使用了迭代算法的光譜擬合法，其優(yōu)缺點(diǎn)在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測(cè)量,。其缺點(diǎn)是不夠?qū)嵱茫摲椒ㄐ枰粋€(gè)較好的薄膜的光學(xué)模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng))，但是在實(shí)際測(cè)試過(guò)程中,，薄膜的色散和吸收的公式通常不準(zhǔn)確,，尤其是對(duì)于多層膜體系，建立光學(xué)模型非常困難,，無(wú)法用公式準(zhǔn)確地表示出來(lái),。在實(shí)際應(yīng)用中只能使用簡(jiǎn)化模型，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效。另外該方法的計(jì)算速度慢也不能滿(mǎn)足快速計(jì)算的要求,。白光干涉膜厚儀的工作原理是基于膜層與底材的反射率及其相位差,，通過(guò)測(cè)量反射光的干涉來(lái)計(jì)算膜層厚度。國(guó)內(nèi)膜厚儀供應(yīng)鏈

折射率分別為1．45和1．62的2塊玻璃板,，使其一端相接觸,，形成67的尖劈．將波長(zhǎng)為550nm的單色光垂直投射在劈上，并在上方觀察劈的干涉條紋,，試求條紋間距,。

我們可以分2種可能的情況來(lái)討論：

一般玻璃的厚度可估計(jì)為1mm的量級(jí)，這個(gè)量級(jí)相對(duì)于光的波長(zhǎng)550nm而言,，應(yīng)該算是膜厚e遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于波長(zhǎng)^的厚玻璃了,，所以光線通過(guò)上玻璃板時(shí)應(yīng)該無(wú)干涉現(xiàn)象，同理光線通過(guò)下玻璃板時(shí)也無(wú)干涉現(xiàn)象．空氣膜厚度因劈角很小而很薄,，與波長(zhǎng)可比擬,，所以光線通過(guò)空氣膜應(yīng)該有干涉現(xiàn)象，在空氣膜的下表面處有一半波損失,，故光程差應(yīng)該為2n₂e+λ/2．

(2)假設(shè)玻璃板厚度的量級(jí)與可見(jiàn)光波長(zhǎng)量級(jí)可比擬,，當(dāng)單色光垂直投射在劈尖上時(shí)，上玻璃板能滿(mǎn)足形成薄膜干涉的條件,，其光程差為2n2e+λ/2,，下玻璃板也能滿(mǎn)足形成薄膜于涉的條件，光程差為2n₁h+λ／2,，但由于玻璃板膜厚均勻,，h不變，人射角i=儼也不變,，故玻璃板形成的薄膜干涉為等傾又等厚干涉條紋,，要么玻璃板全亮,，要么全暗，它不會(huì)影響空氣劈尖干涉條紋的位置和條紋間距,?？諝馀飧缮婀獬滩钊詾?n2e+λ/2，但玻璃板會(huì)影響劈尖干涉條紋的亮度對(duì)比度． 薄膜干涉膜厚儀位移計(jì)它可以用不同的軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)處理和分析,，比如建立數(shù)據(jù)庫(kù),、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等。

干涉法測(cè)量可表述為：白光干涉光譜法主要利用光的干涉原理和光譜分光原理,，利用光在不同波長(zhǎng)處的干涉光強(qiáng)進(jìn)行求解,。光源出射的光經(jīng)分光棱鏡分成兩束，其中一束入射到參考鏡,，另一束入射到測(cè)量樣品表面,，兩束光均發(fā)生反射并入射到分光棱鏡，此時(shí)這兩束光會(huì)發(fā)生干涉,。干涉光經(jīng)光譜儀采集得到白光光譜干涉信號(hào),，經(jīng)由計(jì)算機(jī)處理數(shù)據(jù)、顯示結(jié)果變化,，之后讀出厚度值或變化量,。如何建立一套基于白光干涉法的晶圓膜厚測(cè)量裝置，對(duì)于晶圓膜厚測(cè)量具有重要意義,，設(shè)備價(jià)格,、空間大小、操作難易程度都是其影響因素,。

在納米級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過(guò)程中重要的參量之一，具有決定薄膜性質(zhì)和性能的基本作用,。然而,，由于其極小尺寸及突出的表面效應(yīng)，使得對(duì)納米級(jí)薄膜的厚度準(zhǔn)確測(cè)量變得困難,。經(jīng)過(guò)眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測(cè)量理論和測(cè)量技術(shù)不斷涌現(xiàn)，測(cè)量方法從手動(dòng)到自動(dòng),、有損到無(wú)損不斷得到實(shí)現(xiàn),。對(duì)于不同性質(zhì)薄膜，其適用的厚度測(cè)量方案也不相同,。針對(duì)納米級(jí)薄膜,，應(yīng)用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù)。相比其他方法,，光學(xué)測(cè)量方法具有精度高,、速度快,、無(wú)損測(cè)量等優(yōu)勢(shì)，成為主要檢測(cè)手段,。其中代表性的測(cè)量方法有橢圓偏振法,、干涉法、光譜法,、棱鏡耦合法等,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)不同材料的薄膜進(jìn)行測(cè)量；

干涉測(cè)量法是一種基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度測(cè)量的光學(xué)方法,，是一種高精度的測(cè)量技術(shù),，其采用光學(xué)干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低廉,、穩(wěn)定性高,、抗干擾能力強(qiáng)、使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),。對(duì)于大多數(shù)干涉測(cè)量任務(wù),，都是通過(guò)分析薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律，來(lái)研究待測(cè)物理量引入的光程差或位相差的變化,，從而實(shí)現(xiàn)測(cè)量目的,。光學(xué)干涉測(cè)量方法的測(cè)量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級(jí),，利用外差干涉進(jìn)行測(cè)量,，其精度甚至可以達(dá)到10^-3 nm量級(jí)。根據(jù)所使用的光源不同,，干涉測(cè)量方法可分為激光干涉測(cè)量和白光干涉測(cè)量?jī)纱箢?lèi),。激光干涉測(cè)量的分辨率更高，但不能實(shí)現(xiàn)對(duì)靜態(tài)信號(hào)的測(cè)量,，只能測(cè)量輸出信號(hào)的變化量或連續(xù)信號(hào)的變化,，即只能實(shí)現(xiàn)相對(duì)測(cè)量。而白光干涉是通過(guò)對(duì)干涉信號(hào)中心條紋的有效識(shí)別來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)物理量的測(cè)量,，是一種測(cè)量方式,，在薄膜厚度測(cè)量中得到了廣泛的應(yīng)用。隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴(kuò)展,。薄膜干涉膜厚儀測(cè)厚度

它可測(cè)量大氣壓下1納米到1毫米范圍內(nèi)的薄膜厚度。國(guó)內(nèi)膜厚儀供應(yīng)鏈

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,，提供一種基于白光干涉法的晶圓膜厚測(cè)量裝置,。該裝置包括白光光源、顯微鏡,、分束鏡,、干涉物鏡,、光纖傳輸單元、準(zhǔn)直器,、光譜儀,、USB傳輸線、計(jì)算機(jī),。光譜儀主要包括六部分,，分別是：光纖入口、準(zhǔn)直鏡,、光柵,、聚焦鏡、區(qū)域檢測(cè)器,、帶OFLV濾波器的探測(cè)器,。測(cè)量具體步驟為：白光光源發(fā)出白光，經(jīng)由光纖,，通過(guò)光纖探頭垂直入射至晶圓表面,，樣品薄膜上表面和下表面反射光相干涉形成的干涉譜，由反射光纖探頭接收,，再由光纖傳送到光譜儀,，光譜儀連續(xù)記錄反射信號(hào)，通過(guò)USB線將測(cè)量數(shù)據(jù)傳輸?shù)诫娔X,?？梢詫?shí)現(xiàn)對(duì)晶圓膜厚的無(wú)損測(cè)量，時(shí)間快,、設(shè)備小巧,、操作簡(jiǎn)單、精度高,，適合實(shí)驗(yàn)室檢測(cè),。國(guó)內(nèi)膜厚儀供應(yīng)鏈