光譜擬合法易于應(yīng)用于測(cè)量,，但由于使用了迭代算法,，因此其優(yōu)缺點(diǎn)在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著遺傳算法、模擬退火算法等全局優(yōu)化算法的引入,，被用于測(cè)量薄膜參數(shù),。該方法需要一個(gè)較好的薄膜光學(xué)模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng))，但實(shí)際測(cè)試過程中薄膜的色散和吸收的公式通常不準(zhǔn)確,，特別是對(duì)于多層膜體系,，建立光學(xué)模型非常困難，無法用公式準(zhǔn)確地表示出來,。因此,，通常使用簡(jiǎn)化模型，全光譜擬合法在實(shí)際應(yīng)用中不如極值法有效,。此外,，該方法的計(jì)算速度慢，不能滿足快速計(jì)算的要求,。精度高的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu)。白光干涉膜厚儀找誰

在納米級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過程中重要的參量之一,，具有決定薄膜性質(zhì)和性能的基本作用。然而,，由于其極小尺寸及突出的表面效應(yīng),，使得對(duì)納米級(jí)薄膜的厚度準(zhǔn)確測(cè)量變得困難。經(jīng)過眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測(cè)量理論和測(cè)量技術(shù)不斷涌現(xiàn),，測(cè)量方法從手動(dòng)到自動(dòng)、有損到無損不斷得到實(shí)現(xiàn),。對(duì)于不同性質(zhì)薄膜,，其適用的厚度測(cè)量方案也不相同。針對(duì)納米級(jí)薄膜,，應(yīng)用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù),。相比其他方法，光學(xué)測(cè)量方法具有精度高,、速度快,、無損測(cè)量等優(yōu)勢(shì),，成為主要檢測(cè)手段。其中代表性的測(cè)量方法有橢圓偏振法,、干涉法,、光譜法、棱鏡耦合法等,。高精度膜厚儀找誰白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的在線檢測(cè)和控制,；

自上世紀(jì)60年代起 ，利用X及β射線,、近紅外光源開發(fā)的在線薄膜測(cè)厚系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于西方先進(jìn)國(guó)家的工業(yè)生產(chǎn)線中,。20世紀(jì)70年代后，為滿足日益增長(zhǎng)的質(zhì)檢需求,，電渦流,、電磁電容、超聲波,、晶體振蕩等多種膜厚測(cè)量技術(shù)相繼問世,。90年代中期，隨著離子輔助,、離子束濺射,、磁控濺射、凝膠溶膠等新型薄膜制備技術(shù)取得巨大突破,，以橢圓偏振法和光度法為展示的光學(xué)檢測(cè)技術(shù)以高精度,、低成本、輕便環(huán)保,、高速穩(wěn)固為研發(fā)方向不斷迭代更新,，迅速占領(lǐng)日用電器及工業(yè)生產(chǎn)市場(chǎng)，并發(fā)展出依據(jù)用戶需求個(gè)性化定制產(chǎn)品的能力,。其中,，對(duì)于市場(chǎng)份額占比較大的微米級(jí)薄膜，除要求測(cè)量系統(tǒng)不僅具有百納米級(jí)的測(cè)量準(zhǔn)確度及分辨力以外,，還要求測(cè)量系統(tǒng)在存在不規(guī)則環(huán)境干擾的工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)下,，具備較高的穩(wěn)定性和抗干擾能力。

光學(xué)測(cè)厚方法集光學(xué) ,、機(jī)械,、電子、計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)為一體,，以其光波長(zhǎng)為測(cè)量基準(zhǔn),，從原理上保證了納米級(jí)的測(cè)量精度。同時(shí),，光學(xué)測(cè)厚作為非接觸式的測(cè)量方法,，被廣泛應(yīng)用于精密元件表面形貌及厚度的無損測(cè)量,。其中，薄膜厚度光學(xué)測(cè)量方法按光吸收,、透反射,、偏振和干涉等光學(xué)原理可分為分光光度法、橢圓偏振法,、干涉法等多種測(cè)量方法,。不同的測(cè)量方法，其適用范圍各有側(cè)重,，褒貶不一,。因此結(jié)合多種測(cè)量方法的多通道式復(fù)合測(cè)量法也有研究，如橢圓偏振法和光度法結(jié)合的光譜橢偏法,，彩色共焦光譜干涉和白光顯微干涉的結(jié)合法等,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用至關(guān)重要,。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理：入射的白光光束通過半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個(gè)部分入射到固定參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后，再次匯聚發(fā)生干涉,，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測(cè)整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)雙白光光束的干涉圖像。利用Z向精密位移臺(tái)帶動(dòng)干涉鏡頭或樣品臺(tái)Z向掃描,，可獲得一系列干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光強(qiáng)隨光程差變化曲線，可得該點(diǎn)的Z向相對(duì)位移,；然后，由CCD圖像中每個(gè)像素點(diǎn)光強(qiáng)最大值對(duì)應(yīng)的Z向位置獲得被測(cè)樣品表面的三維形貌,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量,。納米級(jí)膜厚儀找哪家

白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進(jìn)行分析和數(shù)據(jù)處理，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)等,。白光干涉膜厚儀找誰

采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時(shí) ，被測(cè)光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率,。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長(zhǎng)信息即可得出光程差,，不必關(guān)心此波長(zhǎng)處的光強(qiáng)大小，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度,。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)來分別求出光程差,，然后再求平均值作為測(cè)量光程差,，這樣可以提高該方法的測(cè)量精度。但是,，峰峰值法存在著一些缺點(diǎn)：當(dāng)使用寬帶光源作為輸入光源時(shí),，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,，從而引起峰值處波長(zhǎng)的改變,，引入測(cè)量誤差。同時(shí),，當(dāng)兩干涉信號(hào)之間的光程差很小,，導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰的時(shí)候,，此法便不再適用。白光干涉膜厚儀找誰