGT

    Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,,擁有多項(xiàng)**技術(shù),,為全球客戶提供整套硬件,軟件,,打印材料和解決方案一站式服務(wù),。Nanoscribe是德國(guó)高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項(xiàng)專項(xiàng)技術(shù)...

    2024-12-26
  • 北京微流道增材制造Photonic Professional GT
    北京微流道增材制造Photonic Professional GT

    全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的頭一個(gè)用于熔融石英玻璃微納結(jié)構(gòu)3D微納加工的商用高精度增材制造工藝和材料,。新型光刻膠GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心內(nèi)容,,也是世界上只...

    2024-12-25
  • 寶山區(qū)芯片上微納3D打印服務(wù)商
    寶山區(qū)芯片上微納3D打印服務(wù)商

    Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quant...

    2024-12-24
  • 江蘇進(jìn)口增材制造PPGT2
    江蘇進(jìn)口增材制造PPGT2

    借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng),、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微...

    2024-12-24
  • 山東高精度增材制造技術(shù)
    山東高精度增材制造技術(shù)

    Nanoscribe設(shè)備專注于納米,,微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計(jì)用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過(guò)程中,,激光固化部分液態(tài)光敏材料,逐層固化,。使用雙光子聚合,,分辨率可低至200納...

    2024-12-23
  • 廣東2PP增材制造Photonic Professional GT
    廣東2PP增材制造Photonic Professional GT

    借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng),、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微...

    2024-12-22
  • 浙江工業(yè)級(jí)灰度光刻技術(shù)
    浙江工業(yè)級(jí)灰度光刻技術(shù)

    國(guó)際上,,激光直寫(xiě)設(shè)備是光掩模制備的主要工具,尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形,,面積可達(dá)110英寸(瑞典MICRONIC)單價(jià)高于1.5億元/套,,制備一個(gè)線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價(jià)500萬(wàn)RMB,;然而,,這種激光直寫(xiě)設(shè)備并不適用于微納3D...

    2024-12-21
  • 北京工業(yè)級(jí)灰度光刻3D微納加工
    北京工業(yè)級(jí)灰度光刻3D微納加工

    Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō),,在納米...

    2024-12-21
  • 楊浦區(qū)雙光子聚合微納3D打印技術(shù)
    楊浦區(qū)雙光子聚合微納3D打印技術(shù)

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),,用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

    2024-12-20
  • 上海2PP灰度光刻3D打印
    上海2PP灰度光刻3D打印

    Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,,擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持,。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者,,推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料,,微納機(jī)器人,再生醫(yī)...

    2024-12-19
  • 天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)
    天津德國(guó)灰度光刻系統(tǒng)

    微透鏡陣列對(duì)表面質(zhì)量和形貌要求比較高,,因此對(duì)制備工藝提出了很嚴(yán)格的要求,。科研人員提出了許多方法來(lái)實(shí)現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備,,比如針對(duì)柔性材料的熱壓印成型方法實(shí)現(xiàn)了大面積微透鏡陣列,;利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯...

    2024-12-18
  • 吉林工業(yè)級(jí)灰度光刻3D光刻
    吉林工業(yè)級(jí)灰度光刻3D光刻

    Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造,。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,,以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。而且GT2使...

    2024-12-18
  • 崇明區(qū)生物微納3D打印工藝
    崇明區(qū)生物微納3D打印工藝

    Nanoscribe公司成立于2007年,,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國(guó)卡爾蔡司公司的支持,,經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,,一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,,微光學(xué)等創(chuàng)新...

    2024-12-18
  • 普陀區(qū)雙光子聚合微納3D打印三微光刻
    普陀區(qū)雙光子聚合微納3D打印三微光刻

    由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提...

    2024-12-18
  • 吉林雙光子灰度光刻3D光刻
    吉林雙光子灰度光刻3D光刻

    傳感器對(duì)可控技術(shù)的重要性,,在眾多領(lǐng)域都是顯而易見(jiàn)的,,無(wú)論是從簡(jiǎn)單的家用電器,還是到可穿戴設(shè)備,,甚至到航空應(yīng)用,,只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,,不易故障,,并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn)。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力,。...

    2024-12-17
  • 黑龍江2PP灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)
    黑龍江2PP灰度光刻無(wú)掩膜激光直寫(xiě)

    Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體,。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),,Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,,并推動(dòng)生物打印、微流體,、微納光學(xué),、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展,?!拔覀兎?..

    2024-12-17
  • 高精度微納3D打印哪家好
    高精度微納3D打印哪家好

    QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...

    2024-12-17
  • 長(zhǎng)寧區(qū)高精度微納3D打印價(jià)格
    長(zhǎng)寧區(qū)高精度微納3D打印價(jià)格

    來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì),。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)...

    2024-12-17
  • 2PP灰度光刻3D光刻
    2PP灰度光刻3D光刻

    QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?),。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,,使其同時(shí)具備高速打印,,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)...

    2024-12-16
  • 德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩光刻
    德國(guó)工業(yè)級(jí)灰度光刻無(wú)掩光刻

    國(guó)際上,,激光直寫(xiě)設(shè)備是光掩模制備的主要工具,,尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形,面積可達(dá)110英寸(瑞典MICRONIC)單價(jià)高于1.5億元/套,,制備一個(gè)線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價(jià)500萬(wàn)RMB,;然而,這種激光直寫(xiě)設(shè)備并不適用于微納3D...

    2024-12-16
  • 湖南2PP無(wú)掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
    湖南2PP無(wú)掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

    基于低成本和小型化特點(diǎn)的集成光子芯片技術(shù),,該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描(OCT)從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來(lái),。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)(OCT),來(lái)實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)眼科護(hù)...

    2024-12-16
  • 崇明區(qū)國(guó)產(chǎn)微納3D打印保養(yǎng)
    崇明區(qū)國(guó)產(chǎn)微納3D打印保養(yǎng)

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM),。文章中介紹了高精度3D打印,,并重點(diǎn)講解...

    2024-12-16
  • 虹口區(qū)芯片上微納3D打印供應(yīng)商
    虹口區(qū)芯片上微納3D打印供應(yīng)商

    德國(guó)公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開(kāi)發(fā)商,也是BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,,推出了一款新型高精度3D打印機(jī),用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,其晶圓處...

    2024-12-15
  • 金山區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)
    金山區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

    多年來(lái),,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,,并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目,。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器,。該團(tuán)隊(duì)...

    2024-12-15
  • 天津Nanoscribe增材制造微納光刻
    天津Nanoscribe增材制造微納光刻

    Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,,該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX,。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,其尺寸可小至200微米,。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)...

    2024-12-15
  • 常州工業(yè)微納3D打印設(shè)備
    常州工業(yè)微納3D打印設(shè)備

    借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),,您可以實(shí)現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像,適用于細(xì)胞研究和芯片實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用(lab-on-a-chip),。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細(xì)胞支架來(lái)研究細(xì)胞生長(zhǎng),、遷移和干細(xì)胞分化。此外,,3D微...

    2024-12-15
  • 德國(guó)無(wú)掩膜光刻三維光刻
    德國(guó)無(wú)掩膜光刻三維光刻

    3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過(guò)成分和幾何設(shè)計(jì)來(lái)調(diào)整和定制,。通過(guò)使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,,機(jī)械,,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)...

    2024-12-14
  • 楊浦區(qū)國(guó)產(chǎn)微納3D打印價(jià)格
    楊浦區(qū)國(guó)產(chǎn)微納3D打印價(jià)格

    Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,,可生產(chǎn)折射和衍射...

    2024-12-14
  • 天津工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻PPGT
    天津工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻PPGT

    為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性,科研人員又在新材料研發(fā)的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力,。一方面,,利用SCRIBE新技術(shù)的情況下,高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度,。另一方面,,低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系...

    2024-12-14
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