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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，Quantu...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，...

Nanoscribe，基于雙光子聚合（2PP）原理的3D微納加工的先驅(qū)品牌,，致力于為各行業(yè)提供高效,、精密的增材制造解決方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系統(tǒng)是Nanoscribe的旗艦產(chǎn)品系列,，其獨(dú)特的2PP技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)微米...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Q...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quant...

Nanoscribe是非常獨(dú)特的納米和微米級(jí)3D打印技術(shù)。該公司成立于2007年,，目前已經(jīng)在激光光刻行業(yè)處于領(lǐng)頭的地位,。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT光刻系統(tǒng)主要通過(guò)在微尺度上運(yùn)用激光來(lái)固化感光材料。3D打印材料主要包括...

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無(wú)掩模光刻產(chǎn)品,，名為3D無(wú)掩模光刻,。無(wú)論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求,。它不僅高效,，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,，極大地節(jié)省了加工時(shí)間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D...

3D打印高性能增材制造技術(shù)擺脫了模具制造這一明顯延長(zhǎng)研發(fā)時(shí)間的關(guān)鍵技術(shù)環(huán)節(jié)，兼顧高精度、高性能,、高柔性,，可以快速制造結(jié)構(gòu)十分復(fù)雜的零件，為先進(jìn)科研事業(yè)速研發(fā)提供了有力的技術(shù)手段,。在微光學(xué)領(lǐng)域,，Nanoscribe表示，其3D打印解決方案“破壞和打破以前復(fù)雜的工...

Nanoscribe作為一家納米,，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案,。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方...

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫,，而是在孔型支架內(nèi),。通過(guò)調(diào)整直...

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。在全球前列大學(xué)和...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)...

Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō),，在納米...

Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),，結(jié)合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹脂和生物材料，開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),，適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,，如設(shè)計(jì)和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作,。Nanoscribe的Photonic...

Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開(kāi)，在微流控研究中,，通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法,。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來(lái)梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三...

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL?),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,，受...

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型,。基于雙光子聚合技術(shù),，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn),。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,，比肩于N...

德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng),。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng),，可應(yīng)用于...

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開(kāi)發(fā)并提供用于納米,、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”,，公司創(chuàng)始人開(kāi)發(fā)出一種技術(shù),，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品,。通過(guò)基于...

Nanoscribe公司推出針對(duì)微光學(xué)元件（如微透鏡,、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠,。全新光敏樹脂材料具有高折射率,，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,，尤其是在沒(méi)有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性...

QuantumX新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)...

這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過(guò)先進(jìn)的光刻技術(shù),，它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作,，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平,。同時(shí)，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升,，減少了生產(chǎn)過(guò)程中的誤差和損耗,，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力,。它采用了快速曝...

基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何,，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度,。Nanosc...

納米紋理在納米技術(shù)中起著越來(lái)越重要的作用。近期的研究表明,，可以通過(guò)空間調(diào)節(jié)其納米級(jí)像素的高度來(lái)進(jìn)一步增強(qiáng)其功能,。但是，實(shí)現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,，因?yàn)樗枰獙?duì)納米像素進(jìn)行“灰度”打印,，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi),。只有少數(shù)幾種方法（例如,，灰度光刻...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quant...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù),，用于快速，精度非常高的微納加工,，可以輕松3D微納光學(xué)制作,。可以搭配不同的基板,，包括玻璃,，硅晶片，光子和微流控芯片等,，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印,。...

Nanoscribe超高速3D打印技術(shù)的優(yōu)勢(shì)不僅在于其快速和精確，還在于其靈活性和可定制性,。用戶可以根據(jù)自己的需求設(shè)計(jì)和打印各種形狀和結(jié)構(gòu)的物體,，實(shí)現(xiàn)個(gè)性化定制。這為創(chuàng)新和研發(fā)提供了更多可能性,，推動(dòng)了科技的進(jìn)步,。除了應(yīng)用領(lǐng)域的靈活性，Nanoscribe超高速...

這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開(kāi)了新的大門,。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組（B-PHOT）的科學(xué)家們正在通過(guò)使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)（2PP）將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來(lái)攻克將具有不同模場(chǎng)幾何形狀的兩個(gè)...

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無(wú)掩模光刻產(chǎn)品,，名為3D無(wú)掩模光刻,。無(wú)論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求,。它不僅高效,，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,，極大地節(jié)省了加工時(shí)間,。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D...