白光光譜法克服了干涉級次的模糊識別問題，具有動態(tài)測量范圍大,，連續(xù)測量時波動范圍小的特點，但在實際測量中,，由于測量誤差,、儀器誤差、擬合誤差等因素,，干涉級次的測量精度仍其受影響,，會出現干擾級次的誤判和干擾級次的跳變現象。導致公式計算得到的干擾級次m值與實際譜峰干涉級次m'(整數)之間有誤差,。為得到準確的干涉級次,，本文依據干涉級次的連續(xù)特性設計了以下校正流程圖，獲得了靶丸殼層光學厚度的精確值,。導入白光干涉光譜測量曲線,。白光干涉膜厚測量技術可以實現對薄膜的三維成像和分析。荊門膜厚儀產品原理

干涉法作為面掃描方式可以一次性對薄膜局域內的厚度進行解算,，適用于對面型整體形貌特征要求較高的測量對象,。干涉法算法在于相位信息的提取，借助多種復合算法通?？梢赃_到納米級的測量準確度,。然而主動干涉法對條紋穩(wěn)定性不佳，光學元件表面的不清潔,、光照度不均勻,、光源不穩(wěn)定、外界氣流震動干擾等因素均可能影響干涉圖的完整性[39],，使干涉圖樣中包含噪聲和部分區(qū)域的陰影,，給后期處理帶來困難。除此之外,，干涉法系統(tǒng)精度的來源——精密移動及定位部件也增加了系統(tǒng)的成本,，高精度的干涉儀往往較為昂貴。怎樣選擇膜厚儀使用方法白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉圖像的分析實現對薄膜的形貌變化的測量和分析,。

光學測厚方法集光學,、機械,、電子、計算機圖像處理技術為一體,，以其光波長為測量基準,，從原理上保證了納米級的測量精度。同時,，光學測厚作為非接觸式的測量方法,，被廣泛應用于精密元件表面形貌及厚度的無損測量。其中,，薄膜厚度光學測量方法按光吸收,、透反射、偏振和干涉等光學原理可分為分光光度法,、橢圓偏振法,、干涉法等多種測量方法。不同的測量方法,，其適用范圍各有側重,，褒貶不一。因此結合多種測量方法的多通道式復合測量法也有研究,，如橢圓偏振法和光度法結合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結合法等。

光纖白光干涉測量使用的是寬譜光源,。光源的輸出光功率和中心波長的穩(wěn)定性是光源選取時需要重點考慮的參數,。論文所設計的解調系統(tǒng)是通過檢測干涉峰值的中心波長的移動實現的，所以光源中心波長的穩(wěn)定性將對實驗結果產生很大的影響,。實驗中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產的SLED光源,，相對于一般的寬帶光源具有輸出功率高、覆蓋光譜范圍寬等特點,。該光源采用+5V的直流供電,，標定中心波長為1550nm，且其輸出功率在一定范圍內是可調的,，驅動電流可以達到600mA,。該技術可以通過測量干涉曲線來計算薄膜的厚度。

白光掃描干涉法能免除色光相移干涉術測量的局限性,。白光掃描干涉法采用白光作為光源,，白光作為一種寬光譜的光源，相干長度較短,，因此發(fā)生干涉的位置只能在很小的空間范圍內,。而且在白光干涉時，有一個確切的零點位置,。測量光和參考光的光程相等時,，所有波段的光都會發(fā)生相長干涉,，這時就能觀測到有一個很明亮的零級條紋，同時干涉信號也出現最大值,，通過分析這個干涉信號,，就能得到表面上對應數據點的相對高度，從而得到被測物體的幾何形貌,。白光掃描干涉術是通過測量干涉條紋來完成的,，而干涉條紋的清晰度直接影響測試精度。因此,，為了提高精度,，就需要更為復雜的光學系統(tǒng)，這使得條紋的測量變成一項費力又費時的工作,。白光干涉膜厚測量技術可以對薄膜的厚度和形貌進行聯合測量和分析。三明膜厚儀行情

白光干涉膜厚測量技術可以通過對干涉曲線的分析實現對薄膜的光學參數和厚度分布的聯合測量和分析,。荊門膜厚儀產品原理

    薄膜作為重要元件,，通常使用金屬、合金,、化合物,、聚合物等作為其主要基材，品類涵蓋光學膜,、電隔膜,、阻隔膜、保護膜,、裝飾膜等多種功能性薄膜,，廣泛應用于現代光學、電子,、醫(yī)療,、能源、建材等技術領域,。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等,。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應調制的光學薄膜，包括各種增透增反膜,、偏振膜,、干涉濾光片和分光膜等。部分薄膜經特殊工藝處理后還具有耐高溫,、耐腐蝕,、耐磨損等特性，對通訊,、顯示,、存儲等領域內光學儀器的質量起決定性作用[1-3],，如平面顯示器使用的ITO鍍膜，太陽能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級以上的薄膜以工農業(yè)薄膜為主,，多使用聚酯材料，具有易改性,、可回收,、適用范圍廣等特點。例如6微米厚度以下的電容器膜,，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜,，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜，以及厚度為25~65微米的防偽標牌及拉線膠帶等,。微米級薄膜利用其良好的延展,、密封、絕緣特性,，遍及食品包裝,、表面保護、磁帶基材,、感光儲能等應用市場,，加工速度快，市場占比高,。荊門膜厚儀產品原理