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汕頭膜厚儀制作廠家

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-11-30

    基于白光干涉光譜單峰值波長移動(dòng)的鍺膜厚度測量方案研究:在對(duì)比研究目前常用的白光干涉測量方案的基礎(chǔ)上,,我們發(fā)現(xiàn)當(dāng)兩干涉光束的光程差非常小導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰時(shí),,常用的基于兩相鄰干涉峰間距的解調(diào)方案不再適用,。為此,,我們提出了適用于極小光程差的基于干涉光譜單峰值波長移動(dòng)的測量方案。干涉光譜的峰值波長會(huì)隨著光程差的增大出現(xiàn)周期性的紅移和藍(lán)移,,當(dāng)光程差在較小范圍內(nèi)變化時(shí),,峰值波長的移動(dòng)與光程差成正比。根據(jù)這一原理,搭建了光纖白光干涉溫度傳感系統(tǒng)對(duì)這一測量解調(diào)方案進(jìn)行驗(yàn)證,,得到了光纖端面半導(dǎo)體鍺薄膜的厚度,。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示鍺膜的厚度為,與臺(tái)階儀測量結(jié)果存在,,這是因?yàn)楸∧け砻姹旧聿⒉还饣?,臺(tái)階儀的測量結(jié)果只能作為參考值。鍺膜厚度測量誤差主要來自光源的波長漂移和溫度控制誤差,。白光干涉膜厚測量技術(shù)的研究主要集中在實(shí)驗(yàn)方法的優(yōu)化和算法的改進(jìn)上,。汕頭膜厚儀制作廠家

本章主要介紹了基于白光反射光譜和白光垂直掃描干涉聯(lián)用的靶丸殼層折射率測量方法。該方法利用白光反射光譜測量靶丸殼層光學(xué)厚度,,利用白光垂直掃描干涉技術(shù)測量光線通過靶丸殼層后的光程增量,,二者聯(lián)立即可求得靶丸折射率和厚度數(shù)據(jù)。在實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理方面,,為解決白光干涉光譜中波峰位置難以精確確定和單極值點(diǎn)判讀可能存在干涉級(jí)次誤差的問題,,提出MATLAB曲線擬合測定極值點(diǎn)波長以及利用干涉級(jí)次連續(xù)性進(jìn)行干涉級(jí)次判定的數(shù)據(jù)處理方法。應(yīng)用碳?xì)?CH)薄膜對(duì)測量結(jié)果的可靠性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,。潛江膜厚儀零售價(jià)格白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)涂層中的薄膜反射率測量,。

光具有傳播的特性,不同波列在相遇的區(qū)域,,振動(dòng)將相互疊加,,是各列光波獨(dú)自在該點(diǎn)所引起的振動(dòng)矢量和。兩束光要發(fā)生干涉,,應(yīng)必須滿足三個(gè)相干條件,,即:頻率一致、振動(dòng)方向一致,、相位差穩(wěn)定一致,。發(fā)生干涉的兩束光在一些地方振動(dòng)加強(qiáng),而在另一些地方振動(dòng)減弱,,產(chǎn)生規(guī)則的明暗交替變化,。任何干涉測量都是完全建立在這種光波典型特性上的。下圖分別表示干涉相長和干涉相消的合振幅,。與激光光源相比,,白光光源的相干長度在幾微米到幾十微米內(nèi),通常都很短,,更為重要的是,,白光光源產(chǎn)生的干涉條紋具有一個(gè)典型的特征:即條紋有一個(gè)固定不變的位置,該固定位置對(duì)應(yīng)于光程差為零的平衡位置,,并在該位置白光輸出光強(qiáng)度具有最大值,,并通過探測該光強(qiáng)最大值,,可實(shí)現(xiàn)樣品表面位移的精密測量。此外,,白光光源具有系統(tǒng)抗干擾能力強(qiáng),、穩(wěn)定性好且動(dòng)態(tài)范圍大、結(jié)構(gòu)簡單,,成本低廉等優(yōu)點(diǎn),。因此,白光垂直掃描干涉,、白光反射光譜等基于白光干涉的光學(xué)測量技術(shù)在薄膜三維形貌測量,、薄膜厚度精密測量等領(lǐng)域得以廣泛應(yīng)用。

白光干涉測量技術(shù),,也被稱為光學(xué)低相干干涉測量技術(shù),,使用的是低相干的寬譜光源,例如超輻射發(fā)光二極管,、發(fā)光二極管等,。同所有的光學(xué)干涉原理一樣,白光干涉同樣是通過觀察干涉圖樣的變化來分析干涉光程差的變化,,進(jìn)而通過各種解調(diào)方案實(shí)現(xiàn)對(duì)待測物理量的測量,。采用寬譜光源的優(yōu)點(diǎn)是由于白光光源的相干長度很小(一般為幾微米到幾十微米之間),,所有波長的零級(jí)干涉條紋重合于主極大值,,即中心條紋,與零光程差的位置對(duì)應(yīng),。中心零級(jí)干涉條紋的存在使測量有了一個(gè)可靠的位置的參考值,,從而只用一個(gè)干涉儀即可實(shí)現(xiàn)對(duì)被測物理量的測量,克服了傳統(tǒng)干涉儀無法實(shí)現(xiàn)測量的缺點(diǎn),。同時(shí),,相比于其他測量技術(shù),白光干涉測量方法還具有對(duì)環(huán)境不敏感、抗干擾能力強(qiáng),、測量的動(dòng)態(tài)范圍大,、結(jié)構(gòu)簡單和成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。目前,,經(jīng)過幾十年的研究與發(fā)展,,白光干涉技術(shù)在膜厚、壓力,、溫度,、應(yīng)變、位移等等測量領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對(duì)干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的形貌變化的測量和分析,。

白光掃描干涉法能免除色光相移干涉術(shù)測量的局限性。白光掃描干涉法采用白光作為光源,,白光作為一種寬光譜的光源,,相干長度較短,因此發(fā)生干涉的位置只能在很小的空間范圍內(nèi),。而且在白光干涉時(shí),,有一個(gè)確切的零點(diǎn)位置。測量光和參考光的光程相等時(shí),,所有波段的光都會(huì)發(fā)生相長干涉,,這時(shí)就能觀測到有一個(gè)很明亮的零級(jí)條紋,同時(shí)干涉信號(hào)也出現(xiàn)最大值,,通過分析這個(gè)干涉信號(hào),,就能得到表面上對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù)點(diǎn)的相對(duì)高度,從而得到被測物體的幾何形貌,。白光掃描干涉術(shù)是通過測量干涉條紋來完成的,,而干涉條紋的清晰度直接影響測試精度。因此,,為了提高精度,,就需要更為復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng),這使得條紋的測量變成一項(xiàng)費(fèi)力又費(fèi)時(shí)的工作,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對(duì)干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的形貌測量,。天門膜厚儀制造廠家

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于太陽能電池中的薄膜光學(xué)參數(shù)測量。汕頭膜厚儀制作廠家

靶丸殼層折射率,、厚度及其分布參數(shù)是激光慣性約束聚變(ICF)物理實(shí)驗(yàn)中非常關(guān)鍵的參數(shù),,精密測量靶丸殼層折射率、厚度及其分布對(duì)ICF精密物理實(shí)驗(yàn)研究具有非常重要的意義,。由于靶丸尺寸微?。▉喓撩琢考?jí))、結(jié)構(gòu)特殊(球形結(jié)構(gòu)),、測量精度要求高,,如何實(shí)現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中重要的研究內(nèi)容。本論文針對(duì)靶丸殼層折射率及厚度分布的精密測量需求,,開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。汕頭膜厚儀制作廠家