光鏡和參考板組成，光源發(fā)出的光經(jīng)過顯微鏡后被分光棱鏡分成兩部分,，一束作為參考光入射到參考鏡并反射,，另一束作為測量光入射到樣品表面被反射，兩束反射光反射到分光棱鏡并發(fā)生干涉,。由于實驗中需要調(diào)節(jié)樣品與被測樣品的角度,，以便更好進(jìn)行測量，5XMichelson型干涉物鏡可以通過其配置的兩個旋鈕進(jìn)行調(diào)節(jié),，旋鈕能夠在較大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)參考鏡角度,，可以調(diào)節(jié)到理想角度,。光纖在測試系統(tǒng)中負(fù)責(zé)傳光，將顯微鏡視場干涉信號傳輸?shù)轿⑿凸庾V儀,。系統(tǒng)選用光纖為海洋光學(xué)公司生產(chǎn)的高級光纖組件,，光纖連接線的內(nèi)層為硅樹脂包裹的單線鋼圈，外層為諾梅克斯編織物,，以求更好地減輕應(yīng)力并起到有效的保護(hù)作用,。該組件末段是易于操作的金屬環(huán)---高精密度的SMA連接器。光纖一端與適配器連接,，另一端與微型光譜儀連接,，以將干涉光信號傳入光譜儀中。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進(jìn)一步提高,。微米級膜厚儀測距

白光掃描干涉法采用白光為光源，壓電陶瓷驅(qū)動參考鏡進(jìn)行掃描,，干涉條紋掃過被測面,，通過感知相干峰位置來獲得表面形貌信息。對于薄膜的測量,，上下表面形貌,、粗糙度、厚度等信息能通過一次測量得到,，但是由于薄膜上下表面的反射,，會使提取出來的白光干涉信號出現(xiàn)雙峰形式，變得更復(fù)雜,。另外,，由于白光掃描法需要掃描過程,，因此測量時間較長而且易受外界干擾?；趫D像分割技術(shù)的薄膜結(jié)構(gòu)測試方法,，實現(xiàn)了對雙峰干涉信號的自動分離,，實現(xiàn)了薄膜厚度的測量,。高速膜厚儀設(shè)備生產(chǎn)總的來說，白光干涉膜厚儀是一種應(yīng)用廣,、具有高精度和可靠性的薄膜厚度測量儀器,。

干涉測量法是一種基于光的干涉原理實現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法,，是一種高精度的測量技術(shù),，其采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)簡單,、成本低廉、穩(wěn)定性高,、抗干擾能力強(qiáng),、使用范圍廣等優(yōu)點,。對于大多數(shù)干涉測量任務(wù)，都是通過分析薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究待測物理量引入的光程差或位相差的變化,，從而實現(xiàn)測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級,，利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10^-3 nm量級,。根據(jù)所使用的光源不同，干涉測量方法可分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類,。激光干涉測量的分辨率更高,，但不能實現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或連續(xù)信號的變化，即只能實現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度測量中得到了廣泛的應(yīng)用,。

自上世紀(jì)60年代起,，利用X及β射線,、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測厚系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于西方先進(jìn)國家的工業(yè)生產(chǎn)線中。到20世紀(jì)70年代后,，為滿足日益增長的質(zhì)檢需求,，電渦流,、電磁電容、超聲波,、晶體振蕩等多種膜厚測量技術(shù)相繼問世,。90年代中期,，隨著離子輔助、離子束濺射,、磁控濺射,、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術(shù)取得巨大突破，以橢圓偏振法和光度法為展示的光學(xué)檢測技術(shù)以高精度,、低成本,、輕便環(huán)保、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新,，迅速占領(lǐng)日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場,，并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個性化定制產(chǎn)品的能力。其中,，對于市場份額占比較大的微米級薄膜,，除要求測量系統(tǒng)不僅具有百納米級的測量準(zhǔn)確度及分辨力以外，還要求測量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場下,，具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力。標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用對于保持儀器準(zhǔn)確度至關(guān)重要,。

由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對系統(tǒng)的測量量程和精度的需求不盡相同,，因而多種測量方法各有優(yōu)劣,，難以一概而論。,，按照薄膜厚度的增加,，適用的測量方式分別為分光光度法,、橢圓偏振法,、共聚焦法和干涉法。對于小于1μm的較薄薄膜,，白光干涉輪廓儀的測量精度較低,，分光光度法和橢圓偏振法較適合,。而對于小于200nm的薄膜,，由于透過率曲線缺少峰谷值,，橢圓偏振法結(jié)果更加可靠,?；诎坠飧缮嬖淼墓鈱W(xué)薄膜厚度測量方案目前主要集中于測量透明或者半透明薄膜，通過使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣,，得到待測薄膜厚度,。本章在詳細(xì)研究白光干涉測量技術(shù)的常用解調(diào)方案、解調(diào)原理及其局限性的基礎(chǔ)上,，分析得到了常用的基于兩個相鄰干涉峰的白光干涉解調(diào)方案不適用于極短光程差測量的結(jié)論,。在此基礎(chǔ)上，我們提出了基于干涉光譜單峰值波長移動的白光干涉測量解調(diào)技術(shù),。操作需要一定的專業(yè)技能和經(jīng)驗,，需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實踐,。納米級膜厚儀品牌企業(yè)

白光干涉膜厚儀的工作原理是基于膜層與底材的反射率及其相位差,，通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度,。微米級膜厚儀測距

白光干涉膜厚儀基于薄膜對白光的反射和透射產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,，通過測量干涉條紋的位置和間距來計算出薄膜的厚度,。這種儀器在光學(xué)薄膜,、半導(dǎo)體,、涂層和其他薄膜材料的生產(chǎn)和研發(fā)過程中具有重要的應(yīng)用價值,。當(dāng)白光照射到薄膜表面時,，部分光線會被薄膜反射,，而另一部分光線會穿透薄膜并在薄膜內(nèi)部發(fā)生多次反射和折射。這些反射和折射的光線會與原始入射光線產(chǎn)生干涉,，形成干涉條紋,。通過測量干涉條紋的位置和間距,，可以推導(dǎo)出薄膜的厚度信息,。白光干涉膜厚儀在光學(xué)薄膜領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,。光學(xué)薄膜是一種具有特殊光學(xué)性質(zhì)的薄膜材料,，廣泛應(yīng)用于激光器、光學(xué)鏡片,、光學(xué)濾波器等光學(xué)元件中,。通過白光干涉膜厚儀可以實現(xiàn)對光學(xué)薄膜厚度的精確測量,，保證光學(xué)薄膜元件的光學(xué)性能。此外,，白光干涉膜厚儀還可以用于半導(dǎo)體行業(yè)中薄膜材料的生產(chǎn)和質(zhì)量控制,，確保半導(dǎo)體器件的性能穩(wěn)定和可靠性,。白光干涉膜厚儀還可以應(yīng)用于涂層材料的生產(chǎn)和研發(fā)過程中,。涂層材料是一種在材料表面形成一層薄膜的工藝，用于增強(qiáng)材料的表面性能,。通過白光干涉膜厚儀可以對涂層材料的厚度進(jìn)行精確測量,，保證涂層的均勻性和穩(wěn)定性,，提高涂層材料的質(zhì)量和性能。微米級膜厚儀測距