薄膜是一種特殊的二維材料,，由分子,、原子或離子沉積在基底表面形成。近年來,，隨著材料科學(xué)和鍍膜技術(shù)的不斷發(fā)展,，厚度在納米量級(jí)（幾納米到幾百納米范圍內(nèi)）的薄膜研究和應(yīng)用迅速增加。與體材料相比,，納米薄膜的尺寸很小,，表面積與體積的比值增大，因而表面效應(yīng)所表現(xiàn)出來的性質(zhì)非常突出,，對于光學(xué)性質(zhì)和電學(xué)性質(zhì)等具有許多獨(dú)特的表現(xiàn)。納米薄膜在傳統(tǒng)光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用越來越廣,，尤其是在光通訊,、光學(xué)測量、傳感,、微電子器件,、醫(yī)學(xué)工程等領(lǐng)域有更為廣闊的應(yīng)用前景。操作需要一定的專業(yè)素養(yǎng)和經(jīng)驗(yàn),，需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實(shí)踐,。薄膜干涉膜厚儀位移計(jì)

目前，常用的顯微干涉方式主要有Mirau和Michelson兩種方式,。Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)中,，物鏡和被測樣品之間有兩塊平板，一塊涂覆高反射膜的平板作為參考鏡,，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡,。由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間，物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對較短,，倍率一般為10-50倍。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,，因此不存在額外的光程差,，因此是常用的顯微干涉測量方法之一,。Mirau顯微干涉結(jié)構(gòu)中，參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，且物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對較短，倍率一般為10-50倍,。Mirau顯微干涉物鏡的參考端使用與測量端相同的顯微物鏡,，因此不存在額外的光程差，同時(shí)該結(jié)構(gòu)具有高分辨率和高靈敏度等特點(diǎn),，適用于微小樣品的測量,。因此，在生物醫(yī)學(xué),、半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,。高精度膜厚儀測量方法高精度的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu)。

本文溫所研究的鍺膜厚度約300nm,，導(dǎo)致其白光干涉輸出光譜只有一個(gè)干涉峰,，此時(shí)常規(guī)基于相鄰干涉峰間距解調(diào)的方案（如峰峰值法等）將不再適用。為此,，我們提出了一種基于單峰值波長移動(dòng)的白光干涉測量方案,，并設(shè)計(jì)搭建了膜厚測量系統(tǒng)。溫度測量實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,，峰值波長與溫度變化之間具有良好的線性關(guān)系,。利用該測量方案，我們測得實(shí)驗(yàn)用鍺膜的厚度為338.8nm,，實(shí)驗(yàn)誤差主要來自于溫度控制誤差和光源波長漂移,。通過對納米級(jí)薄膜厚度的測量方案研究，實(shí)現(xiàn)了對鍺膜和金膜的厚度測量,。本文主要的創(chuàng)新點(diǎn)是提出了白光干涉單峰值波長移動(dòng)的解調(diào)方案,，并將其應(yīng)用于極短光程差的測量。

白光干涉在零光程差處,，出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋（在零級(jí)處,，各波長光的干涉亮條紋都重合，因而零級(jí)條紋呈白色）,，隨著光程差的增加,，光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線各自形成的干涉條紋之間互有偏移，疊加的整體效果使條紋對比度下降,。測量精度高,，可以實(shí)現(xiàn)測量,采用白光干涉原理的測量系統(tǒng)的抗干擾能力強(qiáng)，動(dòng)態(tài)范圍大，具有快速檢測和結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn),。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別,，但也有很多的共同之處?？梢哉f,，白光干涉實(shí)際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加，在頻域上觀察到的就是不同波長對應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的非接觸式測量,。

白光掃描干涉法利用白光作為光源,，通過壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)參考鏡進(jìn)行掃描，將干涉條紋掃過被測面,，并通過感知相干峰位置來獲取表面形貌信息,。測量原理如圖1-5所示。然而,，在對薄膜進(jìn)行測量時(shí),，其上下表面的反射會(huì)導(dǎo)致提取出的白光干涉信號(hào)呈現(xiàn)雙峰形式,，變得更為復(fù)雜。此外,，由于白光掃描干涉法需要進(jìn)行掃描過程,，因此測量時(shí)間較長,，且易受外界干擾,。基于圖像分割技術(shù)的薄膜結(jié)構(gòu)測試方法能夠自動(dòng)分離雙峰干涉信號(hào),，從而實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度的測量,?？梢耘浜喜煌能浖M(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等,。高精度膜厚儀測量方法

增加光路長度可以提高儀器分辨率，但同時(shí)也會(huì)更容易受到振動(dòng)等干擾,，需要采取降噪措施,。薄膜干涉膜厚儀位移計(jì)

膜厚儀是一種用于測量薄膜厚度的儀器，它的測量原理是通過光學(xué)干涉原理來實(shí)現(xiàn)的,。在測量過程中，薄膜表面發(fā)生的光學(xué)干涉現(xiàn)象被用來計(jì)算出薄膜的厚度,。具體來說,，膜厚儀通過發(fā)射一束光線照射到薄膜表面，并測量反射光的干涉現(xiàn)象來確定薄膜的厚度,。膜厚儀的測量原理非常精確和可靠，因此在許多領(lǐng)域都可以得到廣泛的應(yīng)用,。首先，薄膜工業(yè)是膜厚儀的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一,。在薄膜工業(yè)中，膜厚儀可以用來測量各種類型的薄膜,，例如光學(xué)薄膜,、涂層薄膜,、導(dǎo)電薄膜等,。通過膜厚儀的測量,，可以確保生產(chǎn)出的薄膜具有精確的厚度和質(zhì)量,，從而滿足不同行業(yè)的需求,。其次,，在電子行業(yè)中，膜厚儀也扮演著重要的角色,。例如，在半導(dǎo)體制造過程中,，膜厚儀可以用來測量各種薄膜層的厚度，以確保芯片的制造質(zhì)量和性能,。此外，膜厚儀還可以應(yīng)用于顯示器件,、光伏電池,、電子元件等領(lǐng)域，為電子產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵的技術(shù)支持,。除此之外,，膜厚儀還可以在材料科學(xué),、化工,、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域中發(fā)揮作用,。例如，在材料科學(xué)研究中，膜厚儀可以用來測量不同材料的薄膜厚度,，從而幫助科研人員了解材料的性能和特性,。在化工生產(chǎn)中,，膜厚儀可以用來監(jiān)測涂層薄膜的厚度,，以確保產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性,。薄膜干涉膜厚儀位移計(jì)