白光干涉在零光程差處,，出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋,，隨著光程差的增加，光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線各自形成的干涉條紋之間互有偏移,，疊加的整體效果使條紋對(duì)比度下降,。測(cè)量精度高,，可以實(shí)現(xiàn)測(cè)量,采用白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)的抗干擾能力強(qiáng)，動(dòng)態(tài)范圍大,，具有快速檢測(cè)和結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn),。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別，但也有很多的共同之處,?？梢哉f,，白光干涉實(shí)際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加,，在頻域上觀察到的就是不同波長對(duì)應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以通過對(duì)干涉曲線的分析實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的厚度測(cè)量,。懷化膜厚儀產(chǎn)品使用誤區(qū)

    自上世紀(jì)60年代起,，利用X及β射線、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測(cè)厚系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于西方先進(jìn)國家的工業(yè)生產(chǎn)線中。20世紀(jì)70年代后,，為滿足日益增長的質(zhì)檢需求,，電渦流、電磁電容,、超聲波,、晶體振蕩等多種膜厚測(cè)量技術(shù)相繼問世。90年代中期,，隨著離子輔助,、離子束濺射、磁控濺射,、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術(shù)取得巨大突破,，以橢圓偏振法和光度法為展示的光學(xué)檢測(cè)技術(shù)以高精度、低成本,、輕便環(huán)保,、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新，迅速占領(lǐng)日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場(chǎng),，并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個(gè)性化定制產(chǎn)品的能力,。其中，對(duì)于市場(chǎng)份額占比較大的微米級(jí)薄膜,，除要求測(cè)量系統(tǒng)不僅具有百納米級(jí)的測(cè)量準(zhǔn)確度及分辨力以外,，還要求測(cè)量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)下，具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力,。 延慶區(qū)膜厚儀市場(chǎng)價(jià)格白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以對(duì)薄膜的厚度,、反射率、折射率等光學(xué)參數(shù)進(jìn)行測(cè)量,。

開展白光干涉理論分析,，在此基礎(chǔ)詳細(xì)介紹了白光垂直掃描干涉技術(shù)和白光反射光譜技術(shù)的基本原理，完成了應(yīng)用于靶丸殼層折射率和厚度分布測(cè)量實(shí)驗(yàn)裝置的設(shè)計(jì)及搭建,。該實(shí)驗(yàn)裝置主要由白光反射光譜探測(cè)模塊,、靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊、三維運(yùn)動(dòng)模塊,、氣浮隔震平臺(tái)等幾部分組成,，可實(shí)現(xiàn)靶丸的負(fù)壓吸附、靶丸位置的精密調(diào)整以及靶丸360°范圍的旋轉(zhuǎn)及特定角度下靶丸殼層白光反射光譜的測(cè)量,?；诎坠獯怪睊呙韪缮婧桶坠夥瓷涔庾V的基本原理,建立了二者聯(lián)用的靶丸殼層折射率測(cè)量方法，該方法利用白光反射光譜測(cè)量靶丸殼層光學(xué)厚度,，利用白光垂直掃描干涉技術(shù)測(cè)量光線通過靶丸殼層后的光程增量,，二者聯(lián)立即可求得靶丸折射率和厚度數(shù)據(jù)。

傅里葉變換是白光頻域解調(diào)方法中一種低精度的信號(hào)解調(diào)方法。早是由G.F.Fernando和T.Liu等人提出,，用于低精度光纖法布里-珀羅傳感器的解調(diào),。因此，該解調(diào)方案的原理是通過傅里葉變換得到頻域的峰值頻率從而獲得光程差,，進(jìn)而得到待測(cè)物理量的信息,。傅里葉變換解調(diào)方案的優(yōu)點(diǎn)是解調(diào)速度較快，受干擾信號(hào)的影響較小,。但是其測(cè)量精度較低,。根據(jù)數(shù)字信號(hào)處理FFT（快速傅里葉變換）理論，若輸入光源波長范圍為[]λ1,λ2,，則所測(cè)光程差的理論小分辨率為λ1λ2/(λ2?λ1),，所以此方法主要應(yīng)用于對(duì)解調(diào)精度要求不高的場(chǎng)合。傅里葉變換白光干涉法是對(duì)傅里葉變換法的改進(jìn),。該方法總結(jié)起來就是對(duì)采集到的光譜信號(hào)做傅里葉變換,，然后濾波、提取主頻信號(hào)后進(jìn)行逆傅里葉變換,，然后做對(duì)數(shù)運(yùn)算,，并取其虛部做相位反包裹運(yùn)算，由獲得的相位得到干涉儀的光程差,。該方法經(jīng)過實(shí)驗(yàn)證明其測(cè)量精度比傅里葉變換高,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)的應(yīng)用涵蓋了材料科學(xué)、光學(xué)制造,、電子工業(yè)等多個(gè)領(lǐng)域,。

光具有傳播的特性，不同波列在相遇的區(qū)域,，振動(dòng)將相互疊加,，是各列光波獨(dú)自在該點(diǎn)所引起的振動(dòng)矢量和。兩束光要發(fā)生干涉,，應(yīng)必須滿足三個(gè)相干條件,，即：頻率一致、振動(dòng)方向一致,、相位差穩(wěn)定一致,。發(fā)生干涉的兩束光在一些地方振動(dòng)加強(qiáng)，而在另一些地方振動(dòng)減弱,，產(chǎn)生規(guī)則的明暗交替變化,。任何干涉測(cè)量都是完全建立在這種光波典型特性上的。下圖分別表示干涉相長和干涉相消的合振幅,。與激光光源相比,，白光光源的相干長度在幾微米到幾十微米內(nèi)，通常都很短,，更為重要的是,，白光光源產(chǎn)生的干涉條紋具有一個(gè)典型的特征：即條紋有一個(gè)固定不變的位置，該固定位置對(duì)應(yīng)于光程差為零的平衡位置,，并在該位置白光輸出光強(qiáng)度具有最大值,，并通過探測(cè)該光強(qiáng)最大值，可實(shí)現(xiàn)樣品表面位移的精密測(cè)量,。此外,，白光光源具有系統(tǒng)抗干擾能力強(qiáng)、穩(wěn)定性好且動(dòng)態(tài)范圍大,、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,，成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。因此,，白光垂直掃描干涉,、白光反射光譜等基于白光干涉的光學(xué)測(cè)量技術(shù)在薄膜三維形貌測(cè)量、薄膜厚度精密測(cè)量等領(lǐng)域得以廣泛應(yīng)用,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的大范圍測(cè)量和分析,。滁州膜厚儀產(chǎn)品使用誤區(qū)

白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于電子顯示器中的薄膜厚度測(cè)量。懷化膜厚儀產(chǎn)品使用誤區(qū)

極值法求解過程計(jì)算簡(jiǎn)單,，速度快,，同時(shí)確定薄膜的多個(gè)光學(xué)常數(shù)及解決多值性問題，測(cè)試范圍廣,，但沒有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素,，以至于精度不夠高。此外,，由于受曲線擬合精度的限制,，該方法對(duì)膜厚的測(cè)量范圍有要求，通常用這種方法測(cè)量的薄膜厚度應(yīng)大于200nm且小于10μm,，以確保光譜信號(hào)中的干涉波峰數(shù)恰當(dāng),。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識(shí)來設(shè)置每個(gè)擬合參數(shù)上限、下限,，并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數(shù)及厚度的初始值,，引入適合的色散模型，再根據(jù)麥克斯韋方程組的推導(dǎo),。這樣求得的值自然和實(shí)際的透過率和反射率（通過光學(xué)系統(tǒng)直接測(cè)量的薄膜透射率或反射率）有所不同,，建立評(píng)價(jià)函數(shù)，當(dāng)計(jì)算的透過率/反射率與實(shí)際值之間的偏差小時(shí),，我們就可以認(rèn)為預(yù)設(shè)的初始值就是要測(cè)量的薄膜參數(shù),。懷化膜厚儀產(chǎn)品使用誤區(qū)