常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理：入射的白光光束通過半反半透鏡進入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個部分入射到固定參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后,，再次匯聚發(fā)生干涉，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內雙白光光束的干涉圖像,。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描，可獲得一系列干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對應點的光強隨光程差變化曲線,，可得該點的Z向相對位移；然后,，由CCD圖像中每個像素點光強最大值對應的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌,。總結,，白光干涉膜厚儀是一種應用廣,、具有高精度和可靠性的薄膜厚度測量儀器。防水膜厚儀產(chǎn)品原理

干涉測量法是基于光的干涉原理實現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學方法,，是一種高精度的測量技術,。采用光學干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結構簡單，成本低廉,，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強，使用范圍廣等優(yōu)點,。對于大多數(shù)的干涉測量任務,，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化,，從而達到測量目的,。光學干涉測量方法的測量精度可達到甚至優(yōu)于納米量級，而利用外差干涉進行測量,，其精度甚至可以達到10-3nm量級,。根據(jù)所使用光源的不同，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類,。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或者是連續(xù)信號的變化，即只能實現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應用,。防水膜厚儀產(chǎn)品原理操作之前需要專業(yè)技能和經(jīng)驗的培訓和實踐,。

薄膜是一種特殊的微結構，在電子學,、摩擦學,、現(xiàn)代光學等領域得到了廣泛應用，因此薄膜的測試技術變得越來越重要,。尤其是在厚度這一特定方向上,，尺寸很小，基本上都是微觀可測量的,。因此,，在微納測量領域中，薄膜厚度的測試是一個非常重要且實用的研究方向,。在工業(yè)生產(chǎn)中,，薄膜的厚度直接影響薄膜是否能正常工作。在半導體工業(yè)中,，膜厚的測量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質量控制的重要手段,。薄膜的厚度會影響其電磁性能、力學性能和光學性能等,，因此準確地測量薄膜的厚度成為一種關鍵技術,。

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個重要方向，此項技術主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉變成為對不同波長光譜的測量,。通過分析被測物體的光譜特性,，就能夠得到相應的長度信息和形貌信息。相比于白光掃描干涉術,，它不需要大量的掃描過程,，因此提高了測量效率，而且也減小了環(huán)境對它的影響,。此項技術能夠測量距離,、位移、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論，采用白光作為寬波段光源,，經(jīng)過分光棱鏡,，被分成兩束光,，這兩束光分別入射到參考面和被測物體，反射回來后經(jīng)過分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測器,，記錄頻域上的干涉信號。此光譜信號包含了被測表面的信息,，如果此時被測物體是薄膜,，則薄膜的厚度也包含在這光譜信號當中。這樣就把白光干涉的精度和光譜測量的速度結合起來,，形成了一種精度高,、速度快的測量方法。這種膜厚儀可以測量大氣壓下,，1 nm到1mm范圍內的薄膜厚度,。

本文主要研究了如何采用白光干涉法、表面等離子體共振法和外差干涉法來實現(xiàn)納米級薄膜厚度的準確測量,，研究對象為半導體鍺和貴金屬金兩種材料,。由于不同材料薄膜的特性差異，所適用的測量方法也會有所不同,。對于折射率高,，在通信波段（1550nm附近）不透明的半導體鍺膜，采用白光干涉的測量方法,；而對于厚度更薄的金膜,，由于其折射率為復數(shù)，且具有表面等離子體效應,，所以采用基于表面等離子體共振的測量方法會更合適,。為了進一步提高測量精度，本文還研究了外差干涉測量法,，通過引入高精度的相位解調手段來檢測P光與S光之間的相位差,，以提高厚度測量的精度。膜厚儀依賴于膜層和底部材料的反射率和相位差來實現(xiàn)這一目的,。高精度膜厚儀價格

該儀器的工作原理是通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度,，基于反射率和相位差。防水膜厚儀產(chǎn)品原理

干涉測量法是一種基于光的干涉原理實現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學方法,，是一種高精度的測量技術,，其采用光學干涉原理的測量系統(tǒng)具有結構簡單、成本低廉,、穩(wěn)定性高,、抗干擾能力強、使用范圍廣等優(yōu)點。對于大多數(shù)干涉測量任務,，都是通過分析薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究待測物理量引入的光程差或位相差的變化，從而實現(xiàn)測量目的,。光學干涉測量方法的測量精度可達到甚至優(yōu)于納米量級,，利用外差干涉進行測量，其精度甚至可以達到10^-3 nm量級,。根據(jù)所使用的光源不同,，干涉測量方法可分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但不能實現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或連續(xù)信號的變化，即只能實現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度測量中得到了廣泛的應用,。防水膜厚儀產(chǎn)品原理