光譜法是以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的一種薄膜厚度測量方法 ,，分為反射法和透射法兩類[12]。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會引起多光束干涉效應(yīng)，不同特性的薄膜材料的反射率和透過率曲線是不同的,，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度之間是一一對應(yīng)關(guān)系,。因此，根據(jù)這一光譜特性可以得到薄膜的厚度以及光學(xué)參數(shù),。光譜法的優(yōu)點(diǎn)是可以同時測量多個參數(shù)且可以有效的排除解的多值性,，測量范圍廣，是一種無損測量技術(shù),；缺點(diǎn)是對樣品薄膜表面條件的依賴性強(qiáng),，測量穩(wěn)定性較差，因而測量精度不高,；對于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等,。目前，這種方法主要應(yīng)用于有機(jī)薄膜的厚度測量,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的非接觸式測量,。薄膜膜厚儀能測什么

干涉法作為面掃描方式可以一次性對薄膜局域內(nèi)的厚度進(jìn)行解算 ，適用于對面型整體形貌特征要求較高的測量對象,。干涉法算法在于相位信息的提取,，借助多種復(fù)合算法通常可以達(dá)到納米級的測量準(zhǔn)確度,。然而主動干涉法對條紋穩(wěn)定性不佳,，光學(xué)元件表面的不清潔、光照度不均勻,、光源不穩(wěn)定,、外界氣流震動干擾等因素均可能影響干涉圖的完整性[39]，使干涉圖樣中包含噪聲和部分區(qū)域的陰影,，給后期處理帶來困難,。除此之外，干涉法系統(tǒng)精度的來源——精密移動及定位部件也增加了系統(tǒng)的成本,，高精度的干涉儀往往較為昂貴,。薄膜膜厚儀能測什么白光干涉膜厚測量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進(jìn)行測量。

光纖白光干涉測量使用的是寬譜光源 ,。光源的輸出光功率和中心波長的穩(wěn)定性是光源選取時需要重點(diǎn)考慮的參數(shù),。論文所設(shè)計(jì)的解調(diào)系統(tǒng)是通過檢測干涉峰值的中心波長的移動實(shí)現(xiàn)的，所以光源中心波長的穩(wěn)定性將對實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生很大的影響,。實(shí)驗(yàn)中我們所選用的光源是由INPHENIX公司生產(chǎn)的SLED光源,，相對于一般的寬帶光源具有輸出功率高、覆蓋光譜范圍寬等特點(diǎn),。該光源采用+5V的直流供電,，標(biāo)定中心波長為1550nm,，且其輸出功率在一定范圍內(nèi)是可調(diào)的，驅(qū)動電流可以達(dá)到600mA,。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理 ：入射的白光光束通過半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個部分入射到固定的參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后，再次匯聚發(fā)生干涉,，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內(nèi)雙白光光束的干涉圖像。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描,，可獲得一系列的干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對應(yīng)點(diǎn)的光強(qiáng)隨光程差變化曲線，可得該點(diǎn)的Z向相對位移,；然后,，由CCD圖像中每個像素點(diǎn)光強(qiáng)最大值對應(yīng)的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于電子工業(yè)中的薄膜電阻率測量,；

干涉測量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法 ,，是一種高精度的測量技術(shù)。采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡單,，成本低廉，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng),，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。對于大多數(shù)的干涉測量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化，從而達(dá)到測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級,，而利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級[11],。根據(jù)所使用光源的不同,，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對靜態(tài)信號的測量,，只能測量輸出信號的變化量或者是連續(xù)信號的變化，即只能實(shí)現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號中心條紋的有效識別來實(shí)現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式,，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應(yīng)用。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的在線檢測和控制,；膜厚儀產(chǎn)品使用誤區(qū)

廣泛應(yīng)用于電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、化學(xué)等領(lǐng)域,，為研究和開發(fā)提供了有力的手段。薄膜膜厚儀能測什么

利用包絡(luò)線法計(jì)算薄膜的光學(xué)常數(shù)和厚度 ,，但目前看來包絡(luò)法還存在很多不足,，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動，要求在測量波段內(nèi)存在多個干涉極值點(diǎn),，且干涉極值點(diǎn)足夠多,，精度才高。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點(diǎn)建立的,，在沒有正確方法建立包絡(luò)線時,，通常使用拋物線插值法建立，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對測量對象要求高,，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會造成干涉條紋減少,，干涉波峰個數(shù)較少,，要利用干涉極值點(diǎn)建立包絡(luò)線就越困難，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準(zhǔn)確度,。其次，薄膜吸收的強(qiáng)弱也會影響該方法的準(zhǔn)確度,，對于吸收較強(qiáng)的薄膜,，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線,，該方法就不再適用,。因此，包絡(luò)法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品,。薄膜膜厚儀能測什么