干涉測量法是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法,，是一種高精度的測量技術(shù)。采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡單,，成本低廉,，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng)，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),。對于大多數(shù)的干涉測量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化，從而達(dá)到測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級,，而利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級,。根據(jù)所使用光源的不同,，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或者是連續(xù)信號的變化，即只能實(shí)現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實(shí)現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應(yīng)用,。隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴(kuò)展。膜厚儀廠家供應(yīng)

在對目前常用的白光干涉測量方案進(jìn)行比較研究后發(fā)現(xiàn),，當(dāng)兩個(gè)干涉光束的光程差非常小導(dǎo)致干涉光譜只有一個(gè)峰時(shí),，基于相鄰干涉峰間距的解調(diào)方案不再適用。因此,，我們提出了一種基于干涉光譜單峰值波長移動的測量方案,，適用于極小光程差。這種方案利用干涉光譜的峰值波長會隨光程差變化而周期性地出現(xiàn)紅移和藍(lán)移,，當(dāng)光程差在較小范圍內(nèi)變化時(shí),，峰值波長的移動與光程差成正比。我們在光纖白光干涉溫度傳感系統(tǒng)上驗(yàn)證了這一測量方案,，并成功測量出光纖端面半導(dǎo)體鍺薄膜的厚度,。實(shí)驗(yàn)表明，鍺膜厚度為一定值,，與臺階儀測量結(jié)果存在差異是由于薄膜表面本身并不光滑,，臺階儀的測量結(jié)果只能作為參考值。誤差主要來自光源的波長漂移和溫度誤差,。白光干涉膜厚儀膜厚儀的干涉測量能力較高,，可以提供精確和可信的膜層厚度測量結(jié)果。

在激光慣性約束聚變（ICF）物理實(shí)驗(yàn)中,，靶丸殼層折射率,、厚度以及其分布參數(shù)是非常關(guān)鍵的參數(shù)。因此,，實(shí)現(xiàn)對靶丸殼層折射率,、厚度及其分布的精密測量對精密ICF物理實(shí)驗(yàn)研究非常重要,。由于靶丸尺寸微小、結(jié)構(gòu)特殊,、測量精度要求高,，因此如何實(shí)現(xiàn)對靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中的重要內(nèi)容。本文針對這一需求,，開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)研究,。精確測量靶丸殼層折射率、厚度及其分布是激光慣性約束聚變中至關(guān)重要的,，對于ICF物理實(shí)驗(yàn)的研究至關(guān)重要,。由于靶丸特殊的結(jié)構(gòu)和微小的尺寸，以及測量的高精度要求,，如何實(shí)現(xiàn)靶丸殼層折射率及其厚度分布的精密測量是靶參數(shù)測量技術(shù)研究中的重要目標(biāo),。本文就此需求開展了基于白光干涉技術(shù)的靶丸殼層折射率及厚度分布測量技術(shù)的研究。

該文主要研究了以半導(dǎo)體鍺和貴金屬金兩種材料為對象,，實(shí)現(xiàn)納米級薄膜厚度準(zhǔn)確測量的可行性,，主要涉及三種方法，分別是白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法,。由于不同材料薄膜的特性不同，所適用的測量方法也不同,。對于折射率高,，在通信波段（1550nm附近）不透明的半導(dǎo)體鍺膜，選擇采用白光干涉的測量方法,；而對于厚度更薄的金膜,，其折射率為復(fù)數(shù)，且能夠激發(fā)表面等離子體效應(yīng),，因此采用基于表面等離子體共振的測量方法,。為了進(jìn)一步提高測量精度，論文還研究了外差干涉測量法,，通過引入高精度的相位解調(diào)手段并檢測P光和S光之間的相位差來提高厚度測量的精度。這種膜厚儀可以測量大氣壓下,，1 nm到1mm范圍內(nèi)的薄膜厚度,。

白光干涉時(shí)域解調(diào)方案需要借助機(jī)械掃描部件帶動干涉儀的反射鏡移動，補(bǔ)償光程差,，實(shí)現(xiàn)對信號的解調(diào),。光纖白光干涉儀的兩輸出臂分別作為參考臂和測量臂，作用是將待測的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化,。測量臂因待測物理量而增加了一個(gè)未知的光程,，參考臂則通過移動反射鏡來實(shí)現(xiàn)對測量臂引入的光程差的補(bǔ)償,。當(dāng)干涉儀兩臂光程差ΔL=0時(shí)，即兩干涉光束為等光程的時(shí)候,，出現(xiàn)干涉極大值,，可以觀察到中心零級干涉條紋，而這一現(xiàn)象與外界的干擾因素?zé)o關(guān),，因而可據(jù)此得到待測物理量的值,。干擾輸出信號強(qiáng)度的因素包括：入射光功率、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。外界環(huán)境的擾動會影響輸出信號的強(qiáng)度，但是對零級干涉條紋的位置不會產(chǎn)生影響,。它可測量大氣壓下1納米到1毫米范圍內(nèi)的薄膜厚度,。膜厚儀誠信企業(yè)推薦

白光干涉膜厚儀的應(yīng)用非常廣，特別是在半導(dǎo)體,、光學(xué),、電子和化學(xué)等領(lǐng)域。膜厚儀廠家供應(yīng)

由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對測量量程和精度的需求不相同,，因此多種測量方法各有優(yōu)缺點(diǎn),，難以籠統(tǒng)評估。測量特點(diǎn)總結(jié)如表1-1所示,，針對薄膜厚度不同,，適用的測量方法分別為橢圓偏振法、分光光度法,、共聚焦法和干涉法,。對于小于1μm的薄膜，白光干涉輪廓儀的測量精度較低,，分光光度法和橢圓偏振法較為適用,；而對于小于200nm的薄膜，橢圓偏振法結(jié)果更可靠,，因?yàn)橥高^率曲線缺少峰谷值,。光學(xué)薄膜厚度測量方案目前主要集中于測量透明或半透明薄膜。通過使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣,，可以得到待測薄膜厚度,。本章詳細(xì)研究了白光干涉測量技術(shù)的常用解調(diào)方案、解調(diào)原理及其局限性,，并得出了基于兩個(gè)相鄰干涉峰的白光干涉解調(diào)方案不適用于極短光程差測量的結(jié)論,。在此基礎(chǔ)上，提出了一種基于干涉光譜單峰值波長移動的白光干涉測量解調(diào)技術(shù),。膜厚儀廠家供應(yīng)