薄膜作為一種特殊的微結(jié)構(gòu),，近年來在電子學(xué)、摩擦學(xué),、現(xiàn)代光學(xué)得到了廣泛的應(yīng)用,，薄膜的測試技術(shù)變得越來越重要。尤其是在厚度這一特定方向上,，尺寸很小,，基本上都是微觀可測量。因此,，在微納測量領(lǐng)域中,，薄膜厚度的測試是一個非常重要而且很實(shí)用的研究方向。在工業(yè)生產(chǎn)中,，薄膜的厚度直接關(guān)系到薄膜能否正常工作,。在半導(dǎo)體工業(yè)中，膜厚的測量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質(zhì)量控制的重要手段,。薄膜的厚度影響薄膜的電磁性能,、力學(xué)性能和光學(xué)性能等，所以準(zhǔn)確地測量薄膜的厚度成為一種關(guān)鍵技術(shù),。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜表面形貌的測量,。山東國產(chǎn)膜厚儀

光譜擬合法易于測量具有應(yīng)用領(lǐng)域，由于使用了迭代算法,，因此該方法的優(yōu)缺點(diǎn)在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量,。其缺點(diǎn)是不夠?qū)嵱?，該方法需要一個較好的薄膜的光學(xué)模型(包括色散系數(shù)、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng)),，但是在實(shí)際測試過程中，薄膜的色散和吸收的公式通常不準(zhǔn)確,，尤其是對于多層膜體系,，建立光學(xué)模型非常困難，無法用公式準(zhǔn)確地表示出來,。在實(shí)際應(yīng)用中只能使用簡化模型,，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效。另外該方法的計(jì)算速度慢也不能滿足快速計(jì)算的要求,。濮陽膜厚儀制作廠家白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于材料科學(xué)中的薄膜微結(jié)構(gòu)分析,。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理示意圖，入射的白光光束通過半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分,，一個部分入射到固定的參考鏡，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后,，再次匯聚發(fā)生干涉，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內(nèi)雙白光光束的干涉圖像,。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描，可獲得一系列的干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對應(yīng)點(diǎn)的光強(qiáng)隨光程差變化曲線,，可得該點(diǎn)的Z向相對位移；然后,，由CCD圖像中每個像素點(diǎn)光強(qiáng)最大值對應(yīng)的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌,。

光學(xué)測厚方法集光學(xué)、機(jī)械,、電子,、計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)為一體，以其光波長為測量基準(zhǔn),，從原理上保證了納米級的測量精度,。同時，光學(xué)測厚作為非接觸式的測量方法,，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量,。其中，薄膜厚度光學(xué)測量方法按光吸收,、透反射、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法,、橢圓偏振法,、干涉法等多種測量方法。不同的測量方法,，其適用范圍各有側(cè)重,，褒貶不一。因此結(jié)合多種測量方法的多通道式復(fù)合測量法也有研究,，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)是一種測量薄膜厚度的方法。

在納米量級薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一，它對于薄膜的光學(xué),、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng)，使得對其厚度的準(zhǔn)確測量變得困難,。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測量理論和測量技術(shù)不斷涌現(xiàn)，測量方法實(shí)現(xiàn)了從手動到自動,，有損到無損測量,。由于待測薄膜材料的性質(zhì)不同，其適用的厚度測量方案也不盡相同,。對于厚度在納米量級的薄膜,，利用光學(xué)原理的測量技術(shù)應(yīng)用。相比于其他方法,，光學(xué)測量方法因?yàn)榫哂芯雀?，速度快，無損測量等優(yōu)勢而成為主要的檢測手段,。其中具有代表性的測量方法有橢圓偏振法,，干涉法，光譜法,，棱鏡耦合法等,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對復(fù)雜薄膜結(jié)構(gòu)的測量。山東國產(chǎn)膜厚儀

白光干涉膜厚測量技術(shù)可以通過對干涉圖像的分析實(shí)現(xiàn)對不同材料的薄膜的聯(lián)合測量和分析,。山東國產(chǎn)膜厚儀

極值法求解過程計(jì)算簡單,，速度快，同時確定薄膜的多個光學(xué)常數(shù)及解決多值性問題,，測試范圍廣,，但沒有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素，以至于精度不夠高,。此外,，由于受曲線擬合精度的限制，該方法對膜厚的測量范圍有要求,，通常用這種方法測量的薄膜厚度應(yīng)大于200nm且小于10μm,，以確保光譜信號中的干涉波峰數(shù)恰當(dāng)。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識來設(shè)置每個擬合參數(shù)上限,、下限,，并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數(shù)及厚度的初始值,，引入適合的色散模型，再根據(jù)麥克斯韋方程組的推導(dǎo),。這樣求得的值自然和實(shí)際的透過率和反射率（通過光學(xué)系統(tǒng)直接測量的薄膜透射率或反射率）有所不同,，建立評價函數(shù)，當(dāng)計(jì)算的透過率/反射率與實(shí)際值之間的偏差小時,，我們就可以認(rèn)為預(yù)設(shè)的初始值就是要測量的薄膜參數(shù),。山東國產(chǎn)膜厚儀